发明授权
- 专利标题： Inductively coupled HDP-CVD reactor
- 专利标题（中）： 电感耦合HDP-CVD反应器
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申请号： EP97305257.4申请日： 1997-07-15
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公开(公告)号： EP0819780B1公开(公告)日： 2004-02-18
- 发明人: Redeker, Fred C. , Farhad, Moghadam , Hanawa, Hiroji , Ishikawa, Tetsuya , Maydan, Dan , Li, Shijian , Lue, Brian , Steger, Robert , Wang, Yaxim , Wong, Manus , Sinha, Ashok , Nowak, Fred Romuald , Niazi, Kaveh , Smyth, Kenneth , Staryuik, Pavel , Krishhanaraj, Padmanabham , Murugesh, Laxman , Rossman, Kent
- 申请人： Applied Materials, Inc.
- 申请人地址： 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 US
- 专利权人： Applied Materials, Inc.
- 当前专利权人： Applied Materials, Inc.
- 当前专利权人地址： 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 US
- 代理机构： Bayliss, Geoffrey Cyril
- 优先权： US679927 19960715
- 主分类号： C23C16/50
- IPC分类号： C23C16/50 ; H01J37/32
公开/授权文献
- EP0819780A3 Inductively coupled HDP-CVD reactor 公开/授权日：1998-05-27
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