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公开(公告)号：CN115048803A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202210758164.5
申请日：2022-06-29
申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司
IPC分类号： G06F30/20 , G06F119/08
摘要： 本申请实施例公开了一种温度分布图库的建立方法和晶圆表面温度的获取方法，该温度分布图库的建立方法通过温度试验获取晶圆的表面温度分布情况，并进行晶圆仿真分析以确定使仿真结果与温度试验结果契合的候选仿真参数，改变温度试验的边界条件再次进行温度试验，将候选仿真参数带入改变后的边界条件再次进行仿真分析，以确定一组使仿真结果与温度试验结果契合的契合仿真参数，基于契合仿真参数得到不同边界条件下晶圆的表面温度分布情况，以建立得到温度分布图库。本申请通过该温度分布图库不仅可以更加准确、快速的确定晶圆表面温度分布情况，避免了进行多次的温度试验，还可以降低晶圆表面温度的获取成本。
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公开(公告)号：CN114620533A
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN202210313878.5
申请日：2022-03-28
申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司
IPC分类号： B65H23/26 , B65H23/038 , B65H20/06
摘要： 本发明提供一种张力控制机构及二维材料电解转移装置，涉及二维材料加工领域。张力控制机构包括第一主动辊、第二主动辊和驱动单元；第一主动辊与第二主动辊平行，片材依次绕设于第一主动辊和第二主动辊上；驱动单元与第一主动辊相连，以驱动第一主动辊以第一线速度旋转，驱动单元与第二主动辊相连，以驱动第二主动辊以第二线速度旋转及控制第二主动辊的转矩，且第二线速度大于第一线速度。由于第二线速度大于第一线速度，故位于第一主动辊与第二主动辊之间的片材张紧。驱动单元控制第二主动辊的转矩，即可稳定有效地控制片材上的张力，提升二维材料转移的均匀度，降低因张力波动产生的设备故障率，从而提升二维材料转移的成品率。
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公开(公告)号：CN114717653B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202111597018.0
申请日：2021-12-24
申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司
摘要： 本发明提供一种镀膜设备，涉及化学气相沉积技术领域。镀膜设备包括壳体、机械手腔体、反应室、气路组件和驱动组件；壳体与机械手腔体相连，壳体上接有柔性管道；反应室位于壳体内，反应室朝向机械手腔体的一侧设有进气通道；气路组件穿设于柔性管道内，并与柔性管道密封连接，气路组件位于反应室朝向机械手腔体的一侧；驱动组件与气路组件相连。镀膜设备将气路组件和机械手腔体设置在反应室的同一侧，不影响机械手取放反应室内的物品，在维护时仅需将壳体远离机械手腔体的一端打开，即可取出反应室内部的零件进行打磨清洗，有效地降低了维护的总耗时。此外，机械手不经过副反应产物聚集区，避免疏松的副反应产物掉落在晶圆表面，提高产品良率。
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公开(公告)号：CN114411247B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202210072642.7
申请日：2022-01-21
申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司
摘要： 本申请提供了一种外延反应设备，涉及外延层工艺设备技术领域。外延反应设备包括传送装置及至少一反应装置；反应装置包括高温反应室、供气模组及抽气模组，高温反应室用于为晶圆提供加工时所需的环境条件，供气模组和抽气模组相对设置于高温反应室，供气模组用于供应反应气体，抽气模组用于抽取残留的气体；传送装置设置于高温反应室及与供气模组位于同一侧，传送装置用于取放晶圆。本申请提供的外延反应设备，有效解决了副产物掉落至晶圆的风险问题。另外在进行清洁维护时，省去了传送装置和供气模组分离的工序，简化工序，降低成本，操作可靠，提高了生成效率。
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公开(公告)号：CN115719722A
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202211566727.7
申请日：2022-12-07
申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司
摘要： 本申请公开了一种定位装置、半导体设备及托盘与晶圆的定位方法；该定位装置用于将托盘与晶圆定位；定位装置包括旋转组件；其中，旋转组件用于承托托盘；托盘形成有第一定位部；晶圆形成有第二定位部；旋转组件能够驱动托盘旋转，以使第一定位部与固定的第二定位部对正。本申请提供的定位装置中，设置了旋转组件，旋转组件驱动托盘旋转，以实现托盘的第一定位部的自动角度调节，进而实现了托盘的第一定位部与晶圆的第二定位部的精准对正；其避免了人为手动调节晶圆，提升了半导体设备的自动化程度，不仅保证了晶圆与其托盘的自动精准定位，而且不会对晶圆造成外在的人为污染，有效保证了晶圆表面外延层的生长质量。
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公开(公告)号：CN115233182A
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202210717467.2
申请日：2022-06-23
申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司
IPC分类号： C23C16/32 , C23C16/44 , C23C16/458
摘要： 本发明提供了一种出气管路结构及反应设备，涉及化学气相沉积领域，出气管路结构，连接于内部设有反应室的石英筒上，包括套管、导气流道、升降机构、出气管道及封盖，套管设于石英筒内，且靠近反应室的出气侧设置，导气流道设于套管内，且一端与反应室的连通，升降机构与导气流道相连，升降机构用于带动导气流道进行升降，以切换导气流道与反应室的连通状态，出气管道设于套管上，且与导气流道远离反应室的一端相对，封盖盖设于套管背离反应室的一端。机械手取放晶圆时，导气流道在升降机构的带动下与反应室断开连通，因此不会经过有副反应发生的导气流道，从而降低了因掉落物而造成的晶圆表面的缺陷数量和缺陷密度，提高了晶圆的良率。
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公开(公告)号：CN116988152A
公开(公告)日：2023-11-03
申请号：CN202310981957.8
申请日：2023-08-04
申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司
摘要： 本申请提供了一种反应器表面涂层的制备装置及方法，该制备装置包括石英管和感应线圈，石英管的内腔用于放置待制备涂层的反应器以及供反应气体和载体气体沿石英管的轴向流动，感应线圈沿石英管的轴向可移动地套设于石英管的外部，在石英管的轴向上，感应线圈的长度小于反应器的长度，感应线圈接入交变电流且沿石英管的轴向移动，以在反应器的表面生长出碳化硅涂层。采用本申请的技术方案可以在反应器的表面生长出厚度均匀的碳化硅涂层。
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公开(公告)号：CN116159809A
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202211699392.6
申请日：2022-12-28
申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司
IPC分类号： B08B5/02 , B08B5/04 , H01L21/677
摘要： 本申请提供了一种晶圆传输方法，在一个晶圆传输周期中加入传输室除尘步骤，且除尘步骤是在第一密封阀与第二密封阀均关闭的期间进行的，可以是在晶圆在反应室中反应生长的期间，也可以是在整个传输开始之前，也可以二者兼有，传输室除尘时，向传输室通入惰性气流，将空间内的灰尘杂质吹起来成为悬浮状态，然后再将空间内的气体与杂质的混合物负压抽走，极大程度地降低传输腔内灰尘和杂质的浓度，避免传输腔室内灰尘和杂质的累积，使传输室内始终处于干净的状态。解决了现有技术中传输室中积累的灰尘和杂质影响晶圆表面质量的问题。
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公开(公告)号：CN115505905A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202210751814.3
申请日：2022-06-28
申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/04
摘要： 本发明提供一种机械手柄、机械手组件及镀膜设备，涉及化学气相沉积领域。机械手柄包括遮蔽件和承载件，承载件与遮蔽件相连，承载件位于遮蔽件的下方，承载件具有用于承载晶圆托盘的承载面；其中，遮蔽件的底面与承载面之间的距离大于晶圆托盘的厚度。在机械手柄取放晶圆的过程中，盛装有晶圆的晶圆托盘由承载件承载，同样位于遮蔽件下方。遮蔽件对晶圆形成遮蔽，能够降低副反应产物掉落在晶圆上的可能性，保证晶圆的质量。机械手组件能够快速、高效地调节俯仰角度、水平角度、悬臂长度，且配重件可以改变机械手组件的固有频率，有效减少机械手组件在行进过程中的振动幅度。
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公开(公告)号：CN114717653A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202111597018.0
申请日：2021-12-24
申请人： 深圳市纳设智能装备有限公司
摘要： 本发明提供一种镀膜设备，涉及化学气相沉积技术领域。镀膜设备包括壳体、机械手腔体、反应室、气路组件和驱动组件；壳体与机械手腔体相连，壳体上接有柔性管道；反应室位于壳体内，反应室朝向机械手腔体的一侧设有进气通道；气路组件穿设于柔性管道内，并与柔性管道密封连接，气路组件位于反应室朝向机械手腔体的一侧；驱动组件与气路组件相连。镀膜设备将气路组件和机械手腔体设置在反应室的同一侧，不影响机械手取放反应室内的物品，在维护时仅需将壳体远离机械手腔体的一端打开，即可取出反应室内部的零件进行打磨清洗，有效地降低了维护的总耗时。此外，机械手不经过副反应产物聚集区，避免疏松的副反应产物掉落在晶圆表面，提高产品良率。
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