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公开(公告)号：CN101927608B
公开(公告)日：2013-02-06
申请号：CN201010208492.5
申请日：2010-06-18
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B41J2/165
Abstract: 本发明涉及维护装置及喷出装置。本发明提供一种以在头的下方移动且能进行喷出口的清扫和检查的方式构成的维护装置及具有维护装置的喷出装置。本发明的维护装置(10)沿喷出装置(70)的主导轨(72)移动，该喷出装置(70)是使基板(95)沿主导轨(72)移动，并通过头保持部(80)的下方，从多个头(81)的喷出口(82)使喷出液的液滴喷出，并命中到基板(95)。维护装置(10)具有：载置于主导轨(72)上的第一移动台(15a)；配置于第一移动台(15a)上的载置台(19)；载置于载置台(19)上的检查装置(20)和清扫装置(30)。通过使第一移动台(15a)沿主导轨(72)移动到头保持部(80)的下方，然后，通过使载置台(19)在第一移动台(15a)上移动，使清扫装置(30)配置于各头(81)的正下方，进而能除去喷出口(82)的附着物，或者，使检查装置(20)的摄像机的焦点配置于各喷出口(82)的正下方，并对喷出液的液滴进行摄影，进而能检查喷出口(82)。
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公开(公告)号：CN101927599B
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201010208450.1
申请日：2010-06-18
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B41J2/01
Abstract: 本发明涉及喷出装置及使用喷出装置的喷出方法。本发明提供一种喷出装置，在使基板通过头保持部之下的期间能同样地喷出油墨。本发明的喷出装置具有头保持部(30)和在y轴方向能移动的基板移动部(20)。在头保持部(30)，多个头(32)构成头组，多个头组构成头群。一个头组中的头(32)以多个喷出口(35)正投影于x轴上的位置间隔相等的方式配置，且在一个头群中，正投影于x轴上的喷出口的位置关系中，在一个头组中邻接的两个喷出口(35)之间设置其它的头组的喷出口(35)，多个头组中的喷出口等间隔地配置。将被喷出范围的宽度为一个头群中包含的喷出口(35)的列的x轴方向的宽度以下的基板(50)，在基板移动部(20)上对位后，一边使其通过头保持部(30)之下，一边喷出所述油墨，由此，能同样地喷出。
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公开(公告)号：CN101927608A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010208492.5
申请日：2010-06-18
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B41J2/165
Abstract: 本发明涉及维护装置及喷出装置。本发明提供一种以在头的下方移动且能进行喷出口的清扫和检查的方式构成的维护装置及具有维护装置的喷出装置。本发明的维护装置(10)沿喷出装置(70)的主导轨(72)移动，该喷出装置(70)是使基板(95)沿主导轨(72)移动，并通过头保持部(80)的下方，从多个头(81)的喷出口(82)使喷出液的液滴喷出，并命中到基板(95)。维护装置(10)具有：载置于主导轨(72)上的第一移动台(15a)；配置于第一移动台(15a)上的载置台(19)；载置于载置台(19)上的检查装置(20)和清扫装置(30)。通过使第一移动台(15a)沿主导轨(72)移动到头保持部(80)的下方，然后，通过使载置台(19)在第一移动台(15a)上移动，使清扫装置(30)配置于各头(81)的正下方，进而能除去喷出口(82)的附着物，或者，使检查装置(20)的摄像机的焦点配置于各喷出口(82)的正下方，并对喷出液的液滴进行摄影，进而能检查喷出口(82)。
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公开(公告)号：CN101815659A
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200880109962.3
申请日：2008-11-11
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B65G49/06 , B23Q1/01 , B23Q1/58 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67748 , B65G49/061 , B65G2249/04 , B65G2249/045 , H01L21/67103 , H01L21/68757 , Y10T483/10
Abstract: 一种可动元件，载置并移动被处理基板，其特征在于，包括：由金属材料制成的主板；和配置在所述主板上，并由硬度高于所述金属材料的材料制成的多个副板，所述多个副板的上表面为所述被处理基板的载置面。
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公开(公告)号：CN101267894A
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200680034370.0
申请日：2006-10-26
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B41J2/175 , B41J2/18 , G02F1/1303 , G02F1/13394 , Y10T137/3115 , Y10T137/3127 , Y10T137/85954
Abstract: 本发明提供气泡发生较少的涂布装置。使供给侧的循环罐(31L)的内部空间压力为比大气压低但比缓冲罐(41a－41c)内部空间压力高的压力，供给分散液，使作为回收目的地的循环罐(31R)的内部压力比大气压低，回收喷出室(42a－42c)内部的分散液。分散液不与比大气压高的高压气体接触，因此气体的溶解少，不使用泵，因此没有气体卷入或固体微粒的变形。
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公开(公告)号：CN101048695A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200580037005.0
申请日：2005-10-19
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: G02F1/1339 , B05C11/10 , B05C5/00 , B41J2/175
Abstract: 在第一发明的发明中，由于间隔物分散液的流动是在输送室(2)中发生的，所述输送室(22)通过内部过滤器(30)而与排放室(21)隔开，所以喷嘴片(26)侧的排放室(21)不受其影响，从喷出孔(32)稳定地喷出间隔物分散液。在第二发明中，由于在排放间隔物分散液(167)的印刷状态下，在排放室(121)内部没有间隔物分散液流动，所以从喷出孔(132)稳定地排放间隔物分散液(167)。相反，在不进行排放的待机状态下，间隔物分散液在排放室(121)和输送室(122)这双方中流动，所以间隔物分散液(167)中的间隔物粒子(169)不会下沉。
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