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公开(公告)号：CN107002224A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580061590.1
申请日：2015-11-10
Applicant: 夏普株式会社
Abstract: 本发明提供能对应基板的大型化的具备新颖对准机构的蒸镀装置、蒸镀方法、及有机电致发光元件的制造方法。本发明是一边在第一方向运送基板一边进行蒸镀的蒸镀装置，蒸镀装置具备：掩膜；含有基板保持部、及从基板保持部向掩膜侧突出沿着第一方向被设置的导引部的基板拖盘；被设置在掩膜一方的第一端部、或导引部的距离测定装置；被连接于掩膜另一方的第二端部的驱动装置；距离测定装置，在导引部与第一端部对向时，测定距离测定装置与导引部、或第一端部之间的距离；驱动装置，可基于距离测定装置的测定值，在与第一方向正交的第二方向驱动掩膜。
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公开(公告)号：CN105981476A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201580006196.8
申请日：2015-02-10
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/5008 , H01L27/3211 , H01L51/0085 , H01L51/5004 , H01L51/5024 , H01L51/504 , H01L51/5056 , H01L51/5072 , H01L51/5096 , H01L51/5206 , H01L51/5221 , H01L2251/5384 , H01L2251/552 , H01L2251/558
Abstract: 本发明提供发光效率和生产率高的有机EL元件和具备上述有机EL元件的有机EL面板。本发明的有机电致发光元件依次具有阳极、空穴输送层、发光单元、电子输送层和阴极，上述发光单元包括混合发光层，并且在上述空穴输送层与上述混合发光层之间和/或上述电子输送层与上述混合发光层之间包括发光掺杂剂层，上述混合发光层含有第一发光主体材料和第一发光掺杂剂材料，上述发光掺杂剂层实质上仅由第二发光掺杂剂材料构成，并且比上述混合发光层薄。
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公开(公告)号：CN105940140A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201480074226.4
申请日：2014-11-28
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/0002 , C23C14/042 , C23C14/044 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/546 , C23C16/455 , C23C16/50 , H01L51/0008 , H01L51/5012 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供在整个蒸镀区域中基板上的蒸镀率的控制精度优异的蒸镀装置、蒸镀方法和有机电致发光元件的制造方法。本发明提供在基板上形成膜的蒸镀装置，上述蒸镀装置包括第一膜厚监视部和包含蒸镀源的蒸镀单元，并且，一边基于上述第一膜厚监视部的测定结果，控制从上述蒸镀源放出气化后的材料的部分与上述基板的被蒸镀的表面之间的距离，一边进行蒸镀。
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公开(公告)号：CN103283306B
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201180062835.4
申请日：2011-12-20
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L21/02104 , C23C14/042 , C23C16/042 , H01L27/3211 , H01L33/005 , H01L51/0011 , H01L51/524 , H01L51/56 , H01L2251/566 , H05B33/04 , H05B33/10
Abstract: 在基板（3）中的形成蒸镀膜的面，以在包含显示区域（R1）的、密封树脂（11）呈框状形成的密封区域内具有开口部的方式形成光致抗蚀剂（13），接着形成具有条状的图案的发光层（8R、8G、8B），接着以剥离液除去光致抗蚀剂（13），从而形成被高精细地图案形成的发光层（8R、8G、8B）。
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公开(公告)号：CN104968827A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：CN201480007204.6
申请日：2014-01-28
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: C23C16/042 , C23C14/04 , C23C14/12 , H01L51/001 , H01L51/50
Abstract: 蒸镀装置(50)包括Y轴和X轴方向的长度比被成膜基板(200)短的多个蒸镀掩模(80)，在Y轴方向上相邻的蒸镀掩模(80)在X轴方向上错开地配置，在Y轴方向上相邻的各掩模开口组区域(82)在X轴方向上重叠的重叠区域(83)中，在平面视图中Y轴方向的开口长度随着向各掩模开口组区域(82)的外侧去而逐渐变短。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103430625A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201280012948.8
申请日：2012-03-09
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/243 , H05B33/10
Abstract: 蒸镀装置(1)通过蒸镀处理在被成膜基板(40)上形成规定图案的发光层(47)，蒸镀装置(1)包括：喷嘴(13)，其形成有在进行蒸镀处理时向被成膜基板(40)射出形成发光层(47)的蒸镀颗粒(17)的多个射出口(16)；和多个限制板(20)，该多个限制板(20)配置于喷嘴(13)与被成膜基板(40)之间，对从多个射出口(16)射出的蒸镀颗粒(17)相对于被成膜基板(40)的入射角进行限制，喷嘴(13)包括：在配置被成膜基板(40)的一侧的面具有开口部(14c)的容器形状的喷嘴主体(14b)；和多个块体(15)，该多个块体(15)覆盖开口部(14c)，相互分离，且分别形成有多个射出口(16)。由此，形成高精细的蒸镀膜图案。
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公开(公告)号：CN103429784A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201280012570.1
申请日：2012-03-05
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/0011 , C23C14/24 , C23C14/243 , C23C14/564 , H01L21/02104 , H01L51/001 , H01L51/56
Abstract: 蒸镀颗粒射出装置（20）具备：坩埚（22）；具有至少1个射出口（21a）的保持件（21）；和设置在保持件（21）内的板状部件（23～25）。板状部件（23～25）具有与射出口（21a）对应设置的开口部（23a～25a），并且板状部件（23～25）在与开口面垂直的方向上相互分离地设置。射出口（21a）和各开口部（23a～25a）在俯视时彼此重叠。
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公开(公告)号：CN103270816A
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201180062848.1
申请日：2011-12-20
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/042 , C23C16/042 , H01L21/02104 , H01L27/3211 , H01L51/0011 , H01L2227/323 , H01L2251/566 , H05B33/04 , H05B33/10
Abstract: 屏蔽膜（13）以在显示区域（R1）（发光区域）和密封区域内具有开口部的方式形成，接着形成具有条状的图案的发光层（8R、8G、8B），接着剥离屏蔽膜（13），从而形成被高精细地图案形成的发光层（8R、8G、8B）。
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公开(公告)号：CN103238375A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：CN201180058067.5
申请日：2011-12-13
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L22/10 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/243 , H01L51/0011 , H01L51/56 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 使基板(10)与蒸镀掩模(70)在隔开固定间隔的状态下相对地移动，同时使从蒸镀源(60)的蒸镀源开口(61)放出的蒸镀颗粒(91)依次通过限制板单元(80)所具有的多个限制板(81)间的空间(82)和蒸镀掩模的掩模开口(71)并附着在基板上，形成覆膜(90)。判断是否需要对多个限制板中的至少一个的X轴方向位置进行校正，在需要进行校正的情况下，对多个限制板中的至少一个的X轴方向位置进行校正。由此，能够在大型基板上的预期位置上稳定地形成抑制了端缘的模糊的覆膜。
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公开(公告)号：CN103210113A
公开(公告)日：2013-07-17
申请号：CN201180054721.5
申请日：2011-12-13
Applicant: 夏普株式会社
CPC classification number: H01L51/56 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/243 , H01L51/0011 , H01L51/50
Abstract: 依次配置有蒸镀源（60）、限制板单元（80）和蒸镀掩模（70）。限制板单元具备沿第一方向配置的多个限制板（81）。在第一方向上规定限制空间的限制板的侧面构成为：相对于在第一方向上相邻的限制板间的限制空间（82）的第一方向尺寸最狭窄的最狭窄部（81n），至少在蒸镀源侧，形成限制空间的第一方向尺寸比最狭窄部宽的部位。由此，能够在大型基板上的期望位置形成端缘的模糊被抑制的覆膜。
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