Invention Grant
- Patent Title: 一种体掺杂金刚石基常关型场效应晶体管及其制备方法
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Application No.: CN201811074396.9Application Date: 2018-09-14
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Publication No.: CN109378312BPublication Date: 2020-08-18
- Inventor: 王玮 , 王宏兴 , 问峰 , 王艳丰 , 张明辉 , 林芳 , 张景文 , 卜忍安 , 侯洵
- Applicant: 西安交通大学
- Applicant Address: 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
- Assignee: 西安交通大学
- Current Assignee: 西安交通大学
- Current Assignee Address: 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号
- Agency: 西安通大专利代理有限责任公司
- Agent 徐文权
- Main IPC: H01L27/095
- IPC: H01L27/095 ; H01L29/16 ; H01L29/167 ; H01L21/338 ; H01L29/812

Abstract:
本发明公开了一种体掺杂金刚石基常关型场效应晶体管及其制备方法,包含金刚石衬底;金刚石衬底上设有一层单晶金刚石外延薄膜;单晶金刚石外延薄膜上设置有体掺杂单晶外延薄膜和刻蚀区域,刻蚀区域为高肖特基势垒终端;体掺杂单晶外延薄膜上设置有沟道区域;沟道区域包括体掺杂单晶外延薄膜作为导电沟道,且为低肖特基势垒终端;源电极和漏电极处于沟道区域的两侧;源电极和漏电极之间刻蚀区域及沟道区域上设置栅电极。本发明为常关型场效应晶体管,利用体掺杂外延单晶金刚石材料作为导电沟道使用,可发挥金刚石材料耐高温、抗辐射和可在恶略环境工作等优势。
Public/Granted literature
- CN109378312A 一种体掺杂金刚石基常关型场效应晶体管及其制备方法 Public/Granted day:2019-02-22
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