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公开(公告)号：CN101927610B
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201010207271.6
申请日：2010-06-17
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B41J2/21 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明涉及喷出装置。本发明提供一种喷出装置中命中位置与喷出口的对位方法。本发明的喷出装置(10)具有在第一方向能移动的基板移动部(20)、保持多个头(32)的头保持部(30)、移动摄像机(21)、多个固定摄像机(31)。首先，由移动摄像机(21)对头(32)所具有的喷出口(35)进行拍摄，并通过个别头位置修正单元进行各头(32)的相对的对位。接着，由固定摄像机(31)对基板(50)上的多个基板基准点进行拍摄，并以多个基板基准点与第二方向平行的方式，利用基板旋转机构(42)使基板(50)旋转移动。再接着，由头移动机构使头保持部(30)向对位方向仅移动所希望距离。通过以上的顺序，能以基板(50)上的规定的命中位置通过规定的喷出口(35)的正下方位置的方式进行对位。
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公开(公告)号：CN101815659B
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN200880109962.3
申请日：2008-11-11
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B65G49/06 , B23Q1/01 , B23Q1/58 , H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67748 , B65G49/061 , B65G2249/04 , B65G2249/045 , H01L21/67103 , H01L21/68757 , Y10T483/10
Abstract: 一种可动元件，载置并移动被处理基板，其特征在于，包括：由金属材料制成的主板；和配置在所述主板上，并由硬度高于所述金属材料的材料制成的多个副板，所述多个副板的上表面为所述被处理基板的载置面。
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公开(公告)号：CN101927599A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010208450.1
申请日：2010-06-18
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B41J2/01
Abstract: 本发明涉及喷出装置及使用喷出装置的喷出方法。本发明提供一种喷出装置，在使基板通过头保持部之下的期间能同样地喷出油墨。本发明的喷出装置具有头保持部(30)和在y轴方向能移动的基板移动部(20)。在头保持部(30)，多个头(32)构成头组，多个头组构成头群。一个头组中的头(32)以多个喷出口(35)正投影于x轴上的位置间隔相等的方式配置，且在一个头群中，正投影于x轴上的喷出口的位置关系中，在一个头组中邻接的两个喷出口(35)之间设置其它的头组的喷出口(35)，多个头组中的喷出口等间隔地配置。将被喷出范围的宽度为一个头群中包含的喷出口(35)的列的x轴方向的宽度以下的基板(50)，在基板移动部(20)上对位后，一边使其通过头保持部(30)之下，一边喷出所述油墨，由此，能同样地喷出。
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公开(公告)号：CN101927600B
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN201010212510.7
申请日：2010-06-22
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明涉及喷出装置及喷出方法。本发明提供喷出装置及喷出方法，其构成为，对沿两个导轨移动基板的基板移动部在水平面上的旋转方向的倾斜进行检测并修正。本发明的喷出装置(10)构成为，具有第一、第二主干涉装置(62a)、(62b)、和第一、第二主镜装置(61a)、(61b)，能测定在基板移动部(20)的水平面上的旋转方向的倾斜。基板移动部(20)的移动中，根据该测定结果分别控制两个导轨上的移动量，使所述倾斜与移动开始前相同。喷出装置(10)构成为，具有第一、第二副干涉装置(62c)、(62d)、和副镜装置(61c)，且能测定基板移动部(20)在x轴方向的位置。基板移动部(20)的移动中，通过根据该测定结果控制头(32)的移动并使头(32)与基板移动部(20)的x轴方向的相对位置关系与移动开始前相同，能使从喷出口(35)喷出的喷出液，命中基板(50)上的各命中位置。
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公开(公告)号：CN102037552B
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN200980117984.9
申请日：2009-05-13
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B25B1/00 , B65G49/061 , B65G2249/02
Abstract: 提供一种能够高速运送基板的基板平台。在本发明的基板平台(10)中，将辅助载置台(12a～12d)安装在主载置台(11)上，将下部导轨(131、132)从主载置台(11)上横跨到辅助载置台(12a～12d)上进行配置。若通过上下方向调整装置(6)预先使下部导轨(131、132)的两端向上弯曲，则在辅助载置台(12a～12d)的端部向下弯曲时，下部导轨(131、132)便变得笔直。由于下部导轨(131、132)未分割，因而直线性得到确保，移动板(16)不会发生摇摆，因而能够使基板(5)高速移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100478764C
公开(公告)日：2009-04-15
申请号：CN200580037005.0
申请日：2005-10-19
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: G02F1/1339 , B05C11/10 , B05C5/00 , B41J2/175
Abstract: 在第一发明的发明中，由于间隔物分散液的流动是在输送室(2)中发生的，所述输送室(22)通过内部过滤器(30)而与排放室(21)隔开，所以喷嘴片(26)侧的排放室(21)不受其影响，从喷出孔(32)稳定地喷出间隔物分散液。在第二发明中，由于在排放间隔物分散液(167)的印刷状态下，在排放室(121)内部没有间隔物分散液流动，所以从喷出孔(132)稳定地排放间隔物分散液(167)。相反，在不进行排放的待机状态下，间隔物分散液在排放室(121)和输送室(122)这双方中流动，所以间隔物分散液(167)中的间隔物粒子(169)不会下沉。
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公开(公告)号：CN102037552A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200980117984.9
申请日：2009-05-13
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B25B1/00 , B65G49/061 , B65G2249/02
Abstract: 提供一种能够高速运送基板的基板平台。在本发明的基板平台(10)中，将辅助载置台(12a～12d)安装在主载置台(11)上，将下部导轨(131、132)从主载置台(11)上横跨到辅助载置台(12a～12d)上进行配置。若通过上下方向调整装置(6)预先使下部导轨(131、132)的两端向上弯曲，则在辅助载置台(12a～12d)的端部向下弯曲时，下部导轨(131、132)便变得笔直。由于下部导轨(131、132)未分割，因而直线性得到确保，移动板(16)不会发生摇摆，因而能够使基板(5)高速移动。
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公开(公告)号：CN101927610A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010207271.6
申请日：2010-06-17
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: B41J2/21 , G02B5/20 , G02F1/1335
Abstract: 本发明涉及喷出装置。本发明提供一种喷出装置中命中位置与喷出口的对位方法。本发明的喷出装置(10)具有在第一方向能移动的基板移动部(20)、保持多个头(32)的头保持部(30)、移动摄像机(21)、多个固定摄像机(31)。首先，由移动摄像机(21)对头(32)所具有的喷出口(35)进行拍摄，并通过个别头位置修正单元进行各头(32)的相对的对位。接着，由固定摄像机(31)对基板(50)上的多个基板基准点进行拍摄，并以多个基板基准点与第二方向平行的方式，利用基板旋转机构(42)使基板(50)旋转移动。再接着，由头移动机构使头保持部(30)向对位方向仅移动所希望距离。通过以上的顺序，能以基板(50)上的规定的命中位置通过规定的喷出口(35)的正下方位置的方式进行对位。
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公开(公告)号：CN101927600A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010212510.7
申请日：2010-06-22
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明涉及喷出装置及喷出方法。本发明提供喷出装置及喷出方法，其构成为，对沿两个导轨移动基板的基板移动部在水平面上的旋转方向的倾斜进行检测并修正。本发明的喷出装置(10)构成为，具有第一、第二主干涉装置(62a)、(62b)、和第一、第二主镜装置(61a)、(61b)，能测定在基板移动部(20)的水平面上的旋转方向的倾斜。基板移动部(20)的移动中，根据该测定结果分别控制两个导轨上的移动量，使所述倾斜与移动开始前相同。喷出装置(10)构成为，具有第一、第二副干涉装置(62c)、(62d)、和副镜装置(61c)，且能测定基板移动部(20)在x轴方向的位置。基板移动部(20)的移动中，通过根据该测定结果控制头(32)的移动并使头(32)与基板移动部(20)的x轴方向的相对位置关系与移动开始前相同，能使从喷出口(35)喷出的喷出液，命中基板(50)上的各命中位置。
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公开(公告)号：CN101267894B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200680034370.0
申请日：2006-10-26
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B41J2/175 , B41J2/18 , G02F1/1303 , G02F1/13394 , Y10T137/3115 , Y10T137/3127 , Y10T137/85954
Abstract: 本发明提供气泡发生较少的涂布装置。使供给侧的循环罐(31L)的内部空间压力为比大气压低但比缓冲罐(41a-41c)内部空间压力高的压力，供给分散液，使作为回收目的地的循环罐(31R)的内部压力比大气压低，回收喷出室(42a-42c)内部的分散液。分散液不与比大气压高的高压气体接触，因此气体的溶解少，不使用泵，因此没有气体卷入或固体微粒的变形。
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