- 专利标题: 一种负电容场效应晶体管及其制备方法、一种半导体器件
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申请号: CN202110232822.2申请日: 2021-03-03
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公开(公告)号: CN113178491B公开(公告)日: 2024-07-16
- 发明人: 殷华湘 , 张青竹 , 张兆浩 , 曹磊 , 顾杰
- 申请人: 中国科学院微电子研究所
- 申请人地址: 北京市朝阳区北土城西路3号
- 专利权人: 中国科学院微电子研究所
- 当前专利权人: 中国科学院微电子研究所
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区北土城西路3号
- 代理机构: 北京辰权知识产权代理有限公司
- 代理商 佟林松
- 主分类号: H01L29/78
- IPC分类号: H01L29/78 ; H01L29/06 ; H01L29/423 ; H01L21/336
摘要:
本发明涉及一种负电容场效应晶体管及其制备方法、一种半导体器件,负电容场效应晶体管包括:衬底;纳米片堆栈部,其设置在所述衬底上,形成多个导电沟道;纳米片堆栈部包括:纳米片形成的叠层及位于相邻纳米片之间的支撑结构,支撑结构是第一半导体形成的,纳米片是第二半导体形成的;所述纳米片的宽度大于支撑结构的宽度;环绕式栅极,其环绕于纳米堆栈部周围;所述环绕式栅极包括铁电层。负电容场效应晶体管可以显著降低器件的亚阈值摆幅;同时多层堆叠的纳米片结构可以增加负电容场效应晶体管的工作电流和栅控性能;具由支撑结构的纳米片降低了多层栅介质在纳米片间的填充要求,并可以有效减小器件的漏电特性。
公开/授权文献
- CN113178491A 一种负电容场效应晶体管及其制备方法、一种半导体器件 公开/授权日:2021-07-27
IPC分类: