立体电路板的形成装置及形成方法

    公开(公告)号:CN101460012B

    公开(公告)日:2011-04-06

    申请号:CN200810181792.1

    申请日:2008-12-12

    Abstract: 本发明提供立体电路板的形成装置及形成方法,在电子设备用的辊的表面上以位置精度高、不发生重叠、且间隙控制在最小限度内的方式正确地粘贴电路板。该立体电路板的形成装置具有:旋转机构(10),其将圆柱形状或者圆筒形状的对象物(1)在中心轴为水平的状态下进行保持,并且,使对象物以该中心轴为旋转轴进行旋转;保持机构(20),其将电路板(2)保持为粘接剂层朝下,且将该电路板水平地搬送;控制机构(30),其能调节相对位置关系,使得所搬送的电路板(2)的粘接剂层与旋转的对象物(1)的表面接触,并且,能够将所述电路板(2)对所述对象物(1)的表面按压的压力控制为一定。

    覆银铜粉及使用其的铜膏、导电性涂料、导电性片以及覆银铜粉的制造方法

    公开(公告)号:CN107708893B

    公开(公告)日:2019-09-27

    申请号:CN201580079931.8

    申请日:2015-10-27

    Inventor: 冈田浩

    Abstract: 一种覆银铜粉,能够使铜粉彼此的触点增多而确保优异的导电性,并且适宜地用于导电性膏、电磁波屏蔽等用途。本发明的覆银铜粉(1)呈现树枝状形状,该树枝状形状具有直线生长的主干(2)与从该主干(2)分支出的多个枝(3),主干(2)及枝(3)由平板状铜粒子集合而构成,该平板状铜粒子是通过扫描电子显微镜(SEM)观察而求出的剖面平均厚度为0.02μm~5.0μm的平板状的铜粒子,在该铜粒子的表面被覆有银,所述覆银铜粉的平均粒径(D50)为1.0μm~100μm,所述铜粒子的相对于平板状面为垂直方向的最大高度是该平板状面的水平方向的最大长度的1/10以下。

    立体电路板的形成装置及形成方法

    公开(公告)号:CN101489354A

    公开(公告)日:2009-07-22

    申请号:CN200910001706.9

    申请日:2009-01-06

    Inventor: 冈田浩 吉田堪

    Abstract: 本发明提供一种立体电路板的形成装置及形成方法,能够在圆柱形状或者圆筒形状的辊的表面上,特别是在整周上,按照正确的位置精度粘贴电路板,以使间隙变得最小且最浅。该立体电路板的形成装置具有:旋转机构(10),其以中心轴为水平的状态保持圆柱形状或者圆筒形状的对象物(1),并且,使对象物(1)以该中心轴作为旋转轴进行旋转;保持机构(20),其保持带隔离膜的粘接剂薄膜使其所露出的粘接剂层朝下,并水平地进行搬送;控制机构(30),其能够调节相对位置关系,使得所搬送的带隔离膜的粘接剂薄膜(2a)或者电路板(2b)与进行旋转的对象物(1)的表面接触,并且,能够将对对象物(1)的表面进行按压的压力控制为恒定。

    覆银铜粉及使用其的铜膏、导电性涂料、导电性片以及覆银铜粉的制造方法

    公开(公告)号:CN107708893A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201580079931.8

    申请日:2015-10-27

    Inventor: 冈田浩

    Abstract: 一种覆银铜粉,能够使铜粉彼此的触点增多而确保优异的导电性,并且适宜地用于导电性膏、电磁波屏蔽等用途。本发明的覆银铜粉(1)呈现树枝状形状,该树枝状形状具有直线生长的主干(2)与从该主干(2)分支出的多个枝(3),主干(2)及枝(3)由平板状铜粒子集合而构成,该平板状铜粒子是通过扫描电子显微镜(SEM)观察而求出的剖面平均厚度为0.02μm~5.0μm的平板状的铜粒子,在该铜粒子的表面被覆有银,所述覆银铜粉的平均粒径(D50)为1.0μm~100μm,所述铜粒子的相对于平板状面为垂直方向的最大高度是该平板状面的水平方向的最大长度的1/10以下。

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