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公开(公告)号:CN111047992B
公开(公告)日:2021-11-12
申请号:CN201911344576.9
申请日:2013-11-29
申请人: 三星显示有限公司
摘要: 公开了一种显示装置。所述显示装置包括显示模块、下模块、上模块和弹性调整层,其中所述显示模块包括柔性衬底、显示面板和封装膜,所述下模块被设置在所述显示模块之下,所述上模块被设置在所述显示模块之上,以及所述弹性调整层被设置在所述显示模块之上或之下以调整所述显示装置弯曲期间中性面的位置,其中,所述弹性调整层的弹性模量小于所述显示模块、所述下模块和所述上模块中的至少一个的弹性模量,以将所述中性面置于所述显示模块内或接近所述显示模块。
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公开(公告)号:CN113394353A
公开(公告)日:2021-09-14
申请号:CN202110660547.4
申请日:2017-07-24
申请人: 三星显示有限公司
摘要: 提供了一种显示装置。所述显示装置包括多个发光区域和与发光区域相邻的外围区域。包封构件设置在显示构件上。包封构件包括第一无机包封层。多个混合包封图案设置在第一无机包封层上。当在平面图中观察时,每个混合包封图案与多个发光区域中的对应的发光区域叠置。第二无机包封层设置在第一无机包封层上。当在剖面图中观察时,每个混合包封图案包括与第一无机包封层相邻的第一段、设置在第一段上的第二段和设置在第二段上的第三段。第一段包括有机材料,第二段包括有机材料和无机材料的混合物,第三段包括无机材料。
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公开(公告)号:CN111047992A
公开(公告)日:2020-04-21
申请号:CN201911344576.9
申请日:2013-11-29
申请人: 三星显示有限公司
摘要: 公开了一种显示装置。所述显示装置包括显示模块、下模块、上模块和弹性调整层,其中所述显示模块包括柔性衬底、显示面板和封装膜,所述下模块被设置在所述显示模块之下,所述上模块被设置在所述显示模块之上,以及所述弹性调整层被设置在所述显示模块之上或之下以调整所述显示装置弯曲期间中性面的位置,其中,所述弹性调整层的弹性模量小于所述显示模块、所述下模块和所述上模块中的至少一个的弹性模量,以将所述中性面置于所述显示模块内或接近所述显示模块。
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公开(公告)号:CN102851648B
公开(公告)日:2016-08-03
申请号:CN201210127050.7
申请日:2012-04-26
申请人: 三星显示有限公司
IPC分类号: C23C16/44 , C23C16/455 , H01L51/56
CPC分类号: C23C16/4412 , C23C16/45551 , C23C16/45563 , H01L51/5253
摘要: 公开了一种原子层沉积设备、一种使用该原子层沉积设备密封有机发光装置的方法以及一种用于沉积的喷嘴组。在一个实施例中,该原子层沉积设备改进了吹扫气体注射喷嘴的结构,从而提高原子层沉积工艺中的吹扫气体的排出效率,这提高了吹扫工艺的速度。因此,当通过使用该原子层沉积设备来实施用于密封有机发光装置的密封工艺时,可以提高沉积速度和密封膜的质量。
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公开(公告)号:CN102877039A
公开(公告)日:2013-01-16
申请号:CN201210102038.0
申请日:2012-04-09
申请人: 三星显示有限公司
IPC分类号: C23C16/455 , C23C16/458 , H05B33/10 , H01L51/56
CPC分类号: C23C16/042 , C23C16/45551 , C23C16/45589 , C23C16/4587 , H01L27/3244 , H01L51/001 , H05B33/10
摘要: 本发明提供了一种能够执行薄膜沉积工艺并提高所形成的薄膜的特性的气相沉积装置、一种气相沉积方法和一种制造有机发光显示装置的方法,所述气相沉积装置包括:室,具有排放开口;架台,设置在所述室内,并包括安装表面,所述基底可以安装在所述安装表面上;注入单元,具有至少一个注入开口,所述至少一个注入开口用于将气体沿与所述基底的其上将形成所述薄膜的表面平行的方向注入到所述室内;引导构件,面向所述基底,以在所述基底和所述引导构件之间提供设定的或预定的空间;驱动单元,用于传送所述架台和所述引导构件。
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公开(公告)号:CN202808936U
公开(公告)日:2013-03-20
申请号:CN201220338482.8
申请日:2012-07-12
申请人: 三星显示有限公司
IPC分类号: C23C16/44 , C23C16/50 , C23C16/455 , C23C16/458
CPC分类号: C23C16/45542 , C23C16/45551 , C23C16/4587
摘要: 一种用于有效地执行沉积工艺以在基底上形成具有改善特性的薄膜的气相沉积装置。气相沉积装置包括:室,包括排放口;架台,设置在室内,并包括将基底设置在其上的安装表面;注入部分,包括至少一个注入开口,通过所述至少一个注入开口沿与基底的将形成有薄膜的表面平行的方向注入气体;等离子体发生器,设置成与基底分开并面向基底。
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