-
公开(公告)号:CN101236356A
公开(公告)日:2008-08-06
申请号:CN200710006730.2
申请日:2007-02-02
申请人: 三星电子株式会社 , 东进半导体化学株式会社
CPC分类号: G03F7/0392 , G03F7/0045 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/118
摘要: 能够形成高清晰度图案的无需额外的加热处理的光致抗蚀剂组合物,其包含包括至少一种式1单元的10-70重量份的碱-可溶苯酚类聚合物、0.5-10重量份的光-酸产生剂、包括至少一种式2单元的5-50重量份的溶解抑制剂和10-90重量份的溶剂,其中上述组分的量是基于总共100重量份的碱-可溶苯酚类聚合物、光-酸产生剂、溶解抑制剂和溶剂,和其中式1和式2具有以上结构,其中R为甲基,其中R1、R2和R3相同或不同,并为氢或叔丁基乙烯醚保护基。
-
公开(公告)号:CN1936705A
公开(公告)日:2007-03-28
申请号:CN200610144771.3
申请日:2006-08-23
IPC分类号: G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/0382 , G03F7/105 , H01L21/32139 , H01L29/66765 , H01L29/78669 , Y10S430/106 , Y10S430/114
摘要: 光致抗蚀剂组合物包含约10~70%重量的含有苯酚-基聚合物的粘合剂树脂、约0.5~10%重量的光-酸发生剂、约1~20%重量的交联剂、约0.1~5%重量的染料和约10~80%重量的溶剂。该光致抗蚀剂组合物可以应用于例如制备TFT基底的方法。
-
公开(公告)号:CN1752852A
公开(公告)日:2006-03-29
申请号:CN200510105132.1
申请日:2005-09-22
申请人: 三星电子株式会社
IPC分类号: G03F7/42 , G02F1/1368
CPC分类号: G03F7/425 , H01L21/31133 , H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/458
摘要: 本发明提供了一种光刻胶剥离剂,包括:约5wt%至20wt%的醇胺、约40wt%至70wt%的乙二醇醚、约20wt%至40wt%的N-甲基吡咯烷酮、以及约0.2wt%至6wt%的螯合剂。
-
-