发明公开
- 专利标题： 一种半导体结构、显示面板及制备方法
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申请号： CN202211567419.6申请日： 2022-12-07
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公开(公告)号： CN115954327A公开(公告)日： 2023-04-11
- 发明人: 阎睿 , 关峰 , 杜建华 , 吕杨 , 王超璐 , 赵梦 , 吴昊 , 王易成
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构： 北京众达德权知识产权代理有限公司
- 代理商 查薇
- 主分类号： H01L21/78
- IPC分类号： H01L21/78 ; H01L21/265 ; H01L27/12
摘要：
本发明公开了一种半导体结构、显示面板及制备方法。制备方法包括：对半导体衬底进行离子注入，以在所述半导体衬底内形成缺陷层；沿所述缺陷层将所述半导体衬底表层的半导体薄膜从所述半导体衬底上剥离；在表面固定有所述半导体薄膜的目标衬底上制备半导体结构。通过本发明提供了一种晶粒尺寸更大，载流子迁移率更高的半导体薄膜结构。
IPC分类:
