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公开(公告)号：CN110383517A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880015385.5
申请日：2018-03-05
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: H01L41/047 , A61B8/00 , H01L41/113 , H01L41/29 , H04R17/00 , H04R31/00
Abstract: 提供提高了金属电极对压电元件的紧贴性的压电部件。压电部件(102)具备压电元件(21)和分别形成压电元件(21)的一对对置面(21b、21c)上的一对电极(41、42)，电极(41、42)具有：基底膜(41a)，其形成在压电元件(21)的对置面(21b、21c)上，具有硫醇基；金属粘合膜(41b)，其形成在基底膜(41a)上；以及电极膜(41c)，其形成在金属粘合膜(41b)上，用于对压电元件(21)施加电压，金属粘合膜(41b)由与电极膜(41c)不同的材料形成，具有1nm以上10nm以下的厚度。
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公开(公告)号：CN116430487A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202211397032.0
申请日：2022-11-09
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Inventor： 多田一成
Abstract: 本发明的问题在于：提供高温高湿环境下的特性优异，能够容易地以低成本进行实用化的功能性膜和功能性膜的制造方法。本发明的功能性膜(100)为设置在基材(1)上并且表面具有细微的凹凸结构(20)的功能性膜(100)，所述功能性膜具有至少一层的凹凸形状层(41或42)和设置在该凹凸形状层(41或42)上的包覆层5。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110383517B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN201880015385.5
申请日：2018-03-05
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 提供提高了金属电极对压电元件的紧贴性的压电部件。压电部件(102)具备压电元件(21)和分别形成压电元件(21)的一对对置面(21b、21c)上的一对电极(41、42)，电极(41、42)具有：基底膜(41a)，其形成在压电元件(21)的对置面(21b、21c)上，具有硫醇基；金属粘合膜(41b)，其形成在基底膜(41a)上；以及电极膜(41c)，其形成在金属粘合膜(41b)上，用于对压电元件(21)施加电压，金属粘合膜(41b)由与电极膜(41c)不同的材料形成，具有1nm以上10nm以下的厚度。
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公开(公告)号：CN115702369A
公开(公告)日：2023-02-14
申请号：CN202180044588.9
申请日：2021-06-07
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供能够形成耐久性、耐擦过性和防反射功能优异的亲水性膜的亲水性膜的制造方法、亲水性膜和光学部件。本发明的亲水性膜的制造方法的特征在于，是在具有在基板上形成以SiO2为主成分的亲水层的工序的亲水性膜的制造方法中，用湿式成膜法将至少一层的上述亲水层以干燥后的层厚按光学层厚换算成为10nm以下的方式形成在上述基板上，且上述亲水性膜的算术平均粗糙度Ra为3nm以上。
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公开(公告)号：CN109155359B
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN201780030141.X
申请日：2017-04-25
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: H01L41/332 , H01L21/306 , H01L21/308 , H01L41/18 , H01L41/338
Abstract: 本发明是压电元件的制造方法。该制造方法是对包含使由Pb类压电材料构成的压电体和树脂交替排列的压电体复合物的压电元件进行制造的方法，包含利用蚀刻液对通过切割而形成的并列的多个压电体切片进行蚀刻的工序。上述蚀刻液使用含有0.1～20质量％的六氟硅酸的液体。
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公开(公告)号：CN113167928A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980082853.5
申请日：2019-11-27
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供具有低的光反射率、亲水性和光催化性，耐盐水性或耐伤性等特性也优异的电介质多层膜、其制造方法和使用其的光学构件。本发明的电介质多层膜是在基板上由多个层构成的电介质多层膜，其特征在于，所述多个层具有至少1层低折射率层和至少1层高折射率层，最远离所述基板的最上层为所述低折射率层，在所述最上层的基板侧配置的所述高折射率层为含有具有光催化功能的金属氧化物的功能层，所述最上层为含有具有亲水功能的金属氧化物的亲水性层，并且具有使所述功能层的表面部分地露出的细孔，所述细孔的宽度的平均值为5nm以上。
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公开(公告)号：CN109155359A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780030141.X
申请日：2017-04-25
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: H01L41/332 , H01L21/306 , H01L21/308 , H01L41/18 , H01L41/338
Abstract: 本发明是压电元件的制造方法。该制造方法是对包含使由Pb类压电材料构成的压电体和树脂交替排列的压电体复合物的压电元件进行制造的方法，包含利用蚀刻液对通过切割而形成的并列的多个压电体切片进行蚀刻的工序。上述蚀刻液使用含有0.1～20质量％的六氟硅酸的液体。
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