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公开(公告)号：CN1936705B
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN200610144771.3
申请日：2006-08-23
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F7/105 , H01L21/32139 , H01L29/66765 , H01L29/78669 , Y10S430/106 , Y10S430/114
摘要： 光致抗蚀剂组合物包含约10～70％重量的含有苯酚-基聚合物的粘合剂树脂、约0.5～10％重量的光-酸发生剂、约1～20％重量的交联剂、约0.1～5％重量的染料和约10～80％重量的溶剂。该光致抗蚀剂组合物可以应用于例如制备TFT基底的方法。
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公开(公告)号：CN100501571C
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200410028333.1
申请日：2004-01-03
CPC分类号： G03F7/0236 , G03F7/0048
摘要： 本发明涉及一种用于MMN(多个微型喷嘴)涂布机的光致抗蚀剂组合物，更具体地，本发明涉及一种用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物，其包含分子量为2000～12000的酚醛清漆树脂、重氮化物光活性化合物、有机溶剂和硅基表面活性剂。本发明的用于液晶显示器电路的光致抗蚀剂组合物解决了在用于大型基底玻璃的MMN涂布机中出现的污染问题，并提高了涂层性能，因此它能够在工业上应用，并预期明显提高生产率。
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公开(公告)号：CN1936705A
公开(公告)日：2007-03-28
申请号：CN200610144771.3
申请日：2006-08-23
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F7/105 , H01L21/32139 , H01L29/66765 , H01L29/78669 , Y10S430/106 , Y10S430/114
摘要： 光致抗蚀剂组合物包含约10～70％重量的含有苯酚－基聚合物的粘合剂树脂、约0.5～10％重量的光－酸发生剂、约1～20％重量的交联剂、约0.1～5％重量的染料和约10～80％重量的溶剂。该光致抗蚀剂组合物可以应用于例如制备TFT基底的方法。
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公开(公告)号：CN1194267C
公开(公告)日：2005-03-23
申请号：CN99123665.3
申请日：1999-11-03
申请人： 东进瑟弥侃株式会社
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/027
摘要： 本发明涉及在制造半导体元件的工艺中，用以清除Spin-ON-Glass和感光性树脂组合物的稀释剂组合物，其由丙二醇单烷基醚与单氧羧酸酯，烷基乙酸酯和烷基乳酸酯混合而成。旋转涂覆后，使用本发明的稀释剂组合物，可迅速、彻底地清除基板边缘部位或基板后部多余的涂覆液，从而提高产品收率。因能够彻底地清除再利用的基板表面上附着的残余物质，能够有效地使用基板。
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公开(公告)号：CN1766732A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200510090790.8
申请日：2002-08-20
申请人： 东进瑟弥侃株式会社
摘要： 本发明涉及一种用作光刻胶的感光树脂组合物，特别涉及一种用于光刻胶的感光树脂组合物，该组合物包括：通过选择使用特定的化合物或控制未反应单体的比例以获得的丙烯酸酯共聚物，和1，2－二叠氮醌化物。该组合物在几方面性能优异，如：介电特性、平滑度、透明性、显影性能、残膜率、耐化学品性和耐热性，以及灵敏度和分辨率。特别是它促进夹层电介质中的图案易于形成，此外，由于甚至在制为厚膜时仍具有优异的透射率，它可在LCD制造过程中用作光刻胶。
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公开(公告)号：CN1261822C
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN02816205.6
申请日：2002-08-20
申请人： 东进瑟弥侃株式会社
IPC分类号： G03F7/004
摘要： 本发明涉及一种用作光刻胶的感光树脂组合物，特别涉及一种用于光刻胶的感光树脂组合物，该组合物包括：通过选择使用特定的化合物或控制未反应单体的比例以获得的丙烯酸酯共聚物，和1，2-二叠氮醌化物。该组合物在几方面性能优异，如：介电特性、平滑度、透明性、显影性能、残膜率、耐化学品性和耐热性，以及灵敏度和分辩率。特别是它促进夹层电介质中的图案易于形成，此外，由于甚至在制为厚膜时仍具有优异的透射率，它可在LCD制造过程中用作光刻胶。
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公开(公告)号：CN1766719A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200510090789.5
申请日：2002-08-20
申请人： 东进瑟弥侃株式会社
IPC分类号： G02F1/1339 , G03F7/022
摘要： 本发明涉及一种用作光刻胶的感光树脂组合物，特别涉及一种用于光刻胶的感光树脂组合物，该组合物包括：通过选择使用特定的化合物或控制未反应单体的比例以获得的丙烯酸酯共聚物，和1，2－二叠氮醌化物。该组合物在几方面性能优异，如：介电特性、平滑度、透明性、显影性能、残膜率、耐化学品性和耐热性，以及灵敏度和分辨率。特别是它促进夹层电介质中的图案易于形成，此外，由于甚至在制为厚膜时仍具有优异的透射率，它可在LCD制造过程中用作光刻胶。
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公开(公告)号：CN1543591A
公开(公告)日：2004-11-03
申请号：CN02816205.6
申请日：2002-08-20
申请人： 东进瑟弥侃株式会社
IPC分类号： G03F7/023
摘要： 本发明涉及一种用作光刻胶的感光树脂组合物，特别涉及一种用于光刻胶的感光树脂组合物，该组合物包括：通过选择使用特定的化合物或控制未反应单体的比例以获得的丙烯酸酯共聚物，和1，2－二叠氮醌化物。该组合物在几方面性能优异，如：介电特性、平滑度、透明性、显影性能、残膜率、耐化学品性和耐热性，以及灵敏度和分辨率。特别是它促进夹层电介质中的图案易于形成，此外，由于甚至在制为厚膜时仍具有优异的透射率，它可在LCD制造过程中用作光刻胶。
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公开(公告)号：CN103019050A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210357232.3
申请日：2012-09-24
CPC分类号： G03F7/168 , C11D11/0047
摘要： 本发明涉及RRC过程和EBR过程用的稀释剂组合物、及供应前者的设备。所述RRC(减胶涂覆)过程用的稀释剂组合物包括乳酸烷基酯、环己酮和乙酸烷基酯，其中所述乙酸烷基酯的烷基取代基为C1-C5非基于醚的烷基。
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