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公开(公告)号：CN108367267B
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201680075015.1
申请日：2016-12-19
Abstract: 本发明提供一种吸附速度和吸附效率高于传统品的由羟基氧化铁构成的吸附材料。本发明的吸附材料粒子以羟基氧化铁为主成分，粒子的体积的90％以上由晶体粒径为20nm以下的粒状晶体、或宽度为10nm以下且长度为30nm以下的柱状晶体构成，BET比表面积为250m2/g以上。通过具有向选自由FeX3(这里X表示OH以外的1价的原子或原子团)表示的3价的铁化合物中的至少1种的溶液中一边将pH调节为3～6，一边添加由YOH(这里Y表示1价的原子或原子团)表示的碱，由此生成羟基氧化铁的工序，在上述工序结束时使FeX3、YOH和其他电解质的总和的浓度为10质量％以上，由此制造上述吸附材料粒子。
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公开(公告)号：CN108137345A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680057137.8
申请日：2016-10-06
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C01G49/02
CPC classification number: C01G49/02
Abstract: 本发明的目的在于提供一种稳定且不含有来自辅助成分的成分的羟基氧化铁的纳米分散液。本发明的羟基氧化铁的纳米分散液为以羟基氧化铁为主要成分且平均粒径d50为0.2μm以下、d90为1μm以下的粒子分散于溶剂而成的纳米分散液。羟基氧化铁优选为β-羟基氧化铁。此外，优选不含有除了来自铁化合物和碱中的至少任一种的物质、pH调节剂以及溶剂以外的成分。
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公开(公告)号：CN101547947A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200780044585.5
申请日：2007-12-04
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08F283/12 , C08F2/44 , C08L51/08
CPC classification number: C08F2/44 , C08G77/20 , C08J3/28 , C08K2003/2241 , C09D183/04 , C08K5/0025 , C08L33/06
Abstract: 本发明提供表面具有非常高的硬度同时内部以及背面侧具有适度的硬度、且与基体的密合性优异的有机无机复合物。所述有机无机复合物的特征在于，以a)用式(I)：RnSiX4－n(式中，R表示碳原子直接与Si结合的有机基团，X表示羟基或者水解性基团。n表示1或者2，在n为2时，各R可以相同或不同，(4－n)为2以上时，各X可以相同或不同。)表示的有机硅化合物的缩合物为主成分，还含有b)从金属螯合物、金属有机酸盐化合物、具有2个以上的羟基或水解性基团的金属化合物、它们的水解物及它们的缩合物中选择的至少1种对350nm以下的波长的光敏感的感光性化合物、和/或由其衍生的化合物，和c)紫外线固化性化合物的固化物。
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公开(公告)号：CN1638858A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN03805639.9
申请日：2003-03-12
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: B01J19/00 , B32B9/00 , C09D183/08 , C09D185/00 , C03C17/30
CPC classification number: C09D183/08 , B05D1/185 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/28 , C03C17/30 , C03C2218/113 , C09D183/04 , C09D185/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以很快成膜，并且杂质少，形成致密的化学吸附膜的方法。其特征在于在向含有活泼氢的基材的表面上制造化学吸附膜的方法中，包含用在有机溶剂中的金属氧化物或金属醇盐部分加水分解生成物和水处理具有至少1种加水分解性基团的金属系表面活性剂，使得到的溶液接触前述基材表面的工序。
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公开(公告)号：CN1152927C
公开(公告)日：2004-06-09
申请号：CN97191397.8
申请日：1997-10-07
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C09D5/00 , B01J35/002 , B01J35/004
Abstract: 本发明涉及在高温多湿环境下和要求耐碱性的户外环境下也能够使用的附载有光催化剂的构造体及用于制造该构造体的光催化剂涂层剂组合物。光催化剂涂层剂组合物的特征在于，包含光催化剂和赋予耐碱性的锆化合物及/或锡化合物。附载有光催化剂的构造体的特征在于，在光催化剂层和载体之间设有粘合层结构，光催化剂层包含光催化剂和赋予耐碱性的锆化合物及/或锡化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104114622B
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：CN201280069083.9
申请日：2012-07-10
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08J7/18 , C08J2483/00
Abstract: 本发明的课题在于：对表面具有比内部高的硬度的由聚硅氧烷系的有机无机复合体构成的膜的表面进一步进行无机质化。本发明的有机无机复合薄膜为具有含有a)式(I)所示的有机硅化合物的缩合物和b)有机高分子化合物的层的有机无机复合薄膜，在该膜的表面形成式(I)所示的有机硅化合物的缩合物浓缩而成的层，距离表面10nm的深度的碳原子的浓度与距离表面100nm的深度的碳原子的浓度相比，少20％以上，并且，距离膜的表面2nm的深度的O/Si元素比为18～2.5。RnSiX4-n (I)(式中，R表示碳原子与Si直接结合的有机基，X表示羟基或水解性基。n表示1或2，n为2时，各R相同或不同，(4-n)为2以上时，各X相同或不同)。
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公开(公告)号：CN101120055B
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN200680005174.0
申请日：2006-02-16
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08L83/04 , C09D183/04
CPC classification number: C09D183/14 , C08K3/22 , C09D183/04 , C09D183/06
Abstract: 本发明提供表面具有非常高硬度的同时，内部及背面侧具有适当硬度，并且与基体的密接性优良的有机无机复合体。该有机无机复合体的特征在于：以式(I)：RnSiX4-n(式中，R表示碳原子直接键合于式中Si的有机基团，X表示羟基或水解性基团。n表示1或2)所示的有机硅化合物的缩合物作为主要成分，含有至少1种感应350nm以下波长的光的感光化合物和/或由该感光化合物衍生的化合物，所述感光化合物选自金属螯合物、金属有机酸盐化合物、含有2个以上羟基或水解性基团的金属化合物、它们的水解物及它们的缩合物。
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公开(公告)号：CN101157078B
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN200710163166.5
申请日：2004-04-14
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以迅速而且稳定地多次连续形成杂质少、致密的有机薄膜的制造方法。该有机薄膜制造方法是在基板表面上形成有机薄膜的制造方法，其特征在于，包括把含有具有至少1个或更多个水解性基团的金属类表面活性剂和可以与此金属类表面活性剂相互作用的催化剂的有机溶剂溶液与所述基板接触的工序(A)，将所述有机溶剂溶液中的水分含量设定或保持在规定量范围。
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公开(公告)号：CN100594184C
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200680004505.9
申请日：2006-02-13
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C01G23/053 , C01G23/04 , B01J35/02
CPC classification number: C09C1/3669 , B01J21/063 , B01J35/004 , B01J37/0219 , B82Y30/00 , C01G23/053 , C01P2004/64
Abstract: 本发明提供可以迅速形成杂质少的致密的有机薄膜、且能成为钛氧化物薄膜形成材料的氧化钛粒子的分散液，由该分散液形成的钛氧化物薄膜，在上述分散液中添加具有水解性基团的金属化合物的溶液而得到的有机功能膜形成用溶液，使用该溶液而得到的有机功能膜形成基体及其制造方法。所述氧化钛粒子的分散液是在钛原子上结合水解性基团或羟基和螯合配体而成的钛螯合物的有机溶剂溶液中，添加相对于该钛螯合物为5倍摩尔以上的水而得到的；所述钛氧化物薄膜是使该分散液与由塑料等材质形成的基体的表面接触而形成的；所述有机功能膜形成用溶液是在具有水解性基团的金属化合物的有机溶剂溶液中，添加上述分散液而得到的；所述有机功能膜形成基体具有由该有机功能膜形成用溶液形成的有机功能膜；以及有机功能膜形成基体的制造方法。
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公开(公告)号：CN100451054C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200480009940.1
申请日：2004-04-14
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以迅速而且稳定地多次连续形成杂质少、致密的有机薄膜的有机薄膜制造方法。该有机薄膜制造方法是在基板表面上形成有机薄膜的有机薄膜制造方法，其特征在于，包括把含有具有至少1个或更多个水解性基团的金属类表面活性剂和可以与此金属类表面活性剂相互作用的催化剂的有机溶剂溶液与所述基板接触的工序(A)，将所述有机溶剂溶液中的水分含量设定或保持在规定量范围。
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