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公开(公告)号：CN1175458C
公开(公告)日：2004-11-10
申请号：CN98115252.X
申请日：1998-03-20
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J9/027 , H01J2329/00
Abstract: 本发明公开了一种以高效率形成不带有不规则形状的电子发射元件的制造电子源基片的新方法。在该方法中，形成导电薄膜的区域被分成其上分别形成导电薄膜的多个子区。在通过多次液体喷涂形成导电薄膜时，两次液滴喷涂之间的时间间隔被控制为大于在容许限度内抑制下一次喷涂液体的喷射所需的时间长度。
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公开(公告)号：CN1208945A
公开(公告)日：1999-02-24
申请号：CN98115252.X
申请日：1998-03-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J49/08
CPC classification number: H01J9/027 , H01J2329/00
Abstract: 本发明公开了一种以高效率形成不带有不规则形状的电子发射元件的制造电子源基片的新方法。在该方法中,形成导电薄膜的区域被分成其上分别形成导电薄膜的多个子区。在通过多次液体喷涂形成导电薄膜时,两次液滴喷涂之间的时间间隔被控制为大于在容许限度内抑制下一次喷涂液体的喷射所需的时间长度。
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公开(公告)号：CN1204850A
公开(公告)日：1999-01-13
申请号：CN98108731.0
申请日：1998-03-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J9/02
CPC classification number: B41M5/52 , B41J2/01 , B41M5/0017 , B41M5/0047 , B41M5/007 , B41M5/529 , G02B5/201 , H01J9/027 , H05K3/1241
Abstract: 在此披露了一种用于生产印制基片的方法,包括向基片表面涂敷液体的液滴的步骤,以便在基片上形成该部件,该液体含有用于要在基片上形成的部件的材料,其特征在于该工艺包括:在向基片表面涂敷液滴之前对基片进行表面处理的步骤,以这样的方式进行该处理,即使涂敷的液滴与基片表面的接触角度在20°到50°的范围内。
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公开(公告)号：CN1153240C
公开(公告)日：2004-06-09
申请号：CN98108731.0
申请日：1998-03-20
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B41M5/52 , B41J2/01 , B41M5/0017 , B41M5/0047 , B41M5/007 , B41M5/529 , G02B5/201 , H01J9/027 , H05K3/1241
Abstract: 本发明涉及印制基片、电子发射元件、电子源和图象形成装置的制造方法。该方法通过把基片放进有机气体的气氛中以把基片和不同的部件暴露于有机气体作为一种表面处理，该不同的部件是用不同于基片的材料形成的并被配置在基片上；按照喷墨方法，向基片和不同部件的已经处理的表面涂敷液滴，以使液体的液滴既落在基片上又落在不同部件上，而该液体含有要在基片和不同部件上形成所要部件的材料，其中所述暴露步骤是以这样的方式进行的，使得在进行涂敷步骤时，在液滴和基片表面之间的接触角以及液滴和不同部件表面之间的接触角都在从20°到50°的范围内。
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