发明公开
- 专利标题: 垂直结构的深紫外LED芯片、制造方法与外延结构
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申请号: CN202110717833.X申请日: 2021-06-28
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公开(公告)号: CN113611779A公开(公告)日: 2021-11-05
- 发明人: 范伟宏 , 毕京锋 , 郭茂峰 , 李士涛 , 赵进超 , 石时曼 , 金全鑫
- 申请人: 厦门士兰明镓化合物半导体有限公司
- 申请人地址: 福建省厦门市海沧区兰英路99号
- 专利权人: 厦门士兰明镓化合物半导体有限公司
- 当前专利权人: 厦门士兰明镓化合物半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 福建省厦门市海沧区兰英路99号
- 代理机构: 北京成创同维知识产权代理有限公司
- 代理商 蔡纯; 杨思雨
- 主分类号: H01L33/00
- IPC分类号: H01L33/00 ; H01L33/06 ; H01L33/08 ; H01L33/14 ; H01L33/36 ; H01L33/44 ; H01L33/46
摘要:
本申请公开了一种垂直结构的深紫外LED芯片、制造方法与外延结构,该制造方法包括:在蓝宝石衬底上形成外延结构,外延结构具有第一表面与第二表面,第二表面与蓝宝石衬底相连;将外延结构分隔为阵列排布的多个外延单元,部分蓝宝石衬底在相邻的外延单元之间暴露;在相邻的外延单元之间暴露的蓝宝石衬底上形成粘附层;将第二衬底键合固定在外延结构的第一表面上方;激光剥离蓝宝石衬底;以及去除粘附层。该制造方法通过将外延结构分隔为阵列排布的多个外延单元,从而改善了由于高能量密度激光剥离瞬间产生的强烈冲击对外延结构造成严重损伤的问题。
公开/授权文献
- CN113611779B 垂直结构的深紫外LED芯片、制造方法与外延结构 公开/授权日:2023-09-08
IPC分类: