利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明公开
CN110060942A 基板处理装置、基板处理系统以及处理基板的方法 审中-实审

基板处理装置、基板处理系统以及处理基板的方法
摘要：
本公开提供了基板处理装置、基板处理系统以及处理基板的方法。该基板处理系统可以包括构造为用超临界流体处理基板的处理装置以及构造为提供超临界流体到处理装置的供给装置。处理装置可以包括超临界工艺区和预超临界工艺区，在该超临界工艺区中基板用超临界流体处理，在预超临界工艺区中超临界流体膨胀然后被提供到超临界工艺区中以在超临界工艺区中产生超临界状态。
摘要（英）：

The invention provides a substrate treatment apparatus, a substrate treatment system and a substrate treatment method. Disclosed herein is the substrate processing system. The substrate processing system comprises a processing apparatus using a supercritical fluid, and a supplying apparatus supplying the supercritical fluid to the processing apparatus. The processing apparatus comprises the following parts: a supercritical processing area for the substrate that uses the supercritical fluid; a pre-supercritical processing area causing the supercritical processing area into a supercritical state, wherein the supercritical fluid is provided to the supercritical processing area after the supercritical fluid expands.

公开/授权文献
0/0