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公开(公告)号：CN101765621B
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN200880101226.3
申请日：2008-08-01
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08G77/16 , C07F7/21 , C08G77/38 , C08L1/28 , C08L83/06 , C09D101/26 , C09D183/04 , C09D183/06
CPC classification number: C07F7/21 , C08G77/045 , C08G77/12 , C08G77/14 , C08G77/16 , C08G77/18 , C08G77/20 , C08G77/24 , C08G77/70 , C08J5/18 , C08J2301/28 , C08J2483/04 , C08J2483/06 , C08L1/284 , C08L83/04 , C08L83/06 , C09D183/04 , C09D183/06 , C08L2666/26
Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有α，β-二醇基团的倍半硅氧烷，另外还提供一种含有倍半硅氧烷和羟烷基纤维素而成的有机无机杂化树脂组合物。其是含有通式(A)表示的笼形结构体的倍半硅氧烷和通式(B)表示的部分开裂笼形结构体的倍半硅氧烷而成的组合物。(RSiO3/2)l...(A)；(RSiO3/2)m(RSiO2H)n...(B)（在通式(A)和(B)中，l和m表示4以上的整数，n表示1以上的整数，n/(l+m)为0.03～0.2。R可彼此相同或不同，表示碳原子数1-10的烷氧基等。其中，在1个分子内至少1个是具有α，β-二醇的基团，有多个具有α，β-二醇的基团时，它们可彼此相同或不同）。
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公开(公告)号：CN1988965B
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200580024192.9
申请日：2005-07-21
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: B05D7/24 , B05D1/185 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/28 , C03C17/30 , C03C2217/76
Abstract: 本发明提供有机薄膜形成方法，其通过使有机薄膜形成用溶液与基板接触的工序，而在所述基板表面形成有机薄膜，所述有机薄膜形成用溶液是将由具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂(1)和在有机溶剂中能与所述金属类表面活性剂(1)相互作用的化合物得到的有机薄膜形成用辅助剂、和具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂(2)混合而得到的，该方法的特征为，含水量被调整或保持在规定量范围内；还提供有机薄膜形成方法，其通过使将具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂和能与所述表面活性剂相互作用的催化剂混合而得到的有机溶剂溶液与基板接触，而在所述基板表面形成有机薄膜，该方法的特征为，所述有机溶剂溶液含有规定量的水分，并且含有20～2000ppm的作为所述金属类表面活性剂的水解产物的含羟基化合物；用于有机薄膜形成方法的有机薄膜形成用辅助剂和有机薄膜形成用溶液。
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公开(公告)号：CN100436325C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN02815253.0
申请日：2002-08-02
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08K5/0091 , C08F291/00 , C08G18/3876 , C08G18/775 , C08L51/003 , C08L51/10 , C09D1/00
Abstract: 本发明涉及一种具有金属-氧键的分散成分，它是在酸、碱和/或分散体稳定剂不存在下，在有机溶剂中利用0.5mol至低于1mol的水/mol金属醇盐或在-20℃或-20℃以下利用1.0至低于2.0mol的水/mol金属醇盐来水解金属醇盐而生产。在有机溶剂中，该分散成分稳定地分散但不会聚集。分散成分的使用使得可以在低至200℃或200℃以下的温度下生产出薄金属氧化物膜和均匀的有机/无机复合物。
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公开(公告)号：CN1988965A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200580024192.9
申请日：2005-07-21
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: B05D7/24 , B05D1/185 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/28 , C03C17/30 , C03C2217/76
Abstract: 本发明提供有机薄膜形成方法，其通过使有机薄膜形成用溶液与基板接触的工序，而在所述基板表面形成有机薄膜，所述有机薄膜形成用溶液是将由具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂(1)和在有机溶剂中能与所述金属类表面活性剂(1)相互作用的化合物得到的有机薄膜形成用辅助剂、和具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂(2)混合而得到的，该方法的特征为，含水量被调整或保持在规定量范围内；还提供有机薄膜形成方法，其通过使将具有至少1个水解性基团的金属类表面活性剂和能与所述表面活性剂相互作用的催化剂混合而得到的有机溶剂溶液与基板接触，而在所述基板表面形成有机薄膜，该方法的特征为，所述有机溶剂溶液含有规定量的水分，并且含有20～2000ppm的作为所述金属类表面活性剂的水解产物的含羟基化合物；用于有机薄膜形成方法的有机薄膜形成用辅助剂和有机薄膜形成用溶液。
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公开(公告)号：CN1774305A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200480009940.1
申请日：2004-04-14
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以迅速而且稳定地多次连续形成杂质少、致密的有机薄膜的有机薄膜制造方法。该有机薄膜制造方法是在基板表面上形成有机薄膜的有机薄膜制造方法，其特征在于，包括把含有具有至少1个或更多个水解性基团的金属类表面活性剂和可以与此金属类表面活性剂相互作用的催化剂的有机溶剂溶液与所述基板接触的工序(A)，将所述有机溶剂溶液中的水分含量设定或保持在规定量范围。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101534967B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN200780040995.2
申请日：2007-11-13
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08K5/04 , B05D1/185 , B05D7/24 , B05D2202/00 , B05D2203/35 , C03C17/30 , C03C2217/76 , C03C2218/113 , C08K5/01 , C08K5/05 , C08K5/5419 , C09D7/63 , C09K3/18
Abstract: 本发明的课题在于提供能够迅速形成杂质少且致密的单分子膜的有机薄膜形成方法。该有机薄膜形成方法包含：1)制备含羟基溶液的工序，将下述a)、b)和c)以使得含羟基溶液中的(A)和(B)的合计量为0.1重量％～80重量％的方式混合、进行水解而生成含羟基化合物，a)在有机溶剂中含有具有至少1个以上水解性基团的金属系表面活性剂(A)和能与金属系表面活性剂相互作用的化合物(C)的有机薄膜形成用辅助剂，b)具有至少1个以上水解性基团的金属系表面活性剂(B)，和c)水；2)将上述1)的工序中得到的含羟基溶液与有机溶剂混合从而制备有机薄膜形成用溶液的工序；和3)使上述2)的工序中得到的有机薄膜形成用溶液与基板接触的工序。
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公开(公告)号：CN101087679B
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN200580044909.6
申请日：2005-12-28
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明涉及成型用模具或电铸母模，其特征在于，使模具或母模与含有式[1]：Rn-Si-X4-n……[1]；(式[1]中，R表示可以具有取代基的C1～20烃基、可以具有取代基的C1～20卤代烃基、含有连接基的C1～20烃基或含有连接基的C1～20卤代烃基，X表示羟基、卤素原子、C1～C6的烷氧基或酰氧基，n表示1～3的整数。)表示的硅烷类表面活性剂及可以与该硅烷类表面活性剂进行相互作用的催化剂的有机溶剂溶液进行接触，从而使模具表面或母模表面形成含有耐磨损性及剥离性能优异的有机薄膜的脱模层。
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公开(公告)号：CN101534967A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：CN200780040995.2
申请日：2007-11-13
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08K5/04 , B05D1/185 , B05D7/24 , B05D2202/00 , B05D2203/35 , C03C17/30 , C03C2217/76 , C03C2218/113 , C08K5/01 , C08K5/05 , C08K5/5419 , C09D7/63 , C09K3/18
Abstract: 本发明的课题在于提供能够迅速形成杂质少且致密的单分子膜的有机薄膜形成方法。该有机薄膜形成方法包含：1)制备含羟基溶液的工序，将下述a)、b)和c)以使得含羟基溶液中的(A)和(B)的合计量为0.1重量％～80重量％的方式混合、进行水解而生成含羟基化合物，a)在有机溶剂中含有具有至少1个以上水解性基团的金属系表面活性剂(A)和能与金属系表面活性剂相互作用的化合物(C)的有机薄膜形成用辅助剂，b)具有至少1个以上水解性基团的金属系表面活性剂(B)，和c)水；2)将上述1)的工序中得到的含羟基溶液与有机溶剂混合从而制备有机薄膜形成用溶液的工序；和3)使上述2)的工序中得到的有机薄膜形成用溶液与基板接触的工序。
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公开(公告)号：CN100503029C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN03805639.9
申请日：2003-03-12
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: B01J19/00 , B32B9/00 , C09D183/08 , C09D185/00 , C03C17/30
CPC classification number: C09D183/08 , B05D1/185 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/28 , C03C17/30 , C03C2218/113 , C09D183/04 , C09D185/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以很快成膜，并且杂质少，形成致密的化学吸附膜的方法。其特征在于在向含有活泼氢的基材的表面上制造化学吸附膜的方法中，包含使在有机溶剂中用金属氧化物或金属醇盐部分加水分解生成物和水处理具有至少1种加水分解性基团的金属系表面活性剂而得到的溶液接触前述基材表面的工序。
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公开(公告)号：CN101157078A
公开(公告)日：2008-04-09
申请号：CN200710163166.5
申请日：2004-04-14
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以迅速而且稳定地多次连续形成杂质少、致密的有机薄膜的有机薄膜制造方法。该有机薄膜制造方法是在基板表面上形成有机薄膜的有机薄膜制造方法，其特征在于，包括把含有具有至少1个或更多个水解性基团的金属类表面活性剂和可以与此金属类表面活性剂相互作用的催化剂的有机溶剂溶液与所述基板接触的工序(A)，将所述有机溶剂溶液中的水分含量设定或保持在规定量范围。
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