发明公开
- 专利标题： 一种硅片用超声波清洗装置及清洗方法
-
申请号： CN202211074786.2申请日： 2022-09-02
-
公开(公告)号： CN115463894A公开(公告)日： 2022-12-13
- 发明人: 陈立民 , 赵亮 , 熊新爽 , 娄勇 , 王泽东
- 申请人： 曲靖阳光新能源股份有限公司
- 申请人地址： 云南省曲靖市曲靖开发区翠峰路83号
- 专利权人： 曲靖阳光新能源股份有限公司
- 当前专利权人： 曲靖阳光新能源股份有限公司
- 当前专利权人地址： 云南省曲靖市曲靖开发区翠峰路83号
- 代理机构： 北京冠和权律师事务所
- 代理商 陈姣姣
- 主分类号： B08B3/12
- IPC分类号： B08B3/12 ; B08B13/00 ; H01L21/67
摘要：
本发明公开了一种硅片用超声波清洗装置及清洗方法，包括：清洗筒，所述清洗筒的内壁上设有升降装置和超声波发生器，所述升降装置上设有放料板，所述升降装置上设有放置架，所述超声波发生器和升降装置均与控制器电连接；通过升降装置将放置架和放料板抬升至同一高度，然后推动放料板上放好待清洗硅片的新放置架取代升降装置上的放置架，完成清洗机的快速换料，提高清洗速度。
公开/授权文献
- CN115463894B 一种硅片用超声波清洗装置及清洗方法 公开/授权日：2024-06-11
IPC分类:
