公开(公告)号：CN111694064A

公开(公告)日：2020-09-22

申请号：CN202010165221.X

申请日：2020-03-11

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 井辻健明 ,  佐藤崇广 ,  小山泰史 ,  吉冈利文 ,  高见荣一 ,  海部纪之 ,  伊庭润 ,  仓岛玲伊

IPC: G01V8/10

Abstract: 本发明提供处理系统。该处理系统包括：第一摄像系统，其被构造为基于来自检查对象的太赫兹波，来拍摄第一图像；第二摄像系统，其被构造为基于波长不同于太赫兹波的电磁波，来拍摄检查对象的第二图像；以及处理器，其被构造为处理第一图像和第二图像，其中，处理器基于第二图像来检测检查区域，并处理第一图像的与检查区域相对应的区域的信息。

公开(公告)号：CN1306537C

公开(公告)日：2007-03-21

申请号：CN200310123570.1

申请日：2003-12-25

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 黑田和生 ,  大粟宣明 ,  吉冈利文 ,  塚本健夫 ,  铃木義勇

IPC: H01J1/30 ,  H01J9/02

CPC classification number: H01J1/316 ,  H01J9/027 ,  H01J2201/3165

Abstract: 本发明提供一种电子设备，在绝缘性的基体上具备导体和与该导体连接的电阻膜，其特征在于：对于上述电阻膜的厚度，在与上述导体的连接区域中具有比其他区域厚的部分。作为形成了电子设备的绝缘基板表面的带电对策，本发明提供一种电力消耗低且电接触性能良好的带电防止膜。

公开(公告)号：CN1153240C

公开(公告)日：2004-06-09

申请号：CN98108731.0

申请日：1998-03-20

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 宫本稚彦 ,  长谷川光利 ,  三道和宏 ,  重冈和也 ,  山野边正人 ,  手岛隆行 ,  吉冈利文

IPC: H01J9/02 ,  G02F1/13

CPC classification number: B41M5/52 ,  B41J2/01 ,  B41M5/0017 ,  B41M5/0047 ,  B41M5/007 ,  B41M5/529 ,  G02B5/201 ,  H01J9/027 ,  H05K3/1241

Abstract: 本发明涉及印制基片、电子发射元件、电子源和图象形成装置的制造方法。该方法通过把基片放进有机气体的气氛中以把基片和不同的部件暴露于有机气体作为一种表面处理，该不同的部件是用不同于基片的材料形成的并被配置在基片上；按照喷墨方法，向基片和不同部件的已经处理的表面涂敷液滴，以使液体的液滴既落在基片上又落在不同部件上，而该液体含有要在基片和不同部件上形成所要部件的材料，其中所述暴露步骤是以这样的方式进行的，使得在进行涂敷步骤时，在液滴和基片表面之间的接触角以及液滴和不同部件表面之间的接触角都在从20°到50°的范围内。

公开(公告)号：CN111487645A

公开(公告)日：2020-08-04

申请号：CN202010063598.4

申请日：2020-01-20

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 吉冈利文 ,  海部纪之

IPC: G01S17/89 ,  G01S17/93 ,  G01S7/481 ,  H01L31/101 ,  H01L23/60

Abstract: 本公开涉及用于检测或振荡电磁波的半导体装置、成像系统和移动体。一种半导体装置，包括：元件基板，包括检测或振荡太赫兹波的多个半导体设备；和网状的电磁屏蔽件，设置在元件基板中的检测或振荡太赫兹波的表面的前方并且由导电材料形成，其中电磁屏蔽件的线宽不大于太赫兹波的波长。

公开(公告)号：CN101004996B

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：CN200710006261.4

申请日：2003-12-25

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 黑田和生 ,  大栗宣明 ,  吉冈利文 ,  塚本健夫 ,  铃木義勇

IPC: H01J9/02 ,  H01J9/00

CPC classification number: H01J1/316 ,  H01J9/027 ,  H01J2201/3165

Abstract: 一种电子设备和电子设备的制造方法，在绝缘性的基体上具备导体和与该导体连接的电阻膜，其特征在于：上述电阻膜的厚度，在与上述导体的连接区域中具有比其他区域厚的部分。作为形成了电子设备的绝缘基板表面的带电对策，本发明提供一种电力消耗低且电接触性能良好的带电防止膜。

公开(公告)号：CN101004996A

公开(公告)日：2007-07-25

申请号：CN200710006261.4

申请日：2003-12-25

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 黑田和生 ,  大粟宣明 ,  吉冈利文 ,  塚本健夫 ,  铃木義勇

IPC: H01J9/02 ,  H01J9/00

CPC classification number: H01J1/316 ,  H01J9/027 ,  H01J2201/3165

Abstract: 一种电子设备和电子设备的制造方法，在绝缘性的基体上具备导体和与该导体连接的电阻膜，其特征在于：上述电阻膜的厚度，在与上述导体的连接区域中具有比其他区域厚的部分。作为形成了电子设备的绝缘基板表面的带电对策，本发明提供一种电力消耗低且电接触性能良好的带电防止膜。

公开(公告)号：CN111694064B

公开(公告)日：2025-02-21

申请号：CN202010165221.X

申请日：2020-03-11

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 井辻健明 ,  佐藤崇广 ,  小山泰史 ,  吉冈利文 ,  高见荣一 ,  海部纪之 ,  伊庭润 ,  仓岛玲伊

IPC: G01V8/10

Abstract: 本发明提供处理系统。该处理系统包括：第一摄像系统，其被构造为基于来自检查对象的太赫兹波，来拍摄第一图像；第二摄像系统，其被构造为基于波长不同于太赫兹波的电磁波，来拍摄检查对象的第二图像；以及处理器，其被构造为处理第一图像和第二图像，其中，处理器基于第二图像来检测检查区域，并处理第一图像的与检查区域相对应的区域的信息。

公开(公告)号：CN1519879A

公开(公告)日：2004-08-11

申请号：CN200310123570.1

申请日：2003-12-25

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 黑田和生 ,  大粟宣明 ,  吉冈利文 ,  塚本健夫 ,  铃木義勇

IPC: H01J1/30 ,  H01J9/02

CPC classification number: H01J1/316 ,  H01J9/027 ,  H01J2201/3165

Abstract: 本发明提供一种电子设备，在绝缘性的基体上具备导体和与该导体连接的电阻膜，其特征在于：对于上述电阻膜的厚度，在与上述导体的连接区域中具有比其他区域厚的部分。作为形成了电子设备的绝缘基板表面的带电对策，本发明提供一种电力消耗低且电接触性能良好的带电防止膜。

公开(公告)号：CN1204850A

公开(公告)日：1999-01-13

申请号：CN98108731.0

申请日：1998-03-20

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 宫本稚彦 ,  长谷川光利 ,  三道和宏 ,  重冈和也 ,  山野边正人 ,  手岛隆行 ,  吉冈利文

IPC: H01J9/02

CPC classification number: B41M5/52 ,  B41J2/01 ,  B41M5/0017 ,  B41M5/0047 ,  B41M5/007 ,  B41M5/529 ,  G02B5/201 ,  H01J9/027 ,  H05K3/1241

Abstract: 在此披露了一种用于生产印制基片的方法,包括向基片表面涂敷液体的液滴的步骤,以便在基片上形成该部件,该液体含有用于要在基片上形成的部件的材料,其特征在于该工艺包括:在向基片表面涂敷液滴之前对基片进行表面处理的步骤,以这样的方式进行该处理,即使涂敷的液滴与基片表面的接触角度在20°到50°的范围内。

公开(公告)号：CN111694065B

公开(公告)日：2024-12-24

申请号：CN202010173090.X

申请日：2020-03-13

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 小山泰史 ,  佐藤崇广 ,  井辻健明 ,  吉冈利文 ,  高见荣一 ,  海部纪之 ,  伊庭润 ,  仓岛玲伊

IPC: G01V8/10 ,  G01N21/3581 ,  G01S17/89

Abstract: 一种移动体，包括获取由太赫兹波形成的图像的成像系统，其中，所述图像是通过捕获移动体内部的检查对象而获得的图像。