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公开(公告)号：CN101636641B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN200780044834.0
申请日：2007-07-12
申请人： MKS仪器公司
发明人： 丁军华
CPC分类号： G01F1/68 , G01F15/005 , G01F25/0007 , G05B13/042 , G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要： 一种具有反馈控制器增益的质量流量控制器，包括：构造成探测流经所述控制器的流体流量的传感器；设置成调节流经所述控制器的流体流量的阀；以及构造成按照所述传感器所测得的流体流量的函数来控制所述阀的处理器。所述传感器和阀设置在反馈系统内，且所述处理器基于至少一个校准气体参数与至少一个工作气体参数的比值而实时修正反馈控制器增益，以使得反馈系统的闭环传递函数无关于操作条件而保持基本上恒定，从而在不同于校准条件的工作条件下具有一致的控制性能。
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公开(公告)号：CN103049008A
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201210384397.X
申请日：2012-10-11
申请人： 东京毅力科创株式会社
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0635 , G01F1/68 , G01F5/00 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/8158
摘要： 本发明提供一种流量控制装置以及处理装置。在控制流向气体通路的气体流量的流量控制装置中，具备：主气体管；检测流向该主气体管的气体的流量，输出流量信号的流量检测单元；控制流量的流量控制阀机构；存储用于表示从外部输入的流量指示信号与目标流量的关系的、与多个气体种类对应的多个换算数据的换算数据存储部；基于从外部输入的气体种类选择信号，从多个换算数据中选择对应的换算数据，并且基于流量指示信号求出上述目标流量，并基于目标流量与流量信号控制流量控制阀机构的流量控制主体。
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公开(公告)号：CN102667284A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080054455.1
申请日：2010-11-04
申请人： 株式会社富士金
CPC分类号： F16K31/007 , F16K7/14 , F16K25/005 , G05D7/0629 , Y10T137/6416 , Y10T137/7759 , Y10T137/776 , Y10T137/7761
摘要： 本发明一种提供即使是超过压电致动器的使用范围温度的温度的流体，也能够控制的压电驱动式阀和压电驱动式流体控制装置。本发明具备用于将流体流路(1b)开闭的阀体(2)、用于利用压电元件的伸长而对阀体(2)进行开闭驱动的压电致动器(10)以及用于将压电致动器(10)以从流体流路(1b)远离的方式举起并支撑且将从流动于流体流路(1b)的流体向压电致动器(10)传导的热散热的散热隔件(40)，而且，优选，具有容纳并支撑压电致动器(10)和散热隔件(40)的双方的支撑筒体(23A)，支撑筒体(23A)的至少容纳散热隔件(40)的部分由具有与散热隔件(40)相同的热膨胀系数的材料形成。
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公开(公告)号：CN101283221B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200680037170.0
申请日：2006-10-05
申请人： 西门子公司
发明人： 安德烈亚斯·迪贝尔斯 , 伯恩德·普拉德
CPC分类号： F23K5/147 , F02C7/30 , F05D2260/607 , F05D2260/80 , F23K2900/05001 , F23N2035/16 , F23N2041/20 , Y10T137/7759
摘要： 本发明涉及一种用于监测在带有阀(15)的燃料管道(9)中形成固体颗粒沉积的方法，其中，通过确定阀通流的开度和流过阀的燃料量，并且与之前确定的、表征管道(9)没有沉积物的参考值相比较，确定供燃料通过的管道(9)中的固体颗粒的沉积程度。本发明还涉及一种用于监测在带有阀(15)的燃料管道(9)中形成固体颗粒沉积的装置，其中，该装置具有用于确定当前燃料流的测量装置(45)和用于确定当前阀的位置的测量装置(40)，以及一分析系统(65)，其中，所述测量装置(40，45)与该分析系统(65)相连接。此外，本发明还涉及一种带有按本发明的方法和装置的燃烧室(3)和带有这种燃烧室(3)的燃气轮机。
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公开(公告)号：CN101581524B
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN200910135402.1
申请日：2009-04-23
申请人： 英国西门子公司
发明人： 尼古拉斯·曼
CPC分类号： F25D3/10 , F25D19/006 , F25D29/001 , H01F6/04 , H01F27/402 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/7762 , Y10T137/777 , Y10T137/7783 , Y10T137/7784
摘要： 在包含一安装于致冷剂容器(12)内的超导磁体(10)的MRI成像所用磁体系统中，提供了用于控制致冷剂气体从所述致冷剂容器流出的设备。所述设备包括：一个受控阀(42)，该受控阀将所述致冷剂容器的内部连接到气体排出路径；以及一个控制器(30)，该控制器经布置以控制所述阀。所述阀经布置使得所述致冷剂容器中超过所述气体排出路径中气体压力的气体压力作用于所述阀上，以便打开所述阀，并允许排放致冷剂气体。所述阀还经布置使得所述致冷剂容器中低于所述气体排出路径中气体压力的气体压力作用于所述阀上，以迫使其关闭，由此限制气体流动到所述致冷剂容器中。
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公开(公告)号：CN101840232A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN201010135729.1
申请日：2010-03-10
申请人： 株式会社堀场STEC
IPC分类号： G05B23/00
CPC分类号： G01F25/0007 , G01F1/36 , G01F1/50 , G01F25/00 , G01F25/0038 , G01F25/0053 , G05B23/00 , G05B23/02 , G05D7/0635 , H01L21/67017 , Y10T137/7759
摘要： 本发明提供一种测试系统，其无须对配管等作任何的设计变更便可低价引入到半导体制造工序等所使用的现存的气体配管系统中，且可以短时间进行基于准确的基准容积的质量流量控制器的测试。测试系统中设置有：测试用气体管线(KL)，和支流气体管线(SL)并排设置，且合流于合流后气体管线(ML)；基准容积计算部(32)，计算出由气体配管系统(GS)的配管自身所规定的基准容积；测试用参数计算部(33)，根据在由所要测试的质量流量控制器(1)进行流量控制的期间由压力测定机构(213)测定的测定压力的时间序列数据来计算出测试用参数；以及比较部(33)，将根据基准容积所设定的基准参数和测试用参数进行比较。
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公开(公告)号：CN101743441A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200880024454.5
申请日：2008-03-07
申请人： 松下电器产业株式会社
CPC分类号： G01F15/063 , F23K5/005 , F23K2401/201 , G01F1/667 , G01F15/001 , G01F15/005 , G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/776 , Y10T137/7837 , Y10T137/8326
摘要： 本发明的目的是适当地确保引起使用燃气量变化的器具的使用限制功能。本发明设置有：流量检测单元(10)；流量计算单元(11)；平均流量计算单元(12)；流量储存单元(13)，记录平均流量值；流量变化判定单元(14)，其判定是否有流量变化；流量登记单元(15)，当流量变化判定单元(14)已判定增量或减量变化时，其登记与流量变化相对应的流量或删除与该流量变化相近的登记流量；流量存储单元(16)；流量变化校正存储单元(17)，当流量变化判定单元已判定有变化并且仅登记最大流量时，其判定过去所删除的登记流量的总和和平均流量是否落入在预定范围内；判定期间单元(18)，当已判定在预定时间期间无变化时，其删除流量存储单元中的流量和登记流量，从而进行新登记；监视值存储单元(19)；异常判定单元(20)，其将流量登记单元中的流量值与监视值存储单元中的判定值进行比较，从而判定有无异常；和操作时间校正单元(22)，通过使用判定期间单元输出重新登记校正信号。
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公开(公告)号：CN101681175A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880007490.0
申请日：2008-03-03
申请人： MKS仪器公司
IPC分类号： G05D16/20
CPC分类号： G05D16/2013 , H01L21/67253 , Y10T137/7759
摘要： 一种压力控制系统，包括在压力传感器与压力控制器之间的数字通信网络。将所述数字通信网络配置为在所述压力传感器与所述压力控制器之间进行信号通信。将所述压力传感器配置为测量处理工具的真空室之内的压力。所述压力控制器响应于压力测量结果，所述压力测量结果由所述压力传感器测量并且经过所述数字通信网络发送到压力控制器，以控制所述真空室之内的压力，从而将所述真空室中的压力维持在从所述工具接收到的压力设定点。
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公开(公告)号：CN101603553A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200810184753.7
申请日：2008-12-04
申请人： APV罗西塔有限公司
发明人： 诺贝特·施普利特豪夫 , 托尔斯滕·赖克
CPC分类号： F15B13/0405 , F16K21/02 , Y10T137/7759 , Y10T137/87917 , Y10T137/88038
摘要： 本发明涉及一种食品加工中用于启动过程阀的设备(100)，该过程阀具有第一气缸和第二气缸，所述设备包括第二控制阀装置(103)和至少一个第一控制阀装置(102)，所述第一控制阀装置(102)至少具有用于双座阀的第一气缸的管路的连接器、进气连接器和排气连接器；所述第二控制阀装置(103)至少具有用于双座阀的第二气缸的管路的连接器、用于进气管路的连接器和用于排气管路的连接器，其中第一和第二控制阀装置(102，103)设置有分离的排气管路(104，105)。
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公开(公告)号：CN101581524A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200910135402.1
申请日：2009-04-23
申请人： 西门子磁体技术有限公司
发明人： 尼古拉斯·曼
CPC分类号： F25D3/10 , F25D19/006 , F25D29/001 , H01F6/04 , H01F27/402 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/7762 , Y10T137/777 , Y10T137/7783 , Y10T137/7784
摘要： 在包含一安装于致冷剂容器(12)内的超导磁体(10)的MRI成像所用磁体系统中，提供了用于控制致冷剂气体从所述致冷剂容器流出的设备。所述设备包括：一个受控阀(42)，该受控阀将所述致冷剂容器的内部连接到气体排出路径；以及一个控制器(30)，该控制器经布置以控制所述阀。所述阀经布置使得所述致冷剂容器中超过所述气体排出路径中气体压力的气体压力作用于所述阀上，以便打开所述阀，并允许排放致冷剂气体。所述阀还经布置使得所述致冷剂容器中低于所述气体排出路径中气体压力的气体压力作用于所述阀上，以迫使其关闭，由此限制气体流动到所述致冷剂容器中。
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