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公开(公告)号：CN105050733A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201380067452.5
申请日：2013-10-22
Applicant: 欧瑞康表面解决方案股份公司 , 特吕巴赫
Abstract: 本发明涉及一种辐照设备，其具有至少一个辐射源，其发出UV辐射以及W辐射，即可见光和/或IR辐射，以及具有运输设备，其用于递送要辐照的衬底，以及至少一个以45°角反射UV辐射以及传送W辐射的选择波长的滤波器，-具有用于吸收IR辐射的装置，该装置在传播方向上布置在未由选择波长的滤波器偏转的W辐射的辐射路径中排列在光学的滤波器之后，其中用于吸收IR辐射的装置也被构造为用于吸收可见光和UV辐射的装置，以及辐照设备包括移动装置，以便将选择波长的滤波器引导到辐射源的辐射路径中以及从该辐射路径中引导出该选择波长的滤波器。
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公开(公告)号：CN105027255A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201380069485.3
申请日：2013-10-29
Applicant: 欧瑞康表面解决方案股份公司 , 特吕巴赫
Inventor： D.伦迪
CPC classification number: H02J1/00 , C23C14/3464 , C23C14/3485 , C23C14/35 , H01J37/3444 , H01J37/3467
Abstract: 本发明涉及一种功率分配器，该功率分配器能够将DC发电机的高的功率连续地并且在不中断DC发电机的功率输出的情况下分配到多于两个的靶上。本发明此外涉及一种溅镀源，该溅镀源包括上述的功率振荡器。
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公开(公告)号：CN105026530A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201380069989.5
申请日：2013-11-11
Applicant: 欧瑞康表面解决方案股份公司 , 特吕巴赫
IPC: C10M103/06 , C01G39/00 , C10M133/06 , C10N10/02 , C10N10/08 , C10N10/10 , C10N10/12 , C10N30/06 , C10N30/08 , C10N40/20 , C10N40/36
CPC classification number: B21D22/02 , C01G39/006 , C08K3/28 , C08K3/38 , C08K2003/382 , C09D1/00 , C10M103/04 , C10M103/06 , C10M2201/053 , C10M2201/061 , C10M2201/0613 , C10M2201/062 , C10N2210/01 , C10N2210/04 , C10N2210/05 , C10N2210/06 , C10N2230/06 , C10N2230/08 , C10N2230/14 , C10N2240/10 , C10N2240/14 , C10N2240/40 , C10N2240/401 , C10N2240/402 , C10N2240/404 , C10N2240/407 , C10N2240/58 , C10N2250/14 , C10N2250/141
Abstract: 本发明涉及用于具有摩擦应力的高温应用的涂层。该涂层包含多层层体系和顶部润滑层，其中该顶部润滑层含有钼作为主要组分。
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公开(公告)号：CN119256112A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202380035472.8
申请日：2023-04-20
Applicant: 欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
Abstract: 一种用于涂覆部件的设备。该设备包括腔室。第一磁控管和第二磁控管设置在腔室内，用于将涂覆材料供应到部件的表面。部件保持器设置在腔室内并且构造成保持部件。第一磁控管和第二磁控管构造成邻近由部件保持器保持的部件的表面定位和定向，并且第一磁控管和第二磁控管构造成相对于部件保持器移动，或者部件保持器构造成在部件的涂覆期间相对于第一磁控管和第二磁控管移动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117730166A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202180085956.4
申请日：2021-12-16
Applicant: 欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
Inventor： S·P·K·亚拉曼齐利
IPC: C23C14/06
Abstract: PVD涂覆方法，优选电弧蒸发PVD涂覆方法，用于制备富铝AlXTi1‑XN基薄膜，该富铝AlXTi1‑XN基薄膜具有基于薄膜中的铝和钛的总量计＞70原子％的铝含量、立方晶体结构和至少部分非柱状的微结构，该至少部分非柱状的微结构具有基于总微结构的体积计＞1体积％的非柱状含量，其中使用陶瓷靶作为用于富铝AlXTi1‑XN基薄膜的材料源。
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公开(公告)号：CN117280438A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202280015213.4
申请日：2022-02-09
Applicant: 欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
Inventor： O·祖格尔
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明涉及一种用来稳定在阴极和阳极之间建立的等离子体束的位置和形状的方法，其中在阴极和阳极之间建立电场，并且其中阴极和阳极之间的最短电场线限定参考线，其中提供至少一个定向电磁线圈，并且该至少一个定向电磁线圈的线圈轴以与参考线非共线的方式定向，使得与线圈开口中的两个线圈开口相交并且平行于线圈轴的直线中的至少一条与参考线相交，并且其中电流被发送通过该至少一个定向电磁线圈，以便建立用于偏转或吸引等离子体束的磁场。
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公开(公告)号：CN116583622A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202180084996.7
申请日：2021-12-14
Applicant: 欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
IPC: C23C16/04
Abstract: 本发明涉及用于生产选择性金刚石涂覆的基材的方法，其中所述选择性金刚石涂覆的基材包含：基材(1)，其具有包含硬质合金材料的表面并具有被选定进行涂覆的基材表面区域(10)和未被选定进行涂覆的基材表面区域(20)；和沉积在被选定进行涂覆的所述基材表面区域(10)上的一个或多个金刚石涂层(30)，其中，所述方法包括以下步骤：第一掩蔽步骤，其在实施所述一个或多个化学预处理步骤之前实施，其中在所述第一掩蔽步骤中，通过施加胶乳掩模(50)来掩蔽未被选定进行涂覆但可能在所述一个或多个化学预处理步骤的实施期间受到化学侵蚀的所述基材表面区域(20)，所述胶乳掩模(50)覆盖这些区域(20)以避免这些区域(20)中的基材材料受到任何化学侵蚀；掩模移除步骤，其在实施所述一个或多个化学预处理步骤之后和在实施所述一个或多个涂覆步骤之前进行，其中完全移除所述胶乳掩模(50)，第二掩蔽步骤，其在实施所述一个或多个涂覆步骤之前实施，其中在所述第二掩蔽步骤中，用一个或多个掩蔽罩(60)覆盖从其上移除所述胶乳掩模(50)并且未被选定进行涂覆但可能在所述一个或多个涂覆步骤的实施期间被一个或多个金刚石涂层(30)涂覆的所述基材表面区域(20)，以避免任何金刚石涂层(30)沉积在这些区域上。
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公开(公告)号：CN107406974B
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201680016515.8
申请日：2016-01-15
Applicant: 欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
Abstract: 本发明涉及一种用于执行真空辅助的涂层方法的涂层腔(1)，尤其PVD或CVD或电弧涂层腔或混合涂层腔。涂层腔(1)包括布置在涂层腔(1)的可调温的腔壁(2)处的隔热板(3,31,32,33)以用于调整在隔热板(3,31,32,33)与可调温的腔壁(2)之间能规定量的热辐射的交换。根据本发明，隔热板(3,31,32,33)包括至少一个直接相邻于腔壁(2)的内侧(21)的可交换的辐射板(31)，其中，辐射板(31)的在朝腔壁(2)的方向上指向的第一辐射面(311)具有可规定的第一热交换系数(ɛD1)，且辐射板(31)的背对腔壁(2)的第二辐射面(312)具有可规定的第二热交换系数(ɛD2)，其中，第一热交换系数(ɛD1)大于第二热交换系数(ɛD2)。此外，本发明涉及一种用于涂层腔的隔热板以及涂层方法。
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