化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法

    公开(公告)号:CN117908325A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202311342291.8

    申请日:2023-10-17

    Abstract: 本发明涉及化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且高对比度、线的LWR及孔洞的CDU经改善、图案形成后的蚀刻耐性仍优良的化学增幅抗蚀剂组成物,以及提供使用其的图案形成方法。该课题的解决手段是一种化学增幅抗蚀剂组成物,含有:(A)聚合物,因酸的作用而对碱水溶液的溶解性会增加,其含有下式(A1)表示的重复单元及下式(B1)表示的重复单元,且不含因曝光而产生酸的重复单元,及(B)光酸产生剂,以下式(PAG‑a)或(PAG‑b)表示,且因KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束或极紫外线的作用而产生酸。#imgabs0#

    正型抗蚀剂材料及图案形成方法
    123.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116893576A

    公开(公告)日:2023-10-17

    申请号:CN202310311665.3

    申请日:2023-03-28

    Abstract: 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供具有超过已知的正型抗蚀剂材料的感度及分辨率,边缘粗糙度、尺寸偏差小,且曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料,以及提供图案形成方法。该课题的解决手段为一种正型抗蚀剂材料,含有:含下式(a)表示的重复单元的基础聚合物。#imgabs0#式中,R为下式(a1)表示的基团。#imgabs1#式中,R1为也可含有氧原子的直链状或分支状的碳数1~6的脂肪族烃基,R2为也可含有氧原子的直链状或分支状的碳数2~6的不饱和脂肪族烃基。又,R1与R2也可互相键结并和它们所键结的碳原子一起形成碳数5~12的环。

    伸缩性膜及其形成方法
    130.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111378271B

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN201911356778.5

    申请日:2019-12-25

    Inventor: 畠山润

    Abstract: 本发明的目的是提供具有优良的伸缩性且膜表面的拨水性优良,而且表面不发粘的伸缩性膜及其形成方法。一种伸缩性膜,至少表面由含有有机硅聚氨酯树脂的伸缩性膜材料的固化物构成,其特征为:该伸缩性膜的表面形成有深度0.1μm~2mm、节距0.1μm~5mm的范围的凹凸的重复图案。

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