防污染装置、电离腔体及射频离子源

    公开(公告)号:CN114231936A

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN202111320485.9

    申请日:2021-11-09

    摘要: 本申请涉及一种防污染装置、电离腔体及射频离子源,所述防污染装置,应用于射频离子源的电离腔体中,包括支撑部和遮挡板;其中,所述遮挡板平行于所述电离腔体的底面;所述遮挡板上分布设置有一定比例的遮挡部和开口部;所述遮挡板固定于支撑部上;所述遮挡板通过支撑部安装于离所述电离腔体的底部一设定高度位置处,由所述开口部通过电离腔体中气体电离输出的等离子体,以及由所述遮挡部遮挡进入电离腔体中的金属离子在电离腔体的底部镀上连续的金属薄膜;该技术方案,可以避免金属薄膜对射频能量的屏蔽隔离,提升了射频离子源的工作效率,确保电离腔体和射频离子源能够稳定工作。

    电离腔室、射频离子源及其控制方法

    公开(公告)号:CN113846317A

    公开(公告)日:2021-12-28

    申请号:CN202111125541.3

    申请日:2021-09-24

    摘要: 本申请涉及一种电离腔室、射频离子源及其控制方法,所述电离腔室包括:底部和侧壁,所述底部连接供气管道,前端设置为射频离子源的栅网;其中,所述供气管道通入的气体在射频电作用下在所述电离腔室内进行电离产生等离子体;在所述侧壁上还设置有导电材料制成的屏蔽罩,所述屏蔽罩连接电源的正极端;所述屏蔽罩用于在电离腔室中产生由侧壁向中心方向的电场,所述等离子体在所述电场作用下偏移,控制等离子体从所述栅网的出射位置;该技术方案,可以改善等离子体在电离腔室内的分布情况,从而减少等离子体分布不均匀而造成栅网位置刻蚀严重的情况,延长栅网的使用寿命。

    离子源电场结构及离子源装置
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111710580A

    公开(公告)日:2020-09-25

    申请号:CN202010688577.1

    申请日:2020-07-16

    IPC分类号: H01J27/14 H01J27/02

    摘要: 本申请涉及一种离子源电场结构及离子源装置,离子源电场结构包括:包括设于外壳内的阳极部件,在所述阳极部件与外壳之间还设置有一个隔离金属层;所述隔离金属层为与所述阳极部件相对应的环形设计,与所述阳极部件和外壳保持绝缘状态;所述隔离金属层通过所述阳极部件感应一电压的电场,通过该电场对离子源发出的离子束的发射角度进行控制。本申请的技术方案,通过在阳极部件与外壳之间设置的与阳极部件相对应的环形设计的隔离金属层;隔离金属层处于悬浮电位,通过阳极部件感应一电压的电场,通过该电场对离子源发出的离子束的发射角度进行控制;该电场结构可以有效控制离子源的离子束发射角范围,提高了离子源发射离子束的集中效果。

    靶材旋转结构、靶材安装结构以及离子源溅射系统

    公开(公告)号:CN111155062A

    公开(公告)日:2020-05-15

    申请号:CN201911423845.0

    申请日:2019-12-31

    IPC分类号: C23C14/34

    摘要: 本申请涉及一种靶材旋转结构,包括:靶材安装座以及传动机构;所述靶材安装座用于安装靶材;所述传动机构带动所述旋转轴转动以转动靶材;所述靶材安装座通过旋转轴与所述传动机构连接,所述旋转轴内设有冷却水路,以对所述靶材进行冷却。上述靶材旋转结构、靶材安装结构以及离子源溅射系统,通过靶材安装座的旋转轴内设置的冷却水路,实现在冷水散热的同时又保证靶材能正常旋转,使得靶材可以通过水冷这种高效的散热方式来避免温度过高,提升了离子源溅射系统的溅射质量。

    旋转夹具及真空镀膜设备
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111139442A

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN201911418021.4

    申请日:2019-12-31

    IPC分类号: C23C14/50 C23C14/24

    摘要: 本申请涉及一种旋转夹具,用于真空镀膜设备,包括夹具盘、固定螺丝、悬挂活动球以及支撑座;其中,所述夹具盘的中心开设有一贯穿的吊挂通孔,所述支撑座为中空设计;所述支撑座嵌入夹具中心的吊挂通孔内,固定所述夹具盘;所述悬挂活动球开设有一中心通孔;所述固定螺丝穿过将该中心通孔将悬挂活动球固定在主轴的底部;所述支撑座顶部的内径小于所述悬挂活动球的外径,支撑座顶部以活动形式卡扣在活动球上,使得所述夹具盘以活动形式吊挂在主轴底部上;所述主轴转动时通过悬挂活动球与支撑座接触并传递动力,带动所述夹具盘旋转。本申请还提供一种真空镀膜设备,在真空镀膜中,夹具盘可以达到更好的动平衡效果,从而大幅度提升了镀膜效果。

    靶材安装结构及离子源溅射系统

    公开(公告)号:CN110952066B

    公开(公告)日:2024-05-31

    申请号:CN201911417970.0

    申请日:2019-12-31

    IPC分类号: C23C14/34 C23C14/46

    摘要: 本申请涉及一种靶材安装结构,包括:主轴、靶材底座以及固定支撑轴,所述靶材底座上设有多个靶材安装座,各个靶材安装座连接螺杆;主轴与靶材底座连接,带动靶材底座旋转;固定支撑轴通过单向逆止结构分别与靶材底座和螺杆的一端连接,螺杆的另一端通过涡轮与靶材安装座连接;主轴往正向旋转时,靶材底座跟随转动,单向逆止结构使得所述螺杆相对于靶材底座静止,螺杆相对于所述固定支撑轴位移,靶材安装座保持静止;主轴往反向旋转时,靶材底座跟随转动,单向逆止结构使得螺杆相对于固定支撑轴位移,螺杆相对于靶材底座位移,螺杆通过涡轮转动靶材安装座。本申请只需通过一个电机即可实现靶材的选择和旋转,且传动机构简单。

    离子束修形离子源及其启动方法、真空腔室

    公开(公告)号:CN113793791A

    公开(公告)日:2021-12-14

    申请号:CN202111083180.0

    申请日:2021-09-15

    摘要: 本申请涉及一种离子束修形离子源及其启动方法、真空腔室,所述离子源包括:包括设于腔体两侧的阳极和磁场,以及设于腔体前端的栅网;还包括设于腔体后端的中空阴极,以及设置在中空阴极前的电子均匀板;其中,所述中空阴极从腔体后端套入腔体内;所述中空阴极用于向腔体内注入电子束流;所述电子均匀板将所述电子束流均匀分散进入到阳极区域内;所述电子束流中的电子在阳极的电场和磁场的作用下电离,并在所述栅网的电场作用下引出离子束流;采用中空阴极结构为阳极提供离子供体的中空阴极直流源结构,结构轻巧,性能稳定,实现了小束斑、大能量的离子束流输出,并可以控制离子束的能量和停留时间,在离子束修形中具有良好的使用效果。

    等离子体源及其启动方法
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113764252A

    公开(公告)日:2021-12-07

    申请号:CN202111081910.3

    申请日:2021-09-15

    IPC分类号: H01J37/32

    摘要: 本申请涉及一种等离子体源及其启动方法,所述等离子体源包括:射频线圈及其对应的第一电离室,至少一个感应线圈及其对应的第二电离室,以及供气管路;其中,感应线圈串接在射频线圈前端,第一电离室与第二电离室串联连接;供气管路导入气体进入第一电离室,由射频线圈进行电离,未电离的气体进入第二电离室,由感应线圈进行二级电离后,输出等离子体;射频线圈产生磁场对进入第一电离室的气体进行电离,同时感应线圈通过感应射频线圈产生的磁场而产生电感,对进入第二电离室的气体进行电离;该技术方案,实现了多级射频电离效果,极大地提高了电离效率,可以在真空低气压下实现稳定的气体电离,增强了真空沉积过程的有效反应。

    靶材旋转结构、靶材安装结构以及离子源溅射系统

    公开(公告)号:CN111155062B

    公开(公告)日:2021-12-03

    申请号:CN201911423845.0

    申请日:2019-12-31

    IPC分类号: C23C14/34

    摘要: 本申请涉及一种靶材旋转结构,包括:靶材安装座以及传动机构;所述靶材安装座用于安装靶材;所述传动机构带动所述旋转轴转动以转动靶材;所述靶材安装座通过旋转轴与所述传动机构连接,所述旋转轴内设有冷却水路,以对所述靶材进行冷却。上述靶材旋转结构、靶材安装结构以及离子源溅射系统,通过靶材安装座的旋转轴内设置的冷却水路,实现在冷水散热的同时又保证靶材能正常旋转,使得靶材可以通过水冷这种高效的散热方式来避免温度过高,提升了离子源溅射系统的溅射质量。

    离子源水冷结构及离子源
    30.
    实用新型

    公开(公告)号:CN213936110U

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN202120141830.1

    申请日:2021-01-19

    IPC分类号: H01J27/14

    摘要: 本申请涉及一种离子源水冷结构及离子源;所述离子源水冷结构包括:连接气体分配片的第一导热平台,连接离子源的阳极的第二导热平台;所述第一导热平台和第二导热平台通过绝缘隔离部件安装在离子源底座上;所述绝缘隔离部件与所述第一导热平台和第二导热平台的连接部位开设有冷却水路;所述气体分配片将热量传递至第一导热平台,所述离子源的阳极将热量传递至第二导热平台,所述冷却水路对所述第一导热平台和第二导热平台进行散热。该技术方案,实现了气体分配片和阳极独立水冷冷却,明显提升了离子源的水冷冷却效果;在维护时无需拆装冷却水路,降低了离子源维护复杂度。