用于制备化合物的系统
    117.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204799250U

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201520417471.2

    申请日:2015-06-16

    IPC分类号: B01J19/12

    摘要: 本实用新型提供了用于制备化合物的系统。根据本实用新型的实施例,所述用于制备化合物的系统包括:光反应设备;以及纯化设备,所述纯化设备与所述光反应设备相连,其中,所述光反应设备包括:反应容器,所述反应容器中限定出光反应空间,并且所述反应容器是由透明材料制成的;以及光源,所述光源设置在所述反应容器的外部。本实用新型的用于制备化合物的系统具有下列优点的至少之一:操作简便、可控性强、光照质量较好或者较完全地保障光化学反应的进行。

    光反应设备
    118.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204799249U

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201520417444.5

    申请日:2015-06-16

    IPC分类号: B01J19/12

    摘要: 本实用新型提供了光反应设备。根据本实用新型的实施例,所述光反应设备包括:反应容器,所述反应容器中限定出光反应空间,并且所述反应容器是由透明材料制成的;以及光源,所述光源设置在所述反应容器的外部。本实用新型的光反应设备具有下列优点的至少之一:操作简便、可控性强、光照质量较好或者较完全地保障光化学反应的进行。

    光反应器
    119.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204799247U

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:CN201520414802.7

    申请日:2015-06-16

    IPC分类号: B01J19/12

    摘要: 本实用新型提供了光反应设备。根据本实用新型的实施例,所述光反应设备包括:反应容器,所述反应容器中限定出光反应空间,并且所述反应容器是由透明材料制成的;光源,所述光源设置在所述反应容器的外部;搅拌装置,所述搅拌装置设置在所述光反应空间中;扰流板,所述扰流板设置在所述反应容器的内壁上;液面限位件,所述液面限位件设置在所述的内壁上,并且所述液面限位件距离所述光反应器底部的高度为H,所述光源与所述反应容器竖轴的平均距离为R2,其中,液面高度H与R2满足关系式:0.5≦H/R2≦2。本实用新型的光反应设备具有下列优点的至少之一:操作简便、可控性强、光照质量较好或者较完全地保障光化学反应的进行。