线型沉积源
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1924079B

    公开(公告)日:2012-03-07

    申请号:CN200610127709.3

    申请日:2006-08-30

    CPC classification number: C23C14/243

    Abstract: 本发明公开一种线型沉积源,该沉积源能够通过使用板型加热源来提高加热效率并且降低加热温度,和/或能够通过在一个壳体中包括一个具有冷却水管线(或者通道)的冷却套来提高冷却效率。所述线型沉积源包括:布置在一个沉积室中的坩埚,所述坩埚用于蒸发包括在所述坩埚中的材料;加热源,用于对所述坩埚加热;壳体,用于隔绝从加热源发出的热量;外壁,用于固定所述坩埚;和喷嘴单元,用于喷射从所述坩埚蒸发的材料。在该沉积源中,所述加热源是板型加热源,并且所述壳体具有冷却水管线,从而冷却水可以流过该冷却水管线。

    有机物蒸镀装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1743495B

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN200510096608.X

    申请日:2005-08-25

    Abstract: 一种有机物蒸镀装置,以将衬底大致垂直竖起的状态蒸镀有机物,形成有机薄膜,可适用于大型衬底,且可形成均匀厚度的有机薄膜。本发明的有机物蒸镀装置具有:腔,其构成壳体并且使衬底维持在相对于地面成70°~110°的角度;有机物存储部,其由接收向上述衬底上蒸镀的有机物的至少一个有机物存储位置构成;有机物喷嘴部,其喷射向上述衬底上蒸镀的有机物;连接线路,其将上述有机物喷嘴部和有机物存储部连接;运送装置,其可使上述有机物存储部、有机物喷嘴部及连接线中的至少上述有机物喷嘴沿垂直方向移动。

    控制沉积系统的喷射器的方法

    公开(公告)号:CN1800434B

    公开(公告)日:2010-05-12

    申请号:CN200610000374.9

    申请日:2006-01-06

    Abstract: 本发明提供了一种用于控制喷射器的方法。在控制沉积系统中的包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器的方法中,加热引导通路和喷射喷嘴。在加热引导通路和喷射喷嘴后加热熔罐。此外,在冷却包括熔罐、引导通路和喷射喷嘴的喷射器中,冷却熔罐。在冷却熔罐后,冷却引导通路和喷射喷嘴。这种方法的优点在于通过防止由熔罐中蒸发的沉积材料导致喷射喷嘴形成阻塞或喷溅来提高形成在基底上的有机层的均匀性。

    蒸发源和采用该蒸发源的蒸镀装置

    公开(公告)号:CN100567556C

    公开(公告)日:2009-12-09

    申请号:CN200510092373.7

    申请日:2005-08-29

    Abstract: 一种蒸发源和蒸镀装置,该蒸发源将坩埚和加热部以及喷嘴部配置在一个划分空间,缩小其尺寸;所述蒸镀装置利用所述蒸发源将蒸镀物质蒸镀在基板上。所述蒸发源包括:壳体(110);内设于所述壳体(110)内的坩埚(120);内设于所述壳体(110)中,用于加热坩埚(120)而设于其周边的加热部;喷嘴部,经由喷射嘴(140)将从所述坩埚(120)蒸发的蒸镀物质喷射到位于壳体(110)外部的基板(220)上。

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