Invention Publication
CN118271970A 一种化学机械抛光液
审中-公开
- Patent Title: 一种化学机械抛光液
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Application No.: CN202211711773.1Application Date: 2022-12-29
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Publication No.: CN118271970APublication Date: 2024-07-02
- Inventor: 郑闪闪 , 李昀 , 荆建芬 , 马健 , 杨俊雅 , 李瑾琳 , 周文婷 , 周靖宇 , 王曦 , 刘天奇 , 王苗苗 , 王正
- Applicant: 安集微电子科技(上海)股份有限公司
- Applicant Address: 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层
- Assignee: 安集微电子科技(上海)股份有限公司
- Current Assignee: 安集微电子科技(上海)股份有限公司
- Current Assignee Address: 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层
- Agency: 北京大成律师事务所
- Agent 李佳铭; 王芳
- Main IPC: C09G1/02
- IPC: C09G1/02 ; C23F3/06 ; C23F3/04
Abstract:
本发明揭示了一种用于铜抛光的化学机械抛光液，该抛光液包括研磨颗粒，含氮杂环类腐蚀抑制剂、络合剂、非离子表面活性剂以及氧化剂，所述络合剂为氨羧化合物及其盐。采用本领域的化学机械抛光液在保持较高的铜去除速率的同时，能够显著改善铜表面的粗糙度，减少表面缺陷数量，抑制抛光液对铜表面的腐蚀。
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