屏蔽栅功率器件及其制备方法
摘要:
本发明涉及一种屏蔽栅功率器件及其制备方法。屏蔽栅功率器件包括:半导体层;沟槽,位于半导体层内;屏蔽栅极,位于沟槽内,屏蔽栅极的上表面低于沟槽的顶面;栅极,位于沟槽内,且位于屏蔽栅极的上方,与屏蔽栅极具有间距;空气腔,位于沟槽内,且位于栅极和屏蔽栅极之间,以将栅极与屏蔽栅极隔离。本发明的屏蔽栅功率器件,通过在栅极和屏蔽栅极之间设置空气腔作为隔离层,由于空气具有很好的隔离耐压效果,且介电常数非常低,在确保器件的源漏间耐压的基础上,即可以显著提高器件的栅源间耐压,又可以大大降低栅源寄生电容Cgs,从而提高器件的开关速度,降低开关损耗。
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