发明授权
- 专利标题： Methods for providing a confined liquid for immersion lithography
- 专利标题（中）： 提供用于浸没光刻的限制液体的方法
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申请号： US12055219申请日： 2008-03-25
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公开(公告)号： US07749689B2公开(公告)日： 2010-07-06
- 发明人: David Hemker , Fred C. Redeker , John Boyd , John M. de Larios , Michael Ravkin , Mikhail Korolik
- 申请人： David Hemker , Fred C. Redeker , John Boyd , John M. de Larios , Michael Ravkin , Mikhail Korolik
- 申请人地址： US CA Fremont
- 专利权人： Lam Research Corporation
- 当前专利权人： Lam Research Corporation
- 当前专利权人地址： US CA Fremont
- 代理机构： Martine Penilla & Gencarella, LLP
- 主分类号： G03F7/26
- IPC分类号： G03F7/26
摘要：
A method for processing a substrate is provided which includes generating a meniscus on the surface of the substrate and applying photolithography light through the meniscus to enable photolithography processing of a surface of the substrate.
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