公开(公告)号：CN112771687A

公开(公告)日：2021-05-07

申请号：CN201980063265.7

申请日：2019-09-26

申请人： 昭和电工材料株式会社

发明人： 加茂和幸 ,  福岛伊织 ,  佐久间广贵 ,  石塚健一 ,  杉冈智嗣 ,  本名凉 ,  児玉俊辅 ,  内山知美

IPC分类号： H01L51/50 ,  C08G61/00 ,  G02F1/13357 ,  G09F9/30 ,  H01L27/32 ,  H05B33/10

摘要： 一实施形态涉及一种有机电子材料，其为含有电荷传输性聚合物的有机电子材料，所述电荷传输性聚合物具有分支结构，所述电荷传输性聚合物的重量平均分子量为20,000以上，在制备含有所述电荷传输性聚合物及甲苯、所述电荷传输性聚合物的浓度为10质量％的溶液的情况下，所述溶液的室温下的粘度小于3.0mPa·s。

公开(公告)号：CN112638985A

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN201980056146.9

申请日：2019-08-28

申请人： 大金工业株式会社 ,  国立大学法人大阪大学

发明人： 足达健二 ,  生越专介

IPC分类号： C08G61/00

摘要： 本发明所要解决的技术问题在于，提供一种含氟芳香族聚合物及其制造方法等。前述技术问题可通过具有下述式(1)所示的单体单元的聚合物等得到解决(式(1)中，R1在每次出现时独立地为卤素原子、NR11R12(R11和R12各自独立地为氢原子或有机基团。)、或有机基团；n1为0～4的范围内的整数；可存在于邻位的2个R1可与相邻的苯环的2个碳原子一起形成环，该环可具有有机基团作为取代基；L1是单键、氧原子、硫原子、‑L11‑O‑、‑O‑L12‑O‑、‑L13‑S‑、或‑S‑L14‑S‑(L11～L14各自独立地为可具有1个以上取代基的亚烷基。)。)。

公开(公告)号：CN107077071B

公开(公告)日：2020-10-02

申请号：CN201580055292.1

申请日：2015-10-27

申请人： 日产化学工业株式会社

发明人： 桥本圭祐 ,  坂本力丸 ,  西卷裕和 ,  远藤贵文

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08G61/00 ,  C08G61/12 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

摘要： 本发明提供一种光刻工艺用抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述光刻工艺用抗蚀剂下层膜形成用组合物具有下述特征：在高低差基板上的平坦化性能优异，向微细孔隙图案填埋的填埋性能良好，可使得成膜后的晶片表面平坦。其解决手段为包含含有下述式(1)表示的单元结构的聚合物和溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。

公开(公告)号：CN111683986A

公开(公告)日：2020-09-18

申请号：CN201880088875.8

申请日：2018-12-18

申请人： 日产化学株式会社

发明人： 伊藤润 ,  汤川升志郎

IPC分类号： C08G61/00 ,  C08G75/00 ,  C08L101/02 ,  G02B5/30 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1337

摘要： 本发明提供固化膜形成用组合物，其能够以比较低温和短时间的条件形成作为取向材使用、并在其上配置聚合性液晶的层时显示出优异的液晶取向性、光透过性和耐溶剂性的固化膜。本发明是一种固化膜形成用组合物，含有作为(A)成分的具有麦克尔加成供体部位的化合物、和作为(B)成分的具有麦克尔加成受体部位的化合物，(A)成分和(B)成分中的至少一者含有液晶取向性基。本发明还是使用该组合物得到的固化膜和取向材、使用该取向材形成的相位差材。

公开(公告)号：CN108026253B

公开(公告)日：2020-06-12

申请号：CN201680051409.3

申请日：2016-09-20

申请人： 东丽株式会社

发明人： 此岛阳平 ,  日比野利保 ,  诹访充史

IPC分类号： C08G61/00 ,  C08G14/073 ,  G02B3/00 ,  G02B5/20 ,  H01L27/14

摘要： 本发明提供能制造干式蚀刻后的表面的粗糙度良好、且为高折射率、高透明的膜的高分子化合物及使用其的固体摄像器件、光学设备、高分子化合物的制造方法及固体摄像器件的制造方法。本发明的高分子化合物是至少将(A)含有2个以上具有羟基或烷氧基的多环芳香族基团的化合物、及(B)含有2个以上通式(1)的结构的杂环式芳香族化合物进行缩聚而得到的。(通式(1)中，R1表示氢原子或碳原子数1～6的有机基团。)。

公开(公告)号：CN111183395A

公开(公告)日：2020-05-19

申请号：CN201880064822.2

申请日：2018-05-30

申请人： 三井化学株式会社

发明人： 川岛启介 ,  小田隆志 ,  井上浩二

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08G61/00

摘要： 本发明的下层膜形成用树脂材料是用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用树脂材料，其包含环状烯烃聚合物(I)，使用流变仪，在氮气气氛下、以剪切模式、测定温度范围30～300℃、升温速度3℃/min、频率1Hz的条件测定得到的上述下层膜形成用树脂材料的固体粘弹性中，表示储能弹性模量(G’)曲线与损耗弹性模量(G”)曲线的交点的温度为40℃以上200℃以下。

公开(公告)号：CN109563242A

公开(公告)日：2019-04-02

申请号：CN201780044930.9

申请日：2017-07-13

申请人： 住友化学株式会社

发明人： 鹿岛健 ,  信田浩志 ,  松下昌平

IPC分类号： C08G61/00 ,  H01L51/50

摘要： 本发明提供一种高分子化合物的制造方法，其能够效率良好地制造充分降低了卤素原子的含量及羟基的含量的高分子化合物。一种高分子化合物的制造方法，其中，所述高分子化合物具有式(1)所示的结构单元、式(2)所示的结构单元及式(3)所示的结构，所述制造方法包括：第一工序，在溶剂、碱及第一钯化合物的存在下，使式(M-1)所示的化合物及式(M-2)所示的化合物反应而得到反应物；以及第二工序，在与第一钯化合物不同的第二钯化合物的存在下，使上述反应物及式(M-3)所示的化合物反应而得到高分子化合物。式(M-1)、(M-2)、(M-3)[式中，Ar1及Ar2表示亚芳基等，Ar3表示芳基等。Z1～Z5表示选自取代基A组及取代基B组中的基团。] 氯原子等。 -B(ORC2)2(式中，RC2表示氢原子等。)所示的基团。

公开(公告)号：CN109071782A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201680080920.6

申请日：2016-12-09

申请人： 香港科技大学

发明人： 颜河 ,  赵靖波

IPC分类号： C08G61/12 ,  C08G61/00 ,  C07D271/08 ,  C07D271/02 ,  C07D271/04 ,  H01L51/42 ,  H01L51/46 ,  H01L51/30

摘要： 本发明涉及一种包含一个重复单元的聚合物，每个重复单元里包含一个或多个重复结构。本发明同时还涉及包含有聚合物、富勒烯、第二聚合物或小分子的制剂。本发明同时涉及包括含有该制剂的涂层和印刷油墨的有机电子(OE)装置，其中有机电子装置可以是有机场效应晶体管(OFET)装置或有机光伏(OPV)装置。本发明同时还涉及单体、聚合物以及所产生的化合物的合成。

公开(公告)号：CN108602826A

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：CN201680080998.8

申请日：2016-12-30

申请人： 默克专利有限公司

发明人： L·南森 ,  N·布劳因 ,  W·米切尔 ,  J·卡莫隆 ,  P·斯卡巴拉

IPC分类号： C07D487/02 ,  C07D519/00 ,  C08G61/00 ,  H01L51/00

CPC分类号： C08G61/126 ,  C07D487/02 ,  C07D487/04 ,  C07D519/00 ,  C08G61/122 ,  C08G2261/122 ,  C08G2261/124 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/146 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/3243 ,  C08G2261/344 ,  C08G2261/364 ,  C08G2261/414 ,  C08G2261/92 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/0068 ,  H01L51/0071 ,  H01L51/0072 ,  H01L51/0073 ,  H01L51/0558 ,  Y02E10/549

摘要： 本发明涉及包含一个或多个衍生自2,6-二取代-[1,5]二氮杂萘或1,6-二取代-1H-[1,5]二氮杂萘-2-酮的单元的新化合物，其制备方法和其中所用的离析物或中间体，含有它们的混合物和配制剂，所述化合物、混合物和配制剂作为有机电子(OE)器件中，尤其是有机光伏(OPV)器件和有机光检测器(OPD)中的有机半导体的用途，且涉及包含这些化合物、混合物或配制剂的OE、OPV和OPD器件。

公开(公告)号：CN108368144A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201680073250.5

申请日：2016-12-14

申请人： 剑桥显示技术有限公司 ,  住友化学株式会社

发明人： N·伊斯兰姆 ,  大内一荣 ,  M·汉弗莱斯

IPC分类号： C07F15/00 ,  C09K11/00 ,  C08G61/00 ,  H01L51/00

CPC分类号： C07F15/0033 ,  C08G61/12 ,  C08G61/122 ,  C08G2261/1412 ,  C08G2261/148 ,  C08G2261/3142 ,  C08G2261/3162 ,  C08G2261/3221 ,  C08G2261/411 ,  C08G2261/5242 ,  C08G2261/95 ,  C08K5/0091 ,  C09D165/00 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/185 ,  H01L51/0085 ,  H01L51/5016 ,  C08L65/00

摘要： 发光化合物。一种组合物，其包含峰值波长为至少650nm的发光化合物和包含式(I)基团的材料：其中Ar1、Ar2和Ar3在每次出现时独立地选自C6-20芳族基团以及C和N环原子的6-20元杂芳族基团，并且Ar1、Ar2和Ar3中的至少一个是C和N环原子的6-20元杂芳族基团；x、y和z各自独立地为至少1；n、m和p各自独立地为0或正整数；并且R1、R2和R3在每次出现时独立地为取代基或至聚合物链的单键，其中式(I)的基团具有不超过3个至聚合物链的单键。该组合物可用于红外有机发光器件的发光层中。