薄膜沉积设备及制造有机发光显示装置的方法

    公开(公告)号:CN102332539A

    公开(公告)日:2012-01-25

    申请号:CN201110199594.X

    申请日:2011-07-12

    CPC classification number: C23C14/042 C23C14/54 C23C14/56 H01L51/56

    Abstract: 一种薄膜沉积设备及制造有机发光显示装置的方法,所述薄膜沉积设备可以在沉积工艺期间与基板精确对准。所述设备包括:沉积源;沉积源喷嘴单元,包括布置在第一方向上的多个沉积源喷嘴;以及图案化狭缝片,具有布置在与所述第一方向垂直的第二方向上的多个图案化狭缝,其中在所述基板相对于所述薄膜沉积设备在所述第一方向上移动时执行沉积,所述图案化狭缝片具有彼此隔开的第一对准标记和第二对准标记,所述基板具有彼此隔开的第一对准图案和第二对准图案,所述薄膜沉积设备进一步包括用于给所述第一对准标记和所述第一对准图案照相的第一照相机组件,和用于给所述第二对准标记和所述第二对准图案照相的第二照相机组件。

    薄膜沉积设备
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102127748A

    公开(公告)日:2011-07-20

    申请号:CN201110029291.3

    申请日:2011-01-11

    CPC classification number: C23C14/24 C23C14/042 H01L51/001

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜沉积设备,所述薄膜沉积设备可被简单应用于大规模生产大尺寸显示装置并提高生产率。薄膜沉积设备包括:沉积源,排出沉积材料;沉积源喷嘴单元,设置在沉积源的一侧并包括沿第一方向布置的多个沉积源喷嘴;图案化缝隙片,被设置成与所述沉积源喷嘴单元相对,所述图案化缝隙片包括沿与第一方向垂直的第二方向布置的多个图案化缝隙。在基底或者薄膜沉积设备沿第一方向彼此相对移动的同时执行沉积,沉积源、沉积源喷嘴单元和图案化缝隙片彼此一体地形成。

    蒸发源和具备蒸发源的蒸镀装置

    公开(公告)号:CN101445908B

    公开(公告)日:2011-06-22

    申请号:CN200810185279.X

    申请日:2005-11-28

    Abstract: 本发明提供一种蒸发源和具备该蒸发源的蒸镀装置,其能通过使用反射板来有效提高喷嘴的热量,从而防止蒸镀物质在喷嘴处凝缩。本发明的蒸发源包括:蒸镀物质贮藏部,其放置有蒸镀物质并且局部开口;喷嘴部,其具有连结在所述蒸镀物质贮藏部的开口的部分上并用于喷射所述蒸镀物质的开口部;反射板,其把所述喷嘴部的至少一部分的角部包围;壳体,其包围所述蒸镀物质贮藏部包围;加热部,其位于所述壳体与所述蒸镀物质贮藏部之间。本发明的蒸镀装置具备所述蒸发源。另外,本发明的有机物蒸发源由于改善所述有机物贮藏部和喷嘴部的材质并在它们的表面上附有防止有机物泄漏部件,所以,提高了喷嘴部和有机物贮藏部的导热性,并防止了有机物的泄漏。

    蒸发源和具备蒸发源的蒸镀装置

    公开(公告)号:CN101445909B

    公开(公告)日:2011-06-22

    申请号:CN200810185280.2

    申请日:2005-11-28

    Abstract: 本发明提供一种蒸发源和具备该蒸发源的蒸镀装置,其能通过使用反射板来有效提高喷嘴的热量,从而防止蒸镀物质在喷嘴处凝缩。本发明的蒸发源包括:蒸镀物质贮藏部,其放置有蒸镀物质并且局部开口;喷嘴部,其具有连结在所述蒸镀物质贮藏部的开口的部分上并用于喷射所述蒸镀物质的开口部;反射板,其把所述喷嘴部的至少一部分的角部包围;壳体,其包围所述蒸镀物质贮藏部包围;加热部,其位于所述壳体与所述蒸镀物质贮藏部之间。本发明的蒸镀装置具备所述蒸发源。另外,本发明的有机物蒸发源由于改善所述有机物贮藏部和喷嘴部的材质并在它们的表面上附有防止有机物泄漏部件,所以,提高了喷嘴部和有机物贮藏部的导热性,并防止了有机物的泄漏。

    催化剂增强的化学汽相淀积设备及利用该设备的淀积方法

    公开(公告)号:CN100582301C

    公开(公告)日:2010-01-20

    申请号:CN200610078368.5

    申请日:2006-05-15

    CPC classification number: C23C16/44 C23C16/46

    Abstract: 本发明公开了一种催化剂增强的化学汽相淀积(CECVD)设备和淀积方法,其中为防止催化剂丝因热变形导致松垂而向催化剂丝施加张力,并且为防止产生异物而使用辅助气体。该CECVD设备可构造为具有:处理腔、将处理气体导入处理腔的喷头、和提供在处理腔中并分解从喷头导入的处理气体的可拉伸的催化剂丝结构,由催化剂丝结构分解的的气体淀积于基片上,从而使张力施加到催化剂丝以便防止催化剂丝因热变形导致松垂,且使用辅助气体从而防止产生异物,因此消除了基片温度不均匀的发生和膜生长不均匀的发生,并随之提高了催化剂丝的耐久性。

    蒸发源和采用该蒸发源的蒸镀装置

    公开(公告)号:CN100567556C

    公开(公告)日:2009-12-09

    申请号:CN200510092373.7

    申请日:2005-08-29

    Abstract: 一种蒸发源和蒸镀装置,该蒸发源将坩埚和加热部以及喷嘴部配置在一个划分空间,缩小其尺寸;所述蒸镀装置利用所述蒸发源将蒸镀物质蒸镀在基板上。所述蒸发源包括:壳体(110);内设于所述壳体(110)内的坩埚(120);内设于所述壳体(110)中,用于加热坩埚(120)而设于其周边的加热部;喷嘴部,经由喷射嘴(140)将从所述坩埚(120)蒸发的蒸镀物质喷射到位于壳体(110)外部的基板(220)上。

    蒸发源和具备蒸发源的蒸镀装置

    公开(公告)号:CN101445908A

    公开(公告)日:2009-06-03

    申请号:CN200810185279.X

    申请日:2005-11-28

    Abstract: 本发明提供一种蒸发源和具备该蒸发源的蒸镀装置,其能通过使用反射板来有效提高喷嘴的热量,从而防止蒸镀物质在喷嘴处凝缩。本发明的蒸发源包括:蒸镀物质贮藏部,其放置有蒸镀物质并且局部开口;喷嘴部,其具有连结在所述蒸镀物质贮藏部的开口的部分上并用于喷射所述蒸镀物质的开口部;反射板,其把所述喷嘴部的至少一部分的角部包围;壳体,其包围所述蒸镀物质贮藏部包围;加热部,其位于所述壳体与所述蒸镀物质贮藏部之间。本发明的蒸镀装置具备所述蒸发源。另外,本发明的有机物蒸发源由于改善所述有机物贮藏部和喷嘴部的材质并在它们的表面上附有防止有机物泄漏部件,所以,提高了喷嘴部和有机物贮藏部的导热性,并防止了有机物的泄漏。

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