-
公开(公告)号：CN113661557B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202080026928.0
申请日：2020-03-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·R·古森 , A·V·G·曼格努斯 , L·库因德尔斯玛
Abstract: 与本文公开一致的实施例包括用于多束带电粒子检查系统的图像增强的方法。与本公开一致的系统和方法包括分析代表第一图像和第二图像的信号信息，其中第一图像与一组束中的第一束相关联，并且第二图像与一组束中的第二束相关联；基于分析，检测第一束和第二束相对于样品的定位的扰动；使用第一束和第二束的信号信息获得样品的图像；并使用识别的扰动，校正样品的图像。
-
公开(公告)号：CN114930486A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202180008297.4
申请日：2021-01-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·V·G·曼格努斯 , M·R·古森 , E·P·斯马克曼 , 任岩
IPC: H01J37/153 , H01J37/28
Abstract: 一种设备，包括像素集和像素控制构件集，该像素集被配置为对接近该像素集的子束进行成形，像素控制构件分别与像素集中的每个像素相关联，每个像素控制构件被布置且被配置为向相关联的像素施加信号以用于对子束进行成形。
-
公开(公告)号：CN114846574A
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202080088489.6
申请日：2020-10-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了对带电粒子束进行轮廓分析的系统和方法。对带电粒子束进行轮廓分析的方法可以包括激活带电粒子源以沿着主光轴生成带电粒子束，通过调节带电粒子束与驻光波之间的相互作用来修改带电粒子束，在与驻光波相互作用之后从修改后的带电粒子束中检测带电粒子，以及基于检测到的带电粒子确定带电粒子束的轮廓。备选地，该方法可以包括：激活光源，通过调节光束与带电粒子束之间的相互作用来修改光束，从修改后的光束中检测光信号，以及基于检测到的光信号确定带电粒子束的特性。
-
公开(公告)号：CN113412529A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN201980091751.X
申请日：2019-12-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/26 , H01J37/04
Abstract: 用于带电粒子检测的装置(1400)和方法可以包括：偏转器系统(1408、1410、1412)，该偏转器系统被配置为引导带电粒子脉冲(1414、1416、1418)；检测器，该检测器具有检测元件，该检测元件被配置为检测带电粒子脉冲；以及控制器，该控制器具有电路系统，该电路系统被配置为：控制偏转器系统以将第一带电粒子脉冲和第二带电粒子脉冲引导到检测元件；分别获得与第一带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第一时间戳和与第一带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第二时间戳、以及与第二带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第三时间戳和与第二带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第四时间戳；以及分别基于第一时间戳和第二时间戳以及第三时间戳和第四时间戳来标识第一出射射束和第二出射射束。
-
公开(公告)号：CN108369389B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201680074454.0
申请日：2016-12-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 光刻设备(LA)在衬底上印制产品特征和至少一个聚焦量测图案(T)。焦点量测图案由反射式掩模版限定，并且使用以倾斜角度(θ)入射的EUV辐射(404)执行印制。聚焦量测图案包括第一特征(422)组的周期性阵列。相邻的第一特征组之间的间隔(S1)远大于每个组内的第一特征的尺寸(CD)。由于倾斜的照射，印制的第一特征作为聚焦误差的函数而变形和/或位移。可以提供第二特征424作为可以看到第一特征的位移的参考。这种变形和/或位移的测量值可以通过测量不对称性作为印制的图案的性质而得到。测量可以在更长的波长下完成，例如在350‑800nm的范围内。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119404280A
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202380048322.0
申请日：2023-07-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/244 , H01J37/28
Abstract: 用于在诸如扫描电子显微镜之类的带电粒子束系统中的增强边缘检测的系统和方法。该方法使用带电粒子到达事件在检测器表面上的入射位置的空间信息来确定何时在样品上检测到边缘特征。诸如带电粒子到达事件分布的质心偏移之类的不对称参数可以被用于确定边缘特征在样品表面上的存在。
-
公开(公告)号：CN119173901A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202380036697.5
申请日：2023-03-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·R·古森
Abstract: 用于改善图像质量的系统、装置和方法。在一些实施例中，方法可以包括：获取样品区域的多个图像；经由相位多样性分析确定：多个焦点相关值，其中多个焦点相关值中的每个焦点相关值与多个图像中的每个图像相关联；多个图像的最大似然估计；以及基于确定的多个焦点相关值和确定的最大似然估计生成该区域的焦点校正图像。
-
公开(公告)号：CN113412529B
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN201980091751.X
申请日：2019-12-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/147 , H01J37/26 , H01J37/04
Abstract: 用于带电粒子检测的装置(1400)和方法可以包括：偏转器系统(1408、1410、1412)，该偏转器系统被配置为引导带电粒子脉冲(1414、1416、1418)；检测器，该检测器具有检测元件，该检测元件被配置为检测带电粒子脉冲；以及控制器，该控制器具有电路系统，该电路系统被配置为：控制偏转器系统以将第一带电粒子脉冲和第二带电粒子脉冲引导到检测元件；分别获得与第一带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第一时间戳和与第一带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第二时间戳、以及与第二带电粒子脉冲何时被偏转器系统引导相关联的第三时间戳和与第二带电粒子脉冲何时被检测元件检测到相关联的第四时间戳；以及分别基于第一时间戳和第二时间戳以及第三时间戳和第四时间戳来标识第一出射射束和第二出射射束。
-
公开(公告)号：CN117203663A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202280030972.8
申请日：2022-02-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G06T5/00
Abstract: 本文公开了在扫描电子显微镜(SEM)图像中降低样本充电效应的方法，方法包括：从参数为第一量的第一电子束扫描获得第一SEM图像；从参数为第二量的第二电子束扫描获得第二SEM图像，第二量不同于第一量；以及基于卷积方程，生成降低了样本充电效应的图像，卷积方程包括第一SEM图像的表示、第二SEM图像的表示、与第一SEM图像相对应的第一点扩散函数以及与第二SEM图像相对应的第二点扩散函数。
-
公开(公告)号：CN114072892A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202080048378.2
申请日：2020-06-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·V·G·曼格努斯 , M·R·古森
Abstract: 在各方面中尤其地公开了一种用于带电粒子检查系统的相位板(210)，该相位板被配置和布置为修改束(600)中带电粒子的局部相位以减少透镜像差的影响。相位板由孔阵列组成，其中孔的电压和/或遮蔽度被单独或群组地控制。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
21
records
(took 0.019 seconds)
