公开(公告)号：CN108205242A

公开(公告)日：2018-06-26

申请号：CN201711381750.8

申请日：2017-12-20

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 永原诚司 ,  友野胜 ,  福永信贵 ,  白石豪介

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/7055 ,  G03F7/16 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/30 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70133 ,  G03F7/70558 ,  H01L21/027 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6715

Abstract: 本发明提供一种在利用多个发光区块形成带状的照射区域来对基片进行光处理时，能够将照射区域的长度方向的照度分布模式容易地高精度地调节到目标照度分布模式的技术。按每个发光区块(42)事先取得将照射区域的长度方向的位置与驱动电流的变化量引起的照度的变化量相对应的照度分布模式分布图的变化量即照度分布响应量，并将其存储到存储部中。而且，设置有运算处理部，其为了使照射区域的当前的长度方向的照度分布模式接近目标照度分布模式，基于发光区块(42)各自当前的电流指令值和存储于各发光区块的上述照度分布模式的变化量，求取(推算)各发光区块的电流指令值。

公开(公告)号：CN211728701U

公开(公告)日：2020-10-23

申请号：CN201921533015.9

申请日：2019-09-16

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 福永信贵 ,  枪光正和 ,  龙秀二郎 ,  藤井克久

IPC: B24B27/00 ,  B24B37/015 ,  B24B37/10 ,  B24B37/30 ,  B24B47/12 ,  B24B49/00 ,  B24B55/00 ,  H01L21/67

Abstract: 本实用新型提供一种能够可靠地避免主轴与主轴壳体相接触而导致产生不良的加工装置。具有：多个卡盘，保持基板；及至少1个加工轴；加工轴包括：加工部，对基板进行加工；主轴，使加工部旋转；主轴马达，驱动主轴，主轴壳体，容纳主轴及主轴马达；及升降机构，使主轴壳体升降。加工装置还具有：冷却流体通路，包括：设于主轴壳体中的冷却流体工作通路、向冷却流体工作通路供给冷却流体的冷却流体供给通路以及自冷却流体工作通路排出冷却流体的冷却流体排出通路；及流量检测器，设于冷却流体通路，检测冷却流体的流量；在利用流量检测器检测到的冷却流体的流量在规定值以下时，主轴马达的旋转停止，从而使主轴的旋转停止。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利