一种硅片边缘检测装置及方法
    93.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117410193A

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202311087540.3

    申请日:2023-08-28

    Abstract: 本发明公开了一种硅片边缘检测方法,包括以下步骤:S1:硅片上料至上料工位,控制端确认并调用当前硅片的尺寸信息、边缘类型;S2:硅片移动至第一检测工位,第一光源提供打光,第一摄像头采集硅片的灰度图像上传至控制端。本发明采用的检测方法,能够灵活地区分检测不同硅片的尺寸类型,并根据边缘类型采用相应的光源,能适用多种类型的硅片检测,适用性强;采用的视觉定位方法配合位置角度修正,能够极大提高检测中的定位效率和准确度;通过采集图像进行边缘查找,拟合内外边缘线并计算间距的方式,替代人眼观察和辅助画线测量,使测量结果的准确度和效率大大提高,单硅片多点位的检测也能够快速准确地完成。

    一种智能卫浴镜的控制方法
    94.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117079343A

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN202310869904.7

    申请日:2023-07-17

    Abstract: 本发明公开了一种智能卫浴镜的控制方法,该方法用于控制智能卫浴镜,包括以下步骤,步骤1:管理员采集使用者数据,并将数据储存值用户数据库,数据包括身高、脸部五官与脸部轮廓数据;管理员设定照明模块参数本发明将控制器、供电模块、三维相机、触摸屏、照明模块、除雾模块以及通讯模块集成在卫浴镜,实现卫浴镜检测的自动化以及智能化,将人体关键点及身份识别算法、高精度Anchor‑Free目标检测算法、行为分析等人工智能技术运用到卫浴镜,能够实现人在卫浴镜前的操作检测,行为模式的检测,并根据检测结果进行操作提醒,照明模块根据行为模式调节灯光,从而大大提升了卫浴镜的智能化。

    石英晶片研磨的高精度频率校准方法

    公开(公告)号:CN111596129B

    公开(公告)日:2022-10-18

    申请号:CN202010489015.4

    申请日:2018-05-16

    Abstract: 本发明公开了石英晶片研磨的高精度频率校准方法,包括研磨过程频率统计和机器校准;所述机器校准包括仪器校准、机台校准和用户校准;校准采用如下公式:F主显=F实测+F仪器校准+F机台校准+F用户校准=F晶片;研磨过程频率统计用以保证频率统计的精确性,从而保证同一批料散差小,一致性高,所述机器校准用以保证仪器频率的准确性,从而使频率统计数据能真实反应研磨机的研磨能力;本发明提供了一种通过增加仪器校准来保障机器本身的无误,并通过机台校准和用户校准用于保证测频精度;实现了同一批料盘间散差小,且当达到目标频率时精准停机,保证了仪器间的一致性。

    石英晶片研磨的高精度频率统计校准的方法

    公开(公告)号:CN111665392B

    公开(公告)日:2022-06-10

    申请号:CN202010489456.4

    申请日:2018-05-16

    Abstract: 本发明公开了石英晶片研磨的高精度频率统计校准的方法,包括研磨过程频率统计和机器校准;所述机器校准包括仪器校准、机台校准和用户校准;首先进行仪器校准,在F仪器校准的基础上,进行F机台校准;研磨过程频率统计用以保证频率统计的精确性,从而保证同一批料散差小,一致性高,所述机器校准用以保证仪器频率的准确性,从而使频率统计数据能真实反应研磨机的研磨能力;本发明提供了一种通过增加仪器校准来保障机器本身的无误,并通过机台校准和用户校准用于保证测频精度;实现了同一批料盘间散差小,且当达到目标频率时精准停机,保证了仪器间的一致性。

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