公开(公告)号：CN113169068B

公开(公告)日：2024-06-18

申请号：CN201980080907.4

申请日：2019-12-04

申请人： 东京毅力科创株式会社 ,  国立大学法人东海国立大学机构

发明人： 堀胜 ,  关根诚 ,  杉浦启嗣 ,  守屋刚 ,  田中谕志 ,  森贞佳纪

IPC分类号： H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H01L21/314 ,  C23C16/26

摘要： 在层叠于被蚀刻膜上的碳硬掩模的一个实施方式中，碳硬掩模中所含的亚甲基CH2和甲基CH3的浓度比满足下述式。CH2/(CH2+CH3)≥0.5。

公开(公告)号：CN113169068A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980080907.4

申请日：2019-12-04

申请人： 东京毅力科创株式会社 ,  国立大学法人东海国立大学机构

发明人： 堀胜 ,  关根诚 ,  杉浦启嗣 ,  守屋刚 ,  田中谕志 ,  森贞佳纪

IPC分类号： H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H01L21/314 ,  C23C16/26

摘要： 在层叠于被蚀刻膜上的碳硬掩模的一个实施方式中，碳硬掩模中所含的亚甲基CH2和甲基CH3的浓度比满足下述式。CH2/(CH2+CH3)≥0.5。

公开(公告)号：CN112513324B

公开(公告)日：2023-04-11

申请号：CN201980050065.8

申请日：2019-07-29

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 铃木悠介 ,  守屋刚 ,  光成正 ,  岩下伸也 ,  森贞佳纪 ,  野吕尚孝 ,  加贺谷宗仁 ,  田中谕志

IPC分类号： C23C16/455 ,  C23C16/44 ,  H01L21/31 ,  H01L21/318

摘要： 提供一种成膜装置，该成膜装置具有：处理容器；支承机构，其将基板支承成能够升降；第1气体供给部，其向被所述支承机构支承着的基板的表面供给第1气体；第2气体供给部，其向被所述支承机构支承着的基板的背面供给第2气体；以及第3气体供给部，其向被所述支承机构支承着的基板的表面和背面中的至少任一者供给第3气体。

公开(公告)号：CN112513324A

公开(公告)日：2021-03-16

申请号：CN201980050065.8

申请日：2019-07-29

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 铃木悠介 ,  守屋刚 ,  光成正 ,  岩下伸也 ,  森贞佳纪 ,  野吕尚孝 ,  加贺谷宗仁 ,  田中谕志

IPC分类号： C23C16/455 ,  C23C16/44 ,  H01L21/31 ,  H01L21/318

摘要： 提供一种成膜装置，该成膜装置具有：处理容器；支承机构，其将基板支承成能够升降；第1气体供给部，其向被所述支承机构支承着的基板的表面供给第1气体；第2气体供给部，其向被所述支承机构支承着的基板的背面供给第2气体；以及第3气体供给部，其向被所述支承机构支承着的基板的表面和背面中的至少任一者供给第3气体。

公开(公告)号：CN111986990A

公开(公告)日：2020-11-24

申请号：CN202010413378.X

申请日：2020-05-15

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 守屋刚 ,  石坂忠大 ,  森贞佳纪

IPC分类号： H01L21/033

摘要： 本发明提供一种硬掩模、基板处理方法以及基板处理装置，该硬掩膜进行了应力调整。所述硬掩模形成于在基板形成的对象膜之上，并且是通过将一个以上的具有第一方向的应力的第一膜和一个以上的具有与所述第一方向相反的第二方向的应力的第二膜交替地层叠而成的硬掩模。