发明授权
- 专利标题： Deposition of polymer films by means of ion beams
- 专利标题（中）： 通过离子束沉积聚合物膜
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申请号： US529458申请日： 1983-09-06
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公开(公告)号： US4460436A公开(公告)日： 1984-07-17
- 发明人: Hiroyuki Hiraoka
- 申请人： Hiroyuki Hiraoka
- 申请人地址： NY Armonk
- 专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人地址： NY Armonk
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; G03F7/075 ; G03F7/16 ; G03F7/20 ; H01L21/312 ; B44C1/22 ; C03C15/00 ; C03C25/06 ; B29C17/08
摘要：
A patterned polymer film is deposited on a substrate by pattern-wise exposing a monomer vapor to a beam of ions and dry developing by etching with oxygen plasma.
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