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公开(公告)号：CN102468306A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201010532011.6
申请日：2010-10-29
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L27/12 , H01L21/77 , G02F1/1368 , G02F1/1362
摘要： 本发明公开一种阵列基板、液晶显示器及阵列基板的制造方法。阵列基板包括衬底基板，衬底基板上形成有栅线、数据线、薄膜晶体管、像素电极和有源层；薄膜晶体管包括栅电极、源电极和漏电极；漏电极形成于像素电极之上，并与所述像素电极连接。本发明技术方案可以通过一次构图形成数据线、源电极、漏电极和像素电极，减少了构图次数，提高了生产效率。
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公开(公告)号：CN102446925A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201010502101.0
申请日：2010-09-30
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L27/12 , H01L21/77 , G02F1/1362 , G02F1/1333
CPC分类号： H01L27/1288
摘要： 本发明公开了一种阵列基板、液晶显示器及阵列基板的制造方法。阵列基板包括：衬底基板，衬底基板上形成有栅线、数据线、薄膜晶体管、像素电极、有源层、钝化层和栅绝缘层；薄膜晶体管包括与栅线连接的栅电极、与数据线连接的源电极和与像素电极连接的漏电极；栅绝缘层形成于栅电极上方；钝化层设置于有源层与源电极和漏电极之间；且钝化层上设有源电极过孔和漏电极过孔；源电极和漏电极分别通过源电极过孔和漏电极过孔与有源层连接。本发明技术方案通过一次构图形成有源层、钝化层和栅绝缘层，减少了构图次数，提高了生产效率；同时实现了钝化层位于有源层上方的阵列基板结构，避免了在形成源电极和漏电极时对TFT沟道造成损伤。
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公开(公告)号：CN113500839B
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202110810682.2
申请日：2021-07-16
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本申请公开了一种芯片保护膜材、电子设备组装方法及电子设备，包括：叠层设置的承载膜、屏蔽层及离型膜，以及设置在承载膜及屏蔽层之间的芯片保护垫片，芯片保护垫片呈支架结构。本申请实施例通过将芯片保护垫片以及屏蔽膜材一体设置，使得在整机组装过程中，将承载膜撕离后，同步完成芯片保护垫片以及屏蔽膜材的贴覆，确保芯片保护垫片与屏蔽层紧密贴合，从而降低了组装工序，以及膜材成本，并且避免了组装过程中芯片保护垫片的反离型，及屏蔽层的翘起现象，确保了电子产品质量。
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公开(公告)号：CN113500839A
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN202110810682.2
申请日：2021-07-16
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本申请公开了一种芯片保护膜材、电子设备组装方法及电子设备，包括：叠层设置的承载膜、屏蔽层及离型膜，以及设置在承载膜及屏蔽层之间的芯片保护垫片，芯片保护垫片呈支架结构。本申请实施例通过将芯片保护垫片以及屏蔽膜材一体设置，使得在整机组装过程中，将承载膜撕离后，同步完成芯片保护垫片以及屏蔽膜材的贴覆，确保芯片保护垫片与屏蔽层紧密贴合，从而降低了组装工序，以及膜材成本，并且避免了组装过程中芯片保护垫片的反离型，及屏蔽层的翘起现象，确保了电子产品质量。
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公开(公告)号：CN108759764B
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201811014958.0
申请日：2018-08-31
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G01B21/24
摘要： 本发明是关于一种轨道直线度确定装置，属于物流运输领域。轨道直线度确定装置包括：两个运动机构，每个所述运动机构被配置为卡接在第一轨道上；连杆，所述两个运动机构分别与所述连杆的两端活动连接；角度检测组件，所述角度检测组件固定设置在所述连杆上，且位于所述连杆与一个所述运动机构连接的一端，所述角度检测组件被配置为在所述两个运动机构沿着所述第一轨道移动的过程中，检测所述连杆的角度，所述角度检测组件检测到的所述连杆的角度用于确定所述第一轨道的直线度。由于运动机构在第一轨道的移动过程中，角度检测组件自动检测连杆的角度，从而可以根据连杆的角度确定第一轨道直线度，降低了操作复杂度，提高了测量效率。
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公开(公告)号：CN108917708A
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：CN201810846501.X
申请日：2018-07-27
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种测量器具，涉及测量技术领域，为解决现有的塞尺、基准测量块等测量器具无法准确测量两个平面高度差的问题而发明。该测量器具，包括：第一滑动件和第二滑动件，第二滑动件与第一滑动件滑动连接；第一支撑脚以及第二支撑脚，第一支撑脚和第二支撑脚均包括基准面，基准面用于被测平面相接触，第一支撑脚与第一滑动件转动连接，以使第一滑动件可绕第一转动轴线相对第一支撑脚转动，第二支撑脚与第二滑动件转动连接，以使第二滑动件可绕第二转动轴线相对第二支撑脚转动；倾角检测装置，倾角检测装置用于检测第一滑动件相对水平面的倾角大小。本发明可用于平面高度差等的测量。
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公开(公告)号：CN108759764A
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201811014958.0
申请日：2018-08-31
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G01B21/24
摘要： 本发明是关于一种轨道直线度确定装置，属于物流运输领域。轨道直线度确定装置包括：两个运动机构，每个所述运动机构被配置为卡接在第一轨道上；连杆，所述两个运动机构分别与所述连杆的两端活动连接；角度检测组件，所述角度检测组件固定设置在所述连杆上，且位于所述连杆与一个所述运动机构连接的一端，所述角度检测组件被配置为在所述两个运动机构沿着所述第一轨道移动的过程中，检测所述连杆的角度，所述角度检测组件检测到的所述连杆的角度用于确定所述第一轨道的直线度。由于运动机构在第一轨道的移动过程中，角度检测组件自动检测连杆的角度，从而可以根据连杆的角度确定第一轨道直线度，降低了操作复杂度，提高了测量效率。
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公开(公告)号：CN104617042B
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201510067735.0
申请日：2015-02-09
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
发明人： 刘翔
IPC分类号： H01L21/77 , H01L21/288 , H01L21/768 , H01L27/12
摘要： 本发明提供一种阵列基板及其制备方法，属于显示装置制造技术领域，其可解决现有的阵列基板制备工艺复杂或薄膜晶体管性能不好的问题。本发明的阵列基板制备方法包括：步骤1：在基底上形成半导体材料层；步骤2：在完成前述步骤的基底上形成光刻胶层，并通过曝光、显影至少除去对应源极、漏极位置的光刻胶层；步骤3：在完成前述步骤的基底上通过电镀工艺形成包括源极、漏极的图形；步骤4：剥离所述光刻胶层，在完成前述步骤的基底上通过构图工艺形成包括有源区的图形。
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公开(公告)号：CN103489920B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201310446633.0
申请日：2013-09-26
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
发明人： 刘翔
IPC分类号： H01L29/786 , H01L29/423 , H01L29/51 , H01L21/336 , H01L21/285 , H01L27/12
CPC分类号： H01L29/78606 , H01L27/1225 , H01L27/1262 , H01L29/4908 , H01L29/66969 , H01L29/7869
摘要： 本发明公开了一种薄膜晶体管，包括栅极、半导体层和绝缘层，其特征在于，所述绝缘层包括第一绝缘层，所述第一绝缘层由第一氧化硅薄膜和第二氧化硅薄膜组成，所述第二氧化硅薄膜与所述半导体层直接接触；其中，所述第二氧化硅薄膜的致密性大于所述第一氧化硅薄膜的致密性。第二氧化硅薄膜与半导体层之间形成良好界面，减少缺陷态，提高薄膜晶体管特性。本发明实施例还提供薄膜晶体管的制备方法、阵列基板和显示装置。
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公开(公告)号：CN102709234B
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201110240510.2
申请日：2011-08-19
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： H01L21/77 , H01L29/786
CPC分类号： H01L29/66969 , H01L27/1225 , H01L27/1288 , H01L29/78693
摘要： 本发明提供一种薄膜晶体管阵列基板及其制造方法和电子器件，属于液晶显示领域。其中，该阵列基板的制造方法，包括：第一次构图工艺，在透明基板上形成包括由半导体层组成的有源层和由第一金属层组成的相分离的源电极、漏电极的图形；第二次构图工艺，在经过所述第一次构图工艺的透明基板上形成绝缘层的图形，所述绝缘层的图形包括一露出所述源电极的接触过孔；第三次构图工艺，在经过所述第二次构图工艺的透明基板上形成包括由透明导电层组成的像素电极和由第二金属层组成的栅电极的图形，所述像素电极通过所述接触过孔与所述源电极连接。本发明的技术方案能够在采用三次构图工艺制作TFT阵列基板时提高产品的良品率。
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