发明公开
- 专利标题: 屏蔽栅功率器件及其制备方法
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申请号: CN202211505650.2申请日: 2022-11-29
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公开(公告)号: CN115799307A公开(公告)日: 2023-03-14
- 发明人: 高学 , 柴展 , 罗杰馨 , 栗终盛
- 申请人: 上海功成半导体科技有限公司
- 申请人地址: 上海市嘉定区兴文路1277号5幢1层、2层
- 专利权人: 上海功成半导体科技有限公司
- 当前专利权人: 上海功成半导体科技有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市嘉定区兴文路1277号5幢1层、2层
- 代理机构: 上海欣创专利商标事务所
- 代理商 包宇霆
- 主分类号: H01L29/06
- IPC分类号: H01L29/06 ; H01L29/423 ; H01L29/78 ; H01L21/336
摘要:
本发明涉及一种屏蔽栅功率器件及其制备方法。屏蔽栅功率器件包括:半导体层;沟槽,位于半导体层内;屏蔽栅极,位于沟槽内,屏蔽栅极的上表面低于沟槽的顶面;栅极,位于沟槽内,且位于屏蔽栅极的上方,与屏蔽栅极具有间距;空气腔,位于沟槽内,且位于栅极和屏蔽栅极之间,以将栅极与屏蔽栅极隔离。本发明的屏蔽栅功率器件,通过在栅极和屏蔽栅极之间设置空气腔作为隔离层,由于空气具有很好的隔离耐压效果,且介电常数非常低,在确保器件的源漏间耐压的基础上,即可以显著提高器件的栅源间耐压,又可以大大降低栅源寄生电容Cgs,从而提高器件的开关速度,降低开关损耗。
公开/授权文献
- CN115799307B 屏蔽栅功率器件及其制备方法 公开/授权日:2023-07-21
IPC分类: