一种实现宽幅纳米颗粒束流的团簇束流沉积设备

    公开(公告)号:CN113699493A

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN202111003983.0

    申请日:2021-08-30

    IPC分类号: C23C14/34

    摘要: 本发明公开了一种实现宽幅纳米颗粒束流的团簇束流沉积设备,包括中心溅射靶枪和侧溅射靶枪,所述中心溅射靶枪连接有驱动其旋转的驱动机构;所述中心溅射靶枪上固定套设有中心齿轮,所述中心齿轮啮合有行星齿轮,所述行星齿轮啮合有内齿圆;所述行星齿轮的中部套设有套筒,所述套筒采用圆管型结构。本发明通过设置中心齿轮,中心齿轮啮合有行星齿轮,行星齿轮啮合有内齿圆,中心齿轮转动后会带动行星齿轮沿着内齿圆圆周运动,从而实现侧溅射靶枪圆周溅射与中心溅射靶枪的溅射外圈重合。本发明通过设置溅射靶调节机构,通过带动齿条与齿轮的啮合实现套筒内侧溅射靶枪的偏转,但不宜偏转较大,否则容易造成溅射局部不均匀。

    一种面向SOT-MRAM相关电路的自旋电子工艺设计系统

    公开(公告)号:CN113361223A

    公开(公告)日:2021-09-07

    申请号:CN202110643868.3

    申请日:2021-06-09

    IPC分类号: G06F30/367

    摘要: 本发明的一种面向SOT‑MRAM相关电路的自旋电子工艺设计系统,通过计算机设备实现,所述设计系统包含三种文件SOT‑MTJ单元库、工艺文件和物理验证规则文件;所述SOT‑MTJ单元库包含以下四个文件:SPICE仿真模型veriloga,符号symbol模块,版图layout模块和auCdl模块;本发明的自旋电子工艺设计包囊括了SOT‑MRAM相关电路设计所必需的各种文件,可辅助完成SOT‑MRAM的电路设计和版图设计;设计规则检查和版图与原理图一致性检查文件是根据SOT‑MTJ器件的具体特性和大量的实验数据而编写,具有高精确度和可靠性;本发明的磁性工艺设计包具有很高的灵活性,所采用的编程语言具有通用性,可通过简单的参数修改与不同工艺节点的传统工艺设计包兼容,具有高度的可扩展性和延展性。

    一种多场调控忆阻器及其制备方法

    公开(公告)号:CN112885964A

    公开(公告)日:2021-06-01

    申请号:CN202110120943.8

    申请日:2021-01-28

    IPC分类号: H01L45/00 B82Y30/00 B82Y40/00

    摘要: 本发明的一种多场调控忆阻器及其制备方法,多场调控忆阻器,为三层结构的RRAM,包括顶部电极、介电材料、底部电极、基底;顶部电极与底部电极具有不对称性,以金属作顶部电极,以MXene‑ZnO异质结材料作为介电材料,以氧化铟锡作底部电极,以玻璃片或聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚二甲基硅氧烷作为基底。本发明用MXene‑ZnO为RRAM单元中的存储介质层材料,以旋涂的方式制备MXene‑ZnO层。通过用ZnO纳米颗粒原位修饰MXene纳米片,合成的异质结材料具有良好的绝缘性能、亲水性能和光学性能。本发明可实现基于电场、光场和湿度场调控电导态,同时具有制作工艺简单、大开关比、高存储密度、高稳定性等性能优点,因此具有良好的应用前景,能广泛应用于生活中多个领域。

    基于斯格明子赛道存储器的内存计算系统及方法

    公开(公告)号:CN109902822A

    公开(公告)日:2019-06-18

    申请号:CN201910173095.X

    申请日:2019-03-07

    IPC分类号: G06N3/063 G06K9/00 G06K9/62

    摘要: 本发明的一种基于斯格明子赛道存储器的内存计算系统及方法,可解决二进制卷积神经网络稀疏性问题,并且降低计算功耗。包括SRM-CIM的电路架构,SRM-CIM的电路架构包括行译码器Row Decoder、列译码器Column Decoder、电压驱动Voltage Supplier、存储阵列、感应电路MSC、计数器Bit-counter和模式控制器MC;所述电压驱动Voltage Supplier包括两个NMOS,所述两个NMOS分别和一个选择器MUX连接;所述感应电路MSC利用预充电读出放大器PCSA比较节点ab和节点cd之间的电阻大小;所述存储阵列采用斯格明子赛道存储器构成。本发明利用斯格明子赛道存储器设计内存计算架构,不仅在内存中实现存储,而且可以在内存进行计算操作。本发明有效支持二进制卷积计算,充分利用SRM的移位特性,减少数据内存访问冗余,减少了计算负担,大大降低功耗。

    一种STT-MRAM相关电路的磁性工艺设计方法

    公开(公告)号:CN113515913B

    公开(公告)日:2023-10-24

    申请号:CN202110295434.9

    申请日:2021-03-19

    IPC分类号: G06F30/367 G06F30/398

    摘要: 本发明的一种STT‑MRAM相关电路的磁性工艺设计方法,用于STT‑MRAM相关电路的设计,包括通过计算机工具配置设计系统,所述设计系统包括STT‑MTJ单元库、标准单元库、工艺文件及物理验证规则文件,所述STT‑MTJ单元库包含以下文件:SPICE仿真模型veriloga,符号symbol,版图layout和auCdl;所述标准单元库中包含基于MTJ设计的1T1R基本存储单元、与非门、或非门、读写电路基本单元的电路图、符号和版图,可用于设计过程中直接调用。本发明的磁性工艺设计包囊括了STT‑MRAM相关电路设计所必需的各种文件,可辅助完成STT‑MRAM的全流程设计;本发明的设计规则可根据工艺厂商流片的数据灵活地进行配置,具有高可靠性和实用性;本发明的磁性工艺设计包具有很高的灵活性,可通过简单的修改与不同工艺节点的传统工艺设计包兼容。

    一种纳米团簇束流综合沉积在线测试系统

    公开(公告)号:CN114324083B

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN202210011693.9

    申请日:2022-01-06

    IPC分类号: G01N15/02 G01N15/04

    摘要: 本发明涉及在线测试装置,具体涉及一种纳米团簇束流综合沉积在线测试系统,包括测试腔和第一取样腔,第一取样腔上设有沉积腔接口,第一取样腔内部转动连接有衬底座,第一取样腔上连通有纵向取样座、横向取样座,纵向取样座上设有第二取样腔,测试腔内部设有测试机构,纵向取样座、横向取样座内部均设有传样机构,测试机构包括固定于测试腔内部的第一安装座、第二安装座、第三安装座和反射镜,固定于第一安装座上的激光发射器、第一透镜组,固定于第二安装座上的第二透镜组,以及固定于第三安装座上的CCD传感器;本发明提供的技术方案能够有效克服无法有效将样品送入处于真空状态测试腔中的缺陷。