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    用于EUV光刻的隔膜组件和用于制造隔膜组件的方法
    2.
    发明公开
    用于EUV光刻的隔膜组件和用于制造隔膜组件的方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN113777894A

    公开(公告)日：2021-12-10

    申请号：CN202111094353.9

    申请日：2016-07-04

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： J·H·克洛特韦克 ,  W·T·A·J·范登艾登

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F1/64 ,  G03F1/80 ,  G03F1/62 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027

    摘要： 一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平坦衬底的所述边界区域形成。所述叠层设置有机械保护材料，所述机械保护材料被配置成在选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域的步骤期间以机械的方式保护所述边界区域。

    用于制造隔膜组件的方法
    4.
    发明授权
    用于制造隔膜组件的方法 有权

    公开(公告)号：CN107850831B

    公开(公告)日：2024-06-07

    申请号：CN201680042163.3

    申请日：2016-07-04

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： J·H·克洛特韦克 ,  W·T·A·J·范登艾登

    IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F7/20

    摘要： 一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平坦衬底的所述边界区域形成。所述叠层设置有机械保护材料，所述机械保护材料被配置成在选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域的步骤期间以机械的方式保护所述边界区域。

    用于制造隔膜组件的方法
    6.
    发明公开
    用于制造隔膜组件的方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN107850831A

    公开(公告)日：2018-03-27

    申请号：CN201680042163.3

    申请日：2016-07-04

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： J·H·克洛特韦克 ,  W·T·A·J·范登艾登

    IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F1/64 ,  G03F1/142 ,  G03F1/62 ,  G03F1/66 ,  G03F7/70916

    摘要： 一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平坦衬底的所述边界区域形成。所述叠层设置有机械保护材料，所述机械保护材料被配置成在选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域的步骤期间以机械的方式保护所述边界区域。

    用于制造隔膜组件的方法
    7.
    发明公开
    用于制造隔膜组件的方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN116819885A

    公开(公告)日：2023-09-29

    申请号：CN202310632992.9

    申请日：2016-07-04

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： J·H·克洛特韦克 ,  W·T·A·J·范登艾登

    IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F1/66 ,  G03F1/80 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027

    摘要： 一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；和保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平坦衬底的所述边界区域形成。所述叠层设置有机械保护材料，所述机械保护材料被配置成在选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域的步骤期间以机械的方式保护所述边界区域。

    制造用于极紫外线光刻的隔膜组件的方法、隔膜组件、光刻设备及器件制造方法
    8.
    发明公开
    制造用于极紫外线光刻的隔膜组件的方法、隔膜组件、光刻设备及器件制造方法 审中-实审

    公开(公告)号：CN114706269A

    公开(公告)日：2022-07-05

    申请号：CN202210279387.3

    申请日：2016-12-02

    申请人： ASML荷兰有限公司

    发明人： 保罗·詹森 ,  J·H·克洛特韦克 ,  W·T·A·J·范登艾登 ,  A·N·兹德拉夫科夫

    IPC分类号： G03F1/62 ,  G03F1/64 ,  G03F7/20

    摘要： 公开制造隔膜组件的方法。在一个布置中，堆叠结构包括平面衬底和至少一个隔膜层。所述平面衬底包括内部区、围绕所述内部区的边界区、围绕所述边界区的桥接区及围绕所述桥接区的边缘区。选择性地去除所述内部区及所述桥接区的第一部分。在去除之后的所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层形成的隔膜；保持所述隔膜的边界，所述边界由所述平面衬底的所述边界区形成；围绕所述边界的边缘区段，所述边缘区段由所述平面衬底的所述边缘区形成；所述边界与所述边缘区段之间的桥接件，所述桥接件由所述至少一个隔膜层及所述平面衬底的所述桥接区的第二部分形成。所述方法还包括通过切割或断裂所述桥接件而将所述边缘区段与所述边界分离。