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公开(公告)号：CN101275917B
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN200810086302.X
申请日：2008-03-25
申请人： 大日本网目版制造株式会社
摘要： 本发明提供一种能够以简单的结构在执行描绘之前检测用于图形描绘的行程长度数据的缺陷的技术。分别取得输入CAD数据(D1)和通过对该输入CAD数据(D1)进行RIP处理来取得的行程长度数据(D2)。然后，对输入CAD数据(D1)和行程长度数据(D2)中的至少一种数据执行规定的转换处理，以使两种数据变成能够相互比较的数据格式，并比较两种数据，进而检测出有差异的区域而作为行程长度数据(D2)的缺陷区域。
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公开(公告)号：CN101310870B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200810004929.6
申请日：2008-01-29
申请人： 大日本网目版制造株式会社
摘要： 本发明涉及一种涂敷装置，喷嘴从其前端部以液柱状态喷出涂敷液；载物台将基板装载在其上表面上；喷嘴移动机构在载物台上的空间中，在横穿该载物台面的方向上使喷嘴进行往复移动；液体接受部，其包括有倾斜面，在喷嘴移动机构使喷嘴沿着横穿的方向移动并由该喷嘴向着从载物台上偏离的位置喷出涂敷液时，接受从该喷嘴向载物台外喷出的涂敷液。倾斜面在配置于从载物台上偏离的位置处的喷嘴的前端部的垂直下方的位置，向着横穿的方向延伸设置，并相对于与该横穿的方向相垂直的水平方向而倾斜。液体接受部使配置于从载物台上偏离的位置处的喷嘴所喷出的涂敷液以液柱状态涂敷附着于倾斜面上进行回收。
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公开(公告)号：CN1757439B
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200510099926.1
申请日：2005-09-08
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 西冈贤太郎
摘要： 本发明提供一种基板处理装置，在可以正确控制喷出口与基板之间的距离的同时，喷嘴的制作也容易。在基板处理装置(1)中，测定作为与成为处理对象的基板垂直的方向上的位置的垂直位置的线性量规(81、82)，测定向处理对象的基板喷出处理液的细缝喷嘴(41)的喷出口(41c)以及测定部位(P，P’)的垂直位置，利用该垂直位置测定结果，通过使细缝喷嘴(41)沿与基板垂直的方向移动的升降机构(43、44)进行细缝喷嘴(41)的升降控制。
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公开(公告)号：CN101181706B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200710139907.6
申请日：2007-08-03
申请人： 大日本网目版制造株式会社
摘要： 一种基板处理装置，能够正确地测定从狭缝喷嘴喷出的处理液的状态。该基板处理装置设置有在狭缝喷嘴(41)的二次侧设置的抽取空气用的配管(42)。使配管(42)与设置在狭缝喷嘴(41)的一次侧的配管(63)不直接连通而独立，并且，使配管(42)直接与狭缝喷嘴(41)内的流路(410)连通。在配管(42)上设置压力传感器(413)，将测定值传送到控制部(8)。由泵(61)将抗蚀液供给到狭缝喷嘴(41)，并利用压力传感器(413)来测定此时的配管(42)内的压力。
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公开(公告)号：CN1727081B
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：CN200510078650.9
申请日：2005-06-21
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 宫胜彦
IPC分类号： B08B3/08 , H01L21/302
CPC分类号： C03C23/0075 , B08B3/04 , H01L21/67051 , H01L21/6708
摘要： 一种基板处理装置和基板处理方法，在使基板旋转的同时，向基板供给处理液而对基板实施规定处理，能防止处理液向基板中央部的附着，同时使基板周边部的处理宽度均匀而进行处理。与基板(W)上表面对向配置其平面尺寸(D1)是大于或等于基板尺寸(D2)的大小的气体氛围遮断板(9)。在气体氛围遮断板周边部形成可插入喷嘴(6)的、在上下方向上贯通的贯通孔(9e)，通过用喷嘴驱动机构(67)驱动喷嘴，能使喷嘴插入到贯通孔中，并定位在与基板上表面周边部(TR)相对向的对向位置(P1)和从气体氛围遮断板(9)离开的退避位置(P2)。从被定位在对向位置(P1)的喷嘴(6)向基板(W)上表面周边部(TR)供给处理液。
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公开(公告)号：CN1915537B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200610107524.6
申请日：2006-07-20
申请人： 大日本网目版制造株式会社
摘要： 防止异物引起问题的同时，防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。在狭缝涂敷机中，在狭缝喷嘴的行进方向侧，设置用于排除异物的保护构件。在开始涂敷处理时，狭缝喷嘴从基板的正上方外部水平移动到应开始涂敷处理的开始位置。此时，在喷出口的位置从基板的正上方外部到基板的端部时，使喷出口高度为与涂敷处理相同的基准高度(步骤S11～S13)。另一方面，在喷出口的位置从基板的端部到开始位置时，使喷出口高度高于基准高度(步骤S14～S16)。因此，能够防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。另外，由于保护构件的下端由两个板构成，所以即使是在上升中前方的板接触不到的异物，后方的板也会接触到。
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公开(公告)号：CN1757440B
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200510106831.8
申请日：2005-09-23
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 高木善则
摘要： 本发明提供可高精度地检测可能与狭缝喷嘴接触的异物等的狭缝式涂敷机。可挠性平板(61)配置在狭缝喷嘴(1)的行进前方侧(+X侧)，激光向平板(61)的后方侧(-X侧)照射。在涂敷处理中在狭缝喷嘴(1)应该行进的基板(90)上，存在异物等被检测物体(NG)的情况下，在被检测物体(NG)与狭缝喷嘴(1)接触之前，被检测物体(NG)与平板(61)接触。平板(61)一旦与被检测物体(NG)接触，其一部分会发生挠性变形向-X侧相对移动，遮断激光。基于此激光受光量的减少，可以检测出被检测物体(NG)。
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公开(公告)号：CN101058481B
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200710001928.1
申请日：2003-07-07
申请人： 大日本网目版制造株式会社
摘要： 本发明的装置可将含有有机EL材料的涂敷液，从喷嘴稳定地吐出至基板上。构成喷嘴(4a)的喷嘴本体(41)的内部空间(SP)具有作为使有机EL材料(10a)流通的流路的功能。在该流路上与作在喷嘴前端的小孔(45a)离开的内部位置上，安装着过滤器(43)。过滤器(43)的过滤精度为10微米，可以收集异物和凝胶化的溶解物等，阻止它们到达小孔(45a)。因此可以可靠地防止异物等堵塞小孔(45a)。
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公开(公告)号：CN101872736A
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN201010198915.X
申请日：2007-12-27
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 光吉一郎
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/673 , H01L21/677 , H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67766 , H01L21/67781
摘要： 本发明提供一种基板承载架以及基板处理装置，该基板处理装置由分度器区和处理区组成，利用分度器机器人在分度器区和处理区之间搬运基板。分度器机器人包括在转动台上设置的上下的两个手部。一手部相对于另一手部沿铅垂方向移动。一手部和另一手部的高度差能够调整得与运载器的基板容置槽之间的间隔相同，该运载器容置有被搬入到分度器区内的基板。一手部和另一手部的高度差能够调整得与设置在分度器区和处理区之间的基板承载部的支承板之间的间隔相同。
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公开(公告)号：CN1949086B
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200610142366.8
申请日：2006-10-11
申请人： 大日本网目版制造株式会社
发明人： 桥诘彰夫
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/6708
摘要： 本发明涉及一种基板处理方法以及基板处理装置，在本发明的基板处理方法中，对基板的表面供给由气体和加热过的处理液生成的液滴的喷流。然后，对基板的表面供给用于将抗蚀膜从该基板的表面剥离的抗蚀膜剥离液。
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