发明授权
- 专利标题： 用于电镀单元的低角度膜框架
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申请号： CN202080062180.X申请日： 2020-09-02
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公开(公告)号： CN114341404B公开(公告)日： 2024-11-08
- 发明人: 弗雷德里克·迪恩·威尔莫特 , 罗伯特·拉什 , 尼马尔·尚卡尔·西格玛尼 , 加布里埃尔·格拉哈姆
- 申请人： 朗姆研究公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人： 朗姆研究公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海胜康律师事务所
- 代理商 樊英如; 张静
- 国际申请： PCT/US2020/048972 2020.09.02
- 国际公布： WO2021/046068 EN 2021.03.11
- 进入国家日期： 2022-03-03
- 主分类号： C25D17/00
- IPC分类号： C25D17/00 ; C25D21/00 ; C25D7/12
摘要：
一种处理衬底的单元包括至少一个室壁、膜框架和膜。至少一个室壁布置成在衬底的保持器下方形成腔体。膜框架设置在至少一个室壁上并横跨腔体。膜由膜框架支撑并将第一电解质与第二电解质隔开。膜包括从腔体的中心以相对于参考平面的角度径向向外延伸的表面，并且其中该角度大于或等于0°且小于或等于3°。
公开/授权文献
- CN114341404A 用于电镀单元的低角度膜框架 公开/授权日：2022-04-12
