一种钼晶圆片的磨抛方法
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111599673A

    公开(公告)日:2020-08-28

    申请号:CN202010493068.3

    申请日:2020-06-03

    摘要: 本发明提供了一种钼晶圆片的磨抛方法,属于磨抛技术领域。本发明的磨抛方法包括以下步骤:将工装安装到双面研磨装置中,并将待磨抛钼晶圆片置于工装的装夹孔内,采用双面研磨装置对待磨抛钼晶圆片进行双面磨抛;所述工装的厚度小于钼晶圆片的目标厚度。本发明通过控制工装的厚度小于钼晶圆片的目标厚度,能够减少磨抛过程中研磨垫对装夹有钼晶圆片的工装的挤压,从而避免工装变形导致的钼晶圆片加工质量较差的问题。实施例的结果表明,采用本发明的方法磨抛后,得到的钼晶圆片具有高的平整度和低的粗糙度,且无变形情况出现。

    一种低氧含量钼粉的制备方法

    公开(公告)号:CN110576180A

    公开(公告)日:2019-12-17

    申请号:CN201910911271.5

    申请日:2019-09-25

    IPC分类号: B22F3/04 B22F9/04 B22F1/00

    摘要: 本发明涉及一种低氧含量钼粉的制备方法,包括以下步骤:以2-10微米钼粉为原料,通过冷等静压机150-300MPa成型,然后用磨盘机破碎至100-200目并过100目筛,将粉末在1000-1500℃氢化处理,保温1-5h,粉末降温至室温后经氮气气氛气流粉碎并过100目筛,获得平均粒度为100目、氧含量为50-150ppm的钼粉。本发明工艺简单,直接在传统制备技术上延伸工艺,仅需少量投资,产能不受限制;更重要的是,氧含量极低,可把钼粉氧含量从一般的500-700ppm降低至50-150ppm。本发明的效果和益处是在制造成本、产品性能、规模化生产和环境友好等方面都展现出显著的竞争优势和利润空间。

    一种在薄壁防护罩表面制备陶瓷涂层的方法和带有涂层的防护罩

    公开(公告)号:CN115305434A

    公开(公告)日:2022-11-08

    申请号:CN202210959815.7

    申请日:2022-08-11

    IPC分类号: C23C4/134 C23C4/08

    摘要: 本发明提供了一种在薄壁防护罩表面制备陶瓷涂层的方法和带有涂层的防护罩,属于防护涂层技术领域。本发明首先采用46~120目刚玉砂对防护罩进行喷砂粗化,再等离子喷涂镍铬合金打底层和氧化铝面层,刚玉砂的粒径较小,在提高防护罩表面粗糙度的同时不会使其产生明显变形,先喷涂镍铬合金打底层再喷涂氧化铝面层,能够提高氧化铝陶瓷涂层与防护罩的结合强度,使其不易脱落。实施例的结果显示,本发明制备方法制备的陶瓷涂层的结合强度达到15.2MPa,且防护罩无明显形变。

    一种成分均匀的铝钪合金溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111636055A

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN202010511694.0

    申请日:2020-06-08

    摘要: 本发明提供了一种成分均匀的铝钪合金溅射靶材及其制备方法,涉及靶材制备技术领域。本发明在惰性气氛保护下,将纯度≥99.99%的钪锭和铝锭进行机械粉碎和气流粉碎,得到极细铝和极细钪的混合粉末颗粒;极细铝和极细钪的粒径独立为1~50μm,极细钪的质量占混合粉末颗粒质量的1~60%;将混合粉末颗粒在惰性气氛保护下预压成型,再进行真空热压烧结,得到铝钪合金溅射靶材。本发明在惰性保护气氛下采用机械粉碎和气流粉碎的方法获得极细铝和极细钪颗粒,具有纯度高、含氧量低、颗粒尺寸小的特点,以此颗粒来制备铝钪合金溅射靶材,能够提高合金组织均匀性和纯度,得到成分均匀且高纯度的铝钪合金溅射靶材,并且过程简单、成本低。

    一种铝钪合金溅射靶材的制备方法

    公开(公告)号:CN111636054A

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN202010511640.4

    申请日:2020-06-08

    摘要: 本发明提供了一种铝钪合金溅射靶材的制备方法,涉及靶材制备技术领域。本发明提供的铝钪合金溅射靶材的制备方法,包括以下步骤:将铝源和钪源混合,将所得铝钪合金配料进行真空熔炼,得到铝钪熔融合金液;利用惰性气流将所述铝钪熔融合金液进行真空气雾化,得到铝钪合金粉;将所述铝钪合金粉依次进行外包套和热等静压成型,得到铝钪合金溅射靶坯;将所述铝钪合金溅射靶坯进行绑定机加工,得到铝钪合金溅射靶材。本发明利用惰性气流进行真空气雾化,隔绝了铝钪熔融合金液与氧的接触,制备的铝钪合金粉球形度高、氧含量低,晶粒组织、粒度和微观结构均匀;采用热等静压成型得到的铝钪合金溅射靶材致密度高、化学成分均匀、无偏析等缺陷。

    一种细晶粒铝钪合金靶材及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN110093588B

    公开(公告)日:2020-03-27

    申请号:CN201910439319.7

    申请日:2019-05-24

    摘要: 本发明涉及磁控溅射靶材制造技术领域,提供了一种细晶粒铝钪合金靶材及其制备方法。本发明首先将分散剂、粘结剂和水混合,得到预混液;然后将纳米级铝粉、纳米级钪粉和所述预混液混合后进行湿法球磨,得到铝钪合金靶材浆料;将所述铝钪合金靶材浆料注浆成型后,再将得到铝钪合金坯体依次进行脱脂和烧结,即得到本发明的细晶粒铝钪合金靶材。本发明提供的方法步骤简单,成本低,容易操作,所得铝钪合金靶材晶粒细小均匀,且氧含量低、密度大,适合用于微波通信系统相关器件的制备。