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公开(公告)号：CN112225171A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN202010580125.1
申请日：2020-06-23
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种薄膜的制造方法，在薄膜上形成图案时，能够防止应用的掩模部件在干蚀刻时的掩模的磨损或缺损，并且能够以高精度形成具有微细结构的细孔的薄膜。本发明的薄膜的制造方法是具有细孔的薄膜的制造方法，其特征在于，在基板上形成薄膜之后，在该薄膜上依次层叠至少由自组织化材料构成的第一掩模和与所述第一掩模相比对反应性蚀刻处理或物理蚀刻处理具有耐性的第二掩模，通过干蚀刻处理在所述薄膜上形成细孔。
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公开(公告)号：CN112005131A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201980027702.X
申请日：2019-04-19
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明的光学薄膜是在基材上设置的光学薄膜，具有：含有硅(Si)的氧化物的硅氧化物层；和在该硅氧化物层上设置、含有氟化物的防水层，采用纳米压痕所测定的所述硅氧化物层的硬度为9GPa以上，采用AFM所测定的所述防水层的算术平均粗糙度为0.7nm以上。
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公开(公告)号：CN107615102A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680030219.3
申请日：2016-03-22
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
Abstract: 本发明提供一种显示部件和平视显示器装置，其兼备优异的耐久性和能见性，并且能够以低成本提供。显示部件具有由树脂形成的基材和设置在基材上的硬涂层，在基材的面以被硬涂层覆盖的方式形成多个圆锥状突起部，圆锥状突起部的自基材起的高度d和圆锥状突起部的底面的半径r分别为700nm以下的尺寸，圆锥状突起部的密集度为70～92％。
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公开(公告)号：CN103443857B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201280008900.X
申请日：2012-02-10
Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
IPC: G11B7/1374 , G11B7/1353 , G02B19/00
CPC classification number: G11B7/1374 , G02B19/0076 , G11B7/1353
Abstract: 本发明提供一种即使为高NA物镜，也能够良好地测定安装在光拾取装置时的倾斜度且能够高精度地装配光拾取装置的高NA物镜及具备该高NA物镜的光拾取装置。该物镜具有：形成于光源侧的第一光学面、以面向第一光学面且曲率半径大于第一光学面的方式形成的第二光学面、从光轴方向观察位于第二光学面外侧且与光轴大致垂直的平面即端面，像侧数值孔径(NA)为0.7以上、0.9以下，作为从光轴方向观察通过光轴及端面的直线，将端面范围内的直线的距离设为A(mm)，从光轴至端面最外周部的直线的距离设为B(mm)时，满足以下式(1)即0.12
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