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公开(公告)号：CN114341404B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202080062180.X
申请日：2020-09-02
申请人： 朗姆研究公司
发明人： 弗雷德里克·迪恩·威尔莫特 , 罗伯特·拉什 , 尼马尔·尚卡尔·西格玛尼 , 加布里埃尔·格拉哈姆
摘要： 一种处理衬底的单元包括至少一个室壁、膜框架和膜。至少一个室壁布置成在衬底的保持器下方形成腔体。膜框架设置在至少一个室壁上并横跨腔体。膜由膜框架支撑并将第一电解质与第二电解质隔开。膜包括从腔体的中心以相对于参考平面的角度径向向外延伸的表面，并且其中该角度大于或等于0°且小于或等于3°。
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公开(公告)号：CN118829748A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202380025702.2
申请日：2023-03-05
申请人： 朗姆研究公司
摘要： 电镀装置包括阳极室流动回路。阳极室流动回路包括阳极室，该阳极室容纳阳极电解质溶液和阳极。流量计将阳极电解质溶液成分投配到阳极室流动回路中。第一阀歧管向流量计供应阳极电解质溶液的成分。第一阀歧管包括第一截止阀和第二截止阀，该第一截止阀可操作以选择性地将水源流体耦合到流量计，该第二截止阀可操作以将酸源和主体无机电镀成分源流体耦合到流量计。第二阀歧管流体耦合到第二截止阀，且包括第三截止阀和第四截止阀，该第三截止阀可操作以将主体无机电镀成分源流体耦合到第一阀歧管，该第四截止阀可操作以将酸源流体耦合到第一阀歧管。
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公开(公告)号：CN114341404A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080062180.X
申请日：2020-09-02
申请人： 朗姆研究公司
发明人： 弗雷德里克·迪恩·威尔莫特 , 罗伯特·拉什 , 尼马尔·尚卡尔·西格玛尼 , 加布里埃尔·格拉哈姆
摘要： 一种处理衬底的单元包括至少一个室壁、膜框架和膜。至少一个室壁布置成在衬底的保持器下方形成腔体。膜框架设置在至少一个室壁上并横跨腔体。膜由膜框架支撑并将第一电解质与第二电解质隔开。膜包括从腔体的中心以相对于参考平面的角度径向向外延伸的表面，并且其中该角度大于或等于0°且小于或等于3°。
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公开(公告)号：CN111247633A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN201880068336.8
申请日：2018-10-15
申请人： 朗姆研究公司
发明人： 卡利·托尔凯尔森 , 尼马尔·尚卡尔·西格玛尼 , 布莱恩·L·巴卡柳 , 史蒂文·T·迈耶 , 托马斯·阿南德·波努司瓦米
IPC分类号： H01L21/768 , H01L21/288 , H01L21/56 , H01L23/00
摘要： 提供了将金属电镀至衬底上的部分已制成的电子器件的特征内的方法。该方法包括：(a)在使特征接触具有第一组合物且包含金属离子的第一电镀浴时，将金属电镀进特征中，以通过由下往上填充的机制来部分填充特征；在(b)之后，在特征接触具有不同于第一组合物的第二组合物且包含金属离子的第二电镀浴时，将更多金属电镀到特征内，以进一步填充特征；以及(c)将衬底从执行操作(b)的电镀工具中移开。
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