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发明公开
由钌配合物构成的化学蒸镀用原料及使用该化学蒸镀用原料的化学蒸镀法有权

公开(公告)号：CN113166931A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980079639.4

申请日：2019-12-02

Applicant: 田中贵金属工业株式会社

Inventor： 原田了辅 , 岩井辉久 , 重富利幸 , 大武成行 , 李承俊

IPC: C23C16/18 , H01L21/285 , C07F15/00

Abstract: 本发明涉及在用于通过化学蒸镀法制备钌薄膜或钌化合物薄膜的化学蒸镀用原料中，由下述化学式1表示的钌配合物构成的化学蒸镀用原料。在化学式1中，与钌配位的配位体L1和配位体L2由下述化学式2表示。本发明的化学蒸镀用原料即使不使用包含氧原子的反应气体也能够制造高质量的薄膜。[化学式1]RuL1L2[化学式2](配位体L1、L2的取代基R1～R12各自独立地为氢原子、碳原子数为1以上4以下的直链状或支链状的烷基中的任意一种。)

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