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公开(公告)号:CN111524927B
公开(公告)日:2023-10-24
申请号:CN202010365235.6
申请日:2020-04-30
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
摘要: 本公开提供了一种驱动基板,包括:柔性基底,包括:显示区和可弯折区;第一导电层,位于柔性基底上,包括:位于显示区的第一导线和至少部分位于可弯折区的连接导线;可挠性绝缘层,包括:位于显示区的第一绝缘图形和位于可弯折区的第二绝缘图形,第一绝缘图形具有第一开口,第一导线位于第一开口内,第二绝缘图形位于连接导线远离柔性基底的一侧,第二绝缘图形覆盖连接导线的部分的厚度等于柔性基底的厚度;第二导电层,位于可挠性绝缘层远离柔性基底的一侧;平坦化层,位于第二导电层远离柔性基底的一侧,平坦化层在可弯折区为镂空结构;其中,第二绝缘图形覆盖连接导线的部分的厚度为d2,柔性基底的厚度为d3,d2≥2um且|d2‑d3|≤3um。
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公开(公告)号:CN116828929A
公开(公告)日:2023-09-29
申请号:CN202310808175.4
申请日:2023-07-03
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
摘要: 本公开提供一种显示面板和显示装置,属于显示技术领域。该显示面板包括依次层叠设置的驱动背板、像素层和薄膜封装层;其中,所述薄膜封装层由依次层叠设置的至少五层无机封装层组成;在所述薄膜封装层中,相邻两层无机封装层的材料不同。该显示面板能够降低薄膜封装层的厚度。
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公开(公告)号:CN115019354A
公开(公告)日:2022-09-06
申请号:CN202210666218.5
申请日:2022-06-13
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: G06V40/13
摘要: 本申请涉及纹路识别模组、显示装置、电子产品及制作方法,其中,纹路识别模组,包括:空腔层、第一电极、压电层和第二电极;其中,压电层具有相背离的第一侧和第二侧,空腔层和第一电极均位于压电层的第一侧,第二电极位于压电层的第二侧;空腔层包括基体和空腔部,至少部分地第一电极与空腔部相对地设置。本申请的技术方案有效地解决了现有技术中的纹路识别模组需要的激励电压较大,功耗较大的问题。
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公开(公告)号:CN113782492A
公开(公告)日:2021-12-10
申请号:CN202111062345.6
申请日:2021-09-10
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L21/768
摘要: 本申请实施例提供了一种基板及其制备方法、电学器件、集成电路板。该基板具有背向设置的第一表面和第二表面,以及开口分别位于第一表面和第二表面的第一通孔;第一通孔用于填充导电材料以形成第一过孔;第一表面和第二表面中的至少一面具有沉槽,沉槽用于容纳第一导电结构。本申请实施例利用平面结构立体化的发明构思,可以实现将电学器件由现有技术采用的平面结构优化为三维堆叠的立体结构,可大幅缩小电学器件的占用面积,进而有利于缩小集成电路板的面积,利于同时兼顾半导体相关产品的功能多样化和体积小型化的需求,还有利于制作该第一导电结构时采用研磨的工艺代替“掩膜‑刻蚀”工艺,可以有效降低工艺成本。
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公开(公告)号:CN111650771A
公开(公告)日:2020-09-11
申请号:CN202010548856.8
申请日:2020-06-16
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: G02F1/1335 , G03F7/00
摘要: 本发明实施例公开了一种阵列基板及其制作方法和显示装置,涉及显示技术领域,以解决在绑定过程中防止对位失败的前提下,减小采用压印工艺制作金属线栅偏振片过程中,压印胶的部分发生脱落的概率。阵列基板具有显示区和绑定区,该阵列基板包括:衬底基板;设置在衬底基板上的金属线栅偏振片,金属线栅偏振片位于绑定区以外的区域,且至少覆盖显示区;设置在衬底基板上的透明图案,透明图案位于金属线栅偏振片以外的区域,且透明图案靠近衬底基板的表面与金属线栅偏振片靠近衬底基板的表面平齐,且透明图案的厚度小于或等于金属线栅偏振片的厚度。
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公开(公告)号:CN118402321A
公开(公告)日:2024-07-26
申请号:CN202280004534.4
申请日:2022-11-24
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
摘要: 一种覆晶薄膜(100)及其制备方法、显示装置。覆晶薄膜(100)包括:柔性衬底(1);以及设置于柔性衬底(1)上的多层布线结构(10),多层布线结构(10)包括:设置于柔性衬底(1)上的第一布线层(11),第一布线层(11)包括第一导电材料;设置于第一布线层(11)靠近柔性衬底(1)一侧的第一绝缘层(IL1);设置于第一绝缘层(IL1)靠近柔性衬底(1)一侧的第二布线层(12),第二布线层(12)包括第二导电材料。覆晶薄膜(100)还包括:至少部分位于第一布线层(11)的多个引脚(111);位于第一绝缘层(IL1)的多个第一过孔(VH1);和位于第二布线层(12)的第二走线(121)和第二走线引出部(122),第二走线(121)和第二走线引出部(122)电连接,多个引脚(111)分别通过多个第一过孔(VH1)与第二走线引出部(122)电连接。
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公开(公告)号:CN113690289B
公开(公告)日:2024-05-14
申请号:CN202110984252.2
申请日:2021-08-25
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H10K59/88 , H10K59/131 , H10K71/00
摘要: 本公开提供了一种显示基板及其制备方法、显示装置。显示基板包括多个像素岛区、多个连接桥区和多个隔离区,所述显示基板包括叠设的发声显示结构层和空腔结构层,所述发声显示结构层包括设置在基底上的发声结构层和设置在所述发声结构层远离所述基底一侧的显示结构层,所述空腔结构层设置在所述基底远离所述显示结构层的一侧;至少一个隔离区的发声结构层和显示结构层上设置有隔离槽。本公开通过在像素岛区之间设置隔离槽,隔离槽可以阻隔在显示基板平面内传播的声波,避免了驻波效应影响屏幕显示和屏幕发生力学问题。
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公开(公告)号:CN113782492B
公开(公告)日:2024-05-07
申请号:CN202111062345.6
申请日:2021-09-10
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: H01L21/768
摘要: 本申请实施例提供了一种基板及其制备方法、电学器件、集成电路板。该基板具有背向设置的第一表面和第二表面,以及开口分别位于第一表面和第二表面的第一通孔;第一通孔用于填充导电材料以形成第一过孔;第一表面和第二表面中的至少一面具有沉槽,沉槽用于容纳第一导电结构。本申请实施例利用平面结构立体化的发明构思,可以实现将电学器件由现有技术采用的平面结构优化为三维堆叠的立体结构,可大幅缩小电学器件的占用面积,进而有利于缩小集成电路板的面积,利于同时兼顾半导体相关产品的功能多样化和体积小型化的需求,还有利于制作该第一导电结构时采用研磨的工艺代替“掩膜‑刻蚀”工艺,可以有效降低工艺成本。
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公开(公告)号:CN117135813A
公开(公告)日:2023-11-28
申请号:CN202311177514.X
申请日:2023-09-12
申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
摘要: 本发明提供一种电路板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,用于在保证较高通道数量和较低的信号走线电阻的情况下,改善有机封装层的漏胶现象成为亟待解决的问题。所述电路板中,第一结合区包括多个第一引脚,第二结合区包括多个第二引脚;电路板还包括多条连接线;连接线包括依次耦接的第一线段、转接线段和第二线段,第一线段与对应的第一引脚耦接,第二线段与对应的第二引脚耦接;多条连接线包括的多个第一线段沿第一方向排列,多条连接线包括的多个第二线段沿第一方向排列,多条连接线包括的多个转接线段沿第二方向排列,第二方向与第一方向相交;转接线段与第一线段异层设置,和/或,转接线段与第二线段异层设置。
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公开(公告)号:CN115718387B
公开(公告)日:2023-11-07
申请号:CN202211502939.9
申请日:2022-11-28
申请人: 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号: G02F1/1335 , G02F1/1362 , G02F1/135 , G02F1/1368 , H10K19/10 , H10K10/46 , H10K10/80 , H10K71/00
摘要: 本发明实施例提供了一种反射型阵列基板及其制作方法、显示装置及其制作方法,通过将光反射结构设置在衬底基板和有机薄膜晶体管阵列层之间,在形成有机薄膜晶体管阵列层之前形成光反射结构,相对于利用像素电极作为光反射层的现有技术,避免了在过厚的平坦化层上进行过孔工艺,并且有机薄膜晶体管阵列层制程工艺所需的温度均低于150℃,该温度下不会破坏光反射结构的结构和性能。因此,本发明实施例降低了反射型LCD制备工艺的难度,且无需对现有制备工艺进行较大改动。并且,本发明实施例提供的反射型阵列基板结合有机薄膜晶体管阵列层制程温度低和光反射结构无需背光、反射率高的特点,实现反射型LCD显示器件,利于视觉保护。
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