发明公开
CN109477214A 可流动含硅膜的沉积
审中-实审
- 专利标题： 可流动含硅膜的沉积
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申请号： CN201780044398.0申请日： 2017-07-19
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公开(公告)号： CN109477214A公开(公告)日： 2019-03-15
- 发明人: L·卡鲁塔拉格 , M·萨利 , D·汤普森 , A·B·玛里克 , T·阿肖克 , P·曼纳
- 申请人： 应用材料公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理商 侯颖媖; 钱慰民
- 优先权： 62/364,273 2016.07.19 US
- 国际申请： PCT/US2017/042811 2017.07.19
- 国际公布： WO2018/017684 EN 2018.01.25
- 进入国家日期： 2019-01-17
- 主分类号： C23C16/30
- IPC分类号： C23C16/30 ; C23C16/40 ; C23C16/36 ; C23C16/34 ; C23C16/32 ; C23C16/50 ; C23C16/56 ; H01L21/762 ; H01L21/02
摘要：
描述了用于无缝间隙填充的方法，包括通过将基板表面暴露于含硅前驱物和共反应物来形成可流动膜。所述含硅前驱物具有至少一个烯基或炔基。可通过任何合适的固化工艺固化所述可流动膜，以形成无缝间隙填充。
IPC分类:
