基板支撑装置
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109285805A

    公开(公告)日:2019-01-29

    申请号:CN201711257710.2

    申请日:2017-12-04

    Abstract: 一种基板支撑装置,包含一外壳及多个球状支撑体。该外壳有一上表面,该上表面包含多个开口。该外壳用于将所述多个球状支撑体定位于所述多个开口内,因此所述多个球状支撑体的最上表面被排列于该上表面之上的一平面。所述多个球状支撑体的一球状支撑体可在该外壳内旋转。

    稳定光学透镜温度的系统
    13.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113467190A

    公开(公告)日:2021-10-01

    申请号:CN202011162153.8

    申请日:2020-10-27

    Inventor: 廖啟宏 杨岳霖

    Abstract: 本揭露的实施例提供一种稳定光学透镜温度的系统,包含光源控制模块,光源控制模块包含红外线感测模块,红外线感测模块定位以侦测至少一光学透镜发射的红外线辐射,并产生代表至少一光学透镜的温度的红外线感测信号,至少一光学透镜接收来自第一光源的光,在至少一光学透镜接收的来自第一光源的光的能量密度具有可变能量密度以及光源控制器,光源控制器包含处理单元与至少一红外线光源,至少一红外线光源包含电子功率管理电路,处理单元配置以接收红外线感测信号,并产生控制信号,电子功率管理电路配置以接收控制信号,并调节来自至少一红外线光源的光的发射,红外线光源配置以导向光至至少一光学透镜。

    光罩及使用其的光微影方法

    公开(公告)号:CN110955111A

    公开(公告)日:2020-04-03

    申请号:CN201910244279.0

    申请日:2019-03-28

    Inventor: 廖啟宏 杨岳霖

    Abstract: 一种光罩及使用其的光微影方法。光罩包含基板、光反射结构、图案化层以及多个凸块。基板具有第一表面及第二表面。光反射结构位于基板的第一表面上。图案化层位于光反射结构上。多个凸块位于基板的第二表面上。多个空隙形成于凸块之间且凸块沿远离基板的第二表面的方向突出。

    提供光刻系统射线的设备
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110865517A

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201910773199.4

    申请日:2019-08-21

    Inventor: 廖启宏 杨岳霖

    Abstract: 本公开涉及一种提供光刻系统射线的设备。本文描述的实施例提供了一种光刻系统,具有两个或两个以上的光刻机台,连接到使用两个或两个以上的可变衰减单元的射线源。在一些实施例中,可变衰减单元将接收光束的一部分反射到附接到其上的光刻机台,并将接收光束的剩余部分传输到下游的光刻机台。在一些实施例中,射线源包括两个或两个以上的激光源,以提供具有增强的功率水平的激光束,并且可以防止由于激光源维护以及修理的操作中断。

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