掩膜板及其张网装置、张网方法

    公开(公告)号:CN110055497B

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN201910433216.X

    申请日:2019-05-23

    IPC分类号: C23C14/24 C23C14/04

    摘要: 本发明实施例提供一种掩膜板及其张网装置、张网方法,该掩膜板张网装置包括:形变加热机构,用于调节待组装的掩膜板本体和待组装的框架的环境温度并保持所述环境温度等于蒸镀温度,使得所述掩膜板本体发生形变;第一施力机构,用于向所述框架施加压力,使所述框架产生对抗力,以抵消发生形变的掩膜板本体对框架施加的内缩力;张网对位机构,用于将发生形变的掩膜板本体与框架进行张网对位。进而解决在蒸镀温度下,框架变形导致蒸镀像素位置精度降低的问题,达到提高蒸镀像素位置精度的目的。

    气相沉积设备、气相沉积设备的温度控制方法、设备和介质

    公开(公告)号:CN118835225A

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN202410889803.0

    申请日:2024-07-03

    IPC分类号: C23C16/52 C23C14/54

    摘要: 本申请公开了一种气相沉积设备、气相沉积设备的温度控制方法、设备和介质,一般涉气相沉积技术领域。该设备包括:相对设置的第一电极和第二电极,第一电极靠近第二电极的一侧设置气体均匀器,气体均匀器和第二电极之间设有第一空间,在第一电极远离第二电极的一侧设置温控板;第一电极与气体均匀器相对设置并通过连接件电连接;连接件包括中空结构,且中空结构在气体均匀器的正投影在第一电极的中间区域在气体均匀器的正投影之内;其中,第一电极与气体均匀器分别贴合设置在连接件两侧的端面上,和/或,在气体均匀器靠近第一电极一侧、且处于连接件在气体均匀器正投影区域的外侧区域设置有与温控板中的温控管路相连通的第一温控管路。

    掩膜板的清洁装置、清洁系统及清洁方法

    公开(公告)号:CN111505900A

    公开(公告)日:2020-08-07

    申请号:CN202010496108.X

    申请日:2020-06-03

    IPC分类号: G03F1/82

    摘要: 本申请提供了一种掩膜板的清洁装置、清洁系统和清洁方法。该掩膜板的清洁装置包括:清洁棒、支架、外壳、推杆以及驱动机构;清洁棒包括棒体和粘头,粘头设置于棒体的一端;外壳为两端开口的中空筒,外壳固定于支架上,清洁棒内置于外壳内部;推杆的一端与棒体远离粘头的一端连接,推杆的另一端与驱动机构的动力输出端连接,推杆在驱动机构的驱动下推动清洁棒相对外壳进行上下移动,使得粘头、或者粘头和棒体的一部分伸出外壳。本申请实现了通过粘头的粘性来修复掩膜板上的各种形状和种类的污染物,保证金属掩膜板的洁净,能有效提高产品良率。

    掩膜板及其张网装置、张网方法

    公开(公告)号:CN110055497A

    公开(公告)日:2019-07-26

    申请号:CN201910433216.X

    申请日:2019-05-23

    IPC分类号: C23C14/24 C23C14/04

    摘要: 本发明实施例提供一种掩膜板及其张网装置、张网方法,该掩膜板张网装置包括:形变加热机构,用于调节待组装的掩膜板本体和待组装的框架的环境温度并保持所述环境温度等于蒸镀温度,使得所述掩膜板本体发生形变;第一施力机构,用于向所述框架施加压力,使所述框架产生对抗力,以抵消发生形变的掩膜板本体对框架施加的内缩力;张网对位机构,用于将发生形变的掩膜板本体与框架进行张网对位。进而解决在蒸镀温度下,框架变形导致蒸镀像素位置精度降低的问题,达到提高蒸镀像素位置精度的目的。

    一种彩色滤光片及其制作方法、显示装置

    公开(公告)号:CN103018954B

    公开(公告)日:2015-12-09

    申请号:CN201210564663.7

    申请日:2012-12-21

    摘要: 本发明公开了一种彩色滤光片及其制作方法、显示装置。彩色滤光片包括基板;黑矩阵,覆盖在基板上;第一彩色树脂层,覆盖在上述黑矩阵的第一区域中;第二彩色树脂层,覆盖在上述黑矩阵的第二区域中;第三彩色树脂层,覆盖在上述黑矩阵的第三区域中;PS,分别位于上述第一彩色树脂层、第二彩色树脂层以及第三彩色树脂层上的指定位置,且该三个PS的高度相同且底面直径相同。采用本发明技术方案,无须在彩色树脂层上形成平坦化层,仅通过控制不同颜色彩色树脂层的厚度即可制造出符合工艺要求的彩色滤光片,无须控制Main PS和Sub PS的高度差,简化了制作流程,有效节约了制作成本。